[發明專利]X射線分析的操作指導系統、操作指導方法及存儲介質

有效

• 申請號: 201710349100.9
• 申請日: 2017-05-17
• 公開（公告）號: CN107402223B
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 姬田章宏
• 申請（專利權）人: 株式會社理學
• 主分類號: G01N23/00
• 分類號: G01N23/00
• 代理公司: 北京瑞盟知識產權代理有限公司 11300
• 代理人: 劉昕

1.一種X射線分析的操作指導系統，其特征在于，具有：

測定信息取得單元，其取得試樣的信息和對所述試樣進行X射線分析的多個X射線測定光學系統部件各自的信息；

試樣放大倍率取得單元，其取得對所述試樣進行放大顯示的放大倍率；

入射X射線形狀變形單元，其確定在使用所述多個X射線測定光學系統部件對所述試樣進行測定時入射X射線的變形形狀；

散射X射線形狀變形單元，其確定在使用所述多個X射線測定光學系統部件對所述試樣進行測定時散射X射線的變形形狀；以及

X射線測定光學系統建模單元，其對按照所述放大倍率放大所述試樣形狀的所述試樣的變形形狀、所述入射X射線的變形形狀以及所述散射X射線的變形形狀進行建模，其中，

所述入射X射線的變形形狀是在與照射所述試樣的入射X射線的入射光軸方向垂直的平面上，將所述入射X射線的形狀按照所述放大倍率放大的形狀，

所述散射X射線的變形形狀是在與由所述試樣產生并被檢測的散射X射線的散射光軸方向垂直的平面上，將所述散射X射線的形狀按照所述放大倍率放大的形狀。

2.根據權利要求1所述的X射線分析的操作指導系統，其特征在于，進一步具有：

傳播X射線形狀確定單元，其確定根據所述測定信息取得單元取得的所述試樣的信息和所述多個X射線測定光學系統部件的信息，使用所述多個X射線測定光學系統部件對所述試樣進行測定時，照射所述試樣的入射X射線的形狀和由所述試樣產生并被檢測的散射X射線的形狀，

所述入射X射線形狀變形單元在與所述入射X射線的入射光軸方向垂直的平面上，按照所述放大倍率放大由所述傳播X射線形狀確定單元確定的所述入射X射線的形狀，確定所述入射X射線的變形形狀，

所述散射X射線形狀變形單元在與所述散射X射線的散射光軸方向垂直的平面上，按照所述放大倍率放大由所述傳播X射線形狀確定單元確定的所述散射X射線的形狀，確定所述散射X射線的變形形狀。

3.根據權利要求1或2所述的X射線分析的操作指導系統，其特征在于，

所述多個X射線測定光學系統部件進一步包括：第一入射側光學部件，其相對于所述試樣位于入射側且最靠近所述試樣配置；以及第一散射側光學部件，其相對于所述試樣位于散射側且最靠近所述試樣配置，

所述X射線分析的操作指導系統進一步具有：第一入射側光學部件形狀變形單元，其確定在與所述入射X射線的入射光軸方向垂直的平面上，按照所述放大倍率放大所述第一入射側光學部件的形狀的所述第一入射側光學部件的變形形狀；以及

第一散射側光學部件形狀變形單元，其確定在與所述散射X射線的散射光軸方向垂直的平面上，按照所述放大倍率放大所述第一散射側光學部件的形狀的所述第一散射側光學部件的變形形狀，

所述X射線測定光學系統建模單元進一步對所述第一入射側光學部件的變形形狀和所述第一散射側光學部件的變形形狀進行建模。

4.根據權利要求1所述的X射線分析的操作指導系統，其特征在于，進一步具有：

光學部件形狀變形單元，其確定在與對所述多個X射線測定光學系統部件分別進行傳播的X射線的光軸方向垂直的平面上，按照所述放大倍率放大該X射線光學系統部件各自形狀的所述多個X射線測定光學系統部件的變形形狀，

所述入射X射線形狀變形單元根據所述測定信息取得單元取得的所述試樣的信息和所述光學部件形狀變形單元確定的所述多個X射線測定光學系統部件的變形形狀，確定所述入射X射線的變形形狀，

所述散射X射線形狀變形單元根據所述測定信息取得單元取得的所述試樣的信息和所述光學部件形狀變形單元確定的所述多個X射線測定光學系統部件的變形形狀，確定所述散射X射線的變形形狀。

5.根據權利要求1所述的X射線分析的操作指導系統，其特征在于，

所述入射X射線形狀變形單元在所述入射X射線的入射光軸方向上，維持所述入射X射線的形狀，

所述散射X射線形狀變形單元在所述散射X射線的散射光軸方向上，維持所述散射X射線的形狀。