[發(fā)明專利]X射線分析的操作指導系統(tǒng)、操作指導方法及存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710349100.9 | 申請日： | 2017-05-17 |
| 公開（公告）號： | CN107402223B | 公開（公告）日： | 2020-07-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 姬田章宏 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社理學 |
| 主分類號： | G01N23/00 | 分類號： | G01N23/00 |
| 代理公司： | 北京瑞盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11300 | 代理人： | 劉昕 |
| 地址： | 日本國東京都昭*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 射線 分析 操作 指導 系統(tǒng) 方法 存儲 介質(zhì) | ||
本發(fā)明提供一種能夠使用戶容易理解所選擇的X射線光學系統(tǒng)的測定的X射線分析的操作指導系統(tǒng)、操作指導方法以及操作指導程序。所述X射線分析的操作指導系統(tǒng)具有：測定信息取得單元，其取得試樣的信息和多個X射線測定光學系統(tǒng)部件各自的信息；試樣放大倍率取得單元，其取得放大試樣進行顯示的放大倍率；入射X射線形狀變形單元，其確定在與光軸方向垂直的平面上按照放大倍率放大入射X射線的形狀的入射X射線的變形形狀；散射X射線形狀變形單元，其確定在與光軸方向垂直的平面上按照放大倍率放大散射X射線的形狀的散射X射線的變形形狀；以及X射線測定光學系統(tǒng)建模單元，其對按照放大倍率放大試樣的形狀的試樣的變形形狀、入射X射線的變形形狀以及散射X射線的變形形狀進行建模。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種X射線分析的操作指導系統(tǒng)、操作指導方法及操作指導程序，尤其涉及一種對用戶進行的指導功能。
背景技術(shù)
近年，隨著X射線分析裝置的發(fā)展，出于各種分析的目的，多樣的用戶會利用X射線分析裝置。X射線分析裝置已經(jīng)不僅只是一部分熟練用戶利用，而對于不熟悉X射線分析裝置的用戶利用的機會也正在逐漸增加。
現(xiàn)有技術(shù)文獻
專利文獻
專利文獻1：日本特許第3353496號
專利文獻2：日本特開2013‐137297號公報
專利文獻3：日本特開2013‐137298號公報
發(fā)明內(nèi)容
在使用X射線分析裝置進行測定時，優(yōu)選用戶針對作為分析對象的試樣，選擇適當?shù)牟考M裝測定光學系統(tǒng)，在適當?shù)目刂茥l件下，對試樣進行測定，而對于不熟悉X射線分析裝置的用戶，則難以通過自己的判斷來確定這些內(nèi)容。
在日本特許第3353496號中，公開一種分析裝置，其具有根據(jù)對各種分析處理分別所需的數(shù)據(jù)的設(shè)定步驟進行總結(jié)的信息，能夠通過簡單的操作設(shè)定各種分析處理所需的設(shè)定數(shù)據(jù)的設(shè)定單元。
在日本特開2013‐137297號公報和日本特開2013‐137298號公報中，公開一種具有能夠?qū)崿F(xiàn)多種測定手法的功能的X射線分析裝置，其能夠有效地活用這些測定功能。
然而，與可見光的光學系統(tǒng)不同，在X射線的光學系統(tǒng)中，用戶無法識別X射線是如何進行傳播的。并且，相對于X射線光學系統(tǒng)的尺寸，通常試樣的尺寸小，X射線的截面尺寸也小。當選擇一種X射線光學系統(tǒng)時，即使操作指導系統(tǒng)顯示測定試樣的狀態(tài)，用戶也難以理解照射試樣的入射X射線是如何照射試樣的，檢測器是如何檢測出由試樣產(chǎn)生的散射X射線的。
本發(fā)明是鑒于上述問題而做出的，本發(fā)明的目的在于，提供一種能夠使用戶容易理解所選擇的X射線光學系統(tǒng)的測定的X射線分析的操作指導系統(tǒng)、操作指導方法及操作指導程序。
(1)為了解決上述問題，本發(fā)明的X射線分析的操作指導系統(tǒng)具有：
測定信息取得單元，其取得試樣的信息和對所述試樣進行X射線分析的多個X射線測定光學系統(tǒng)部件各自的信息；試樣放大倍率取得單元，其取得對所述試樣進行放大顯示的放大倍率；入射X射線形狀變形單元，其確定在使用所述多個X射線測定光學系統(tǒng)部件對所述試樣進行測定時入射X射線的變形形狀；散射X射線形狀變形單元，其確定在使用所述多個X射線測定光學系統(tǒng)部件對所述試樣進行測定時散射X射線的變形形狀；以及X射線測定光學系統(tǒng)建模單元，其對按照所述放大倍率放大所述試樣形狀的所述試樣的變形形狀、所述入射X射線的變形形狀以及所述散射X射線的變形形狀進行建模，其中，所述入射X射線的變形形狀是在與照射所述試樣的入射X射線的入射光軸方向垂直的平面上，將所述入射X射線的形狀按照所述放大倍率放大的形狀，所述散射X射線的變形形狀是在與由所述試樣產(chǎn)生并被檢測的散射X射線的散射光軸方向垂直的平面上，將所述散射X射線的形狀按照所述放大倍率放大的形狀。
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