[發明專利]一種金屬孔可控制造方法在審
| 申請號： | 201710344530.1 | 申請日： | 2017-05-16 |
| 公開（公告）號： | CN107140600A | 公開（公告）日： | 2017-09-08 |
| 發明（設計）人： | 袁志山;王成勇 | 申請（專利權）人： | 廣東工業大學 |
| 主分類號： | B81C1/00 | 分類號： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 惠州市超越知識產權代理事務所(普通合伙)44349 | 代理人： | 魯慧波 |
| 地址： | 516000 廣*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 金屬 可控 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種金屬孔可控制造方法，其特征在于，所述制作方法包括以下步驟：
1)提供一基板；
2)通過沉積方法在所述基板的表面沉積有金屬薄膜；
3)設定金屬孔區域；
4)利用離子束輻照已經設定的金屬孔區域中的金屬薄膜，刻蝕出金屬孔。
2.根據權利要求1所述的金屬孔可控制造方法，其特征在于：所述步驟1)中基板為陶瓷、砷化鎵、碳化硅、氮化硅、氧化鋁、氧化硅、硅、鍺或鍺硅的其中一種。
3.根據權利要求1所述的金屬孔可控制造方法，其特征在于：所述步驟2)中沉積金屬薄膜的工藝為物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)或者是電鍍的一種，沉積的金屬為金、銅、鉑、鋁、鈦、鎢、鎳、鉻、錫、鋅的其中一種或多種組合物構成的多層金屬薄膜，所述金屬薄膜的厚度為5～800nm。
4.根據權利要求1所述的金屬孔可控制造方法，其特征在于：所述步驟3)設定金屬孔區域，通過光刻暴露出金屬納米孔區域，區域面積為100nm2～1cm2，金屬孔區域為不同尺寸范圍的納米、微米圖形組成的圖形，或者是多個圖形組成圖形陣列。
5.根據權利要求1所述的金屬孔可控制造方法，其特征在于：所述步驟4)離子束輻照已經設定的金屬孔區域中的金屬薄膜，在離子束刻蝕金屬的同時，由去濕潤效應出現金屬孔，所述金屬孔的直徑范圍為1nm～50μm。
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