[發(fā)明專利]一種攝像模組污點(diǎn)測(cè)試方法及裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710351868.X
• 申請(qǐng)日: 2017-05-18
• 公開（公告）號(hào): CN106973290A
• 公開（公告）日: 2017-07-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林挺;黃盛龍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 信利光電股份有限公司
• 主分類號(hào): H04N17/00
• 分類號(hào): H04N17/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11227
• 代理人: 羅滿

1.一種攝像模組污點(diǎn)測(cè)試方法，其特征在于，包括：

對(duì)攝像模組拍攝到的圖像，基于圖像中暗區(qū)域和亮區(qū)域的交界進(jìn)行擬合，將擬合得到的區(qū)域作為有效發(fā)光區(qū)域，并計(jì)算該區(qū)域的圓心和半徑；

在圖像的所述有效發(fā)光區(qū)域內(nèi)測(cè)試污點(diǎn)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像模組污點(diǎn)測(cè)試方法，其特征在于，以球形光源罩住所述攝像模組，以所述攝像模組拍攝圖像。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像模組污點(diǎn)測(cè)試方法，其特征在于，所述在圖像的所述有效發(fā)光區(qū)域內(nèi)測(cè)試污點(diǎn)包括：

遍歷所述有效發(fā)光區(qū)域內(nèi)像素點(diǎn)，計(jì)算像素點(diǎn)與其鄰域內(nèi)像素點(diǎn)的對(duì)比度，當(dāng)在該像素點(diǎn)鄰域內(nèi)對(duì)比度滿足預(yù)設(shè)條件的像素點(diǎn)的數(shù)量達(dá)到第一范圍，則將該像素點(diǎn)確定為污點(diǎn)內(nèi)像素點(diǎn)；

根據(jù)被確定為污點(diǎn)內(nèi)像素點(diǎn)在圖像中捉取出污點(diǎn)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的攝像模組污點(diǎn)測(cè)試方法，其特征在于，所述在所述有效發(fā)光區(qū)域內(nèi)測(cè)試污點(diǎn)還包括：對(duì)圖像的所述有效發(fā)光區(qū)域進(jìn)行預(yù)處理，處理過程包括：

S1：遍歷所述有效發(fā)光區(qū)域內(nèi)像素點(diǎn)，對(duì)于一像素點(diǎn)，求取像素點(diǎn)鄰域內(nèi)的、分別位于該像素點(diǎn)多個(gè)不同方向上的像素點(diǎn)值的平均值；

S2：將各方向的像素點(diǎn)值的平均值求平均，將得到的值作為該像素點(diǎn)值。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的攝像模組污點(diǎn)測(cè)試方法，其特征在于，所述步驟S1具體包括：在像素點(diǎn)鄰域內(nèi)，求取分別位于該像素點(diǎn)至少三個(gè)不同方向上的像素點(diǎn)值的平均值；

所述步驟S2具體包括：對(duì)于該像素點(diǎn)至少三個(gè)不同方向上的像素點(diǎn)值的平均值，排除其中的最大值和最小值，將剩余值求平均，將得到的值作為該像素點(diǎn)值。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的攝像模組污點(diǎn)測(cè)試方法，其特征在于，所述在圖像的所述有效發(fā)光區(qū)域內(nèi)測(cè)試污點(diǎn)包括：根據(jù)形狀和飽滿度對(duì)污點(diǎn)進(jìn)行篩選。

7.一種攝像模組污點(diǎn)測(cè)試裝置，其特征在于，包括：

處理模塊，用于對(duì)攝像模組拍攝到的圖像，基于圖像中暗區(qū)域和亮區(qū)域的交界進(jìn)行擬合，將擬合得到的區(qū)域作為有效發(fā)光區(qū)域，并計(jì)算該區(qū)域的圓心和半徑；

測(cè)試模塊，用于在圖像的所述有效發(fā)光區(qū)域內(nèi)測(cè)試污點(diǎn)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的攝像模組污點(diǎn)測(cè)試裝置，其特征在于，所述測(cè)試模塊包括：

第一計(jì)算子模塊，遍歷所述有效發(fā)光區(qū)域內(nèi)像素點(diǎn)，計(jì)算像素點(diǎn)與其鄰域內(nèi)像素點(diǎn)的對(duì)比度，當(dāng)在該像素點(diǎn)鄰域內(nèi)對(duì)比度滿足預(yù)設(shè)條件的像素點(diǎn)的數(shù)量達(dá)到第一范圍，則將該像素點(diǎn)確定為污點(diǎn)內(nèi)像素點(diǎn)；

第一污點(diǎn)捉取子模塊，用于根據(jù)被確定為污點(diǎn)內(nèi)像素點(diǎn)在圖像中捉取出污點(diǎn)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的攝像模組污點(diǎn)測(cè)試裝置，其特征在于，所述測(cè)試模塊還包括：

預(yù)處理子模塊，用于對(duì)圖像的所述有效發(fā)光區(qū)域進(jìn)行預(yù)處理，處理過程包括：

S1：遍歷所述有效發(fā)光區(qū)域內(nèi)像素點(diǎn)，對(duì)于一像素點(diǎn)，求取像素點(diǎn)鄰域內(nèi)的、分別位于該像素點(diǎn)多個(gè)不同方向上的像素點(diǎn)值的平均值；

S2：將各方向的像素點(diǎn)值的平均值求平均，將得到的值作為該像素點(diǎn)值。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的攝像模組污點(diǎn)測(cè)試裝置，其特征在于，所述步驟S1具體包括：在像素點(diǎn)鄰域內(nèi)，求取分別位于該像素點(diǎn)至少三個(gè)不同方向上的像素點(diǎn)值的平均值；

所述步驟S2具體包括：對(duì)于該像素點(diǎn)至少三個(gè)不同方向上的像素點(diǎn)值的平均值，排除其中的最大值和最小值，將剩余值求平均，將得到的值作為該像素點(diǎn)值。