[發明專利]一種黃曲霉毒素限進介質-分子印跡分離介質的制備方法及應用

有效

• 申請號: 201710337004.2
• 申請日: 2017-05-14
• 公開（公告）號: CN107216422B
• 公開（公告）日: 2019-06-11
• 發明（設計）人: 何娟;許紅;宋立新;陳寧寧;李媛媛;魏宏亮
• 申請（專利權）人: 河南工業大學
• 主分類號: C08F222/14
• 分類號: C08F222/14;C08F220/06;C08F220/32;C08F220/56;C08F8/12;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30
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1.復雜基質中對黃曲霉毒素具有特異性分子識別能力的印跡聚合物的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

（1）黃曲霉毒素替代分子印跡聚合物的合成：在聚乙烯醇溶液中加入替代模板、功能單體、能水解的單體、交聯劑、引發劑，加熱攪拌反應，結束后用水洗去聚乙烯醇，得到印跡聚合物；所述的功能單體為甲基丙烯酸甲酯，甲基丙烯酸丁酯，丙烯酸，甲基丙烯酸，丙烯酰胺，氯甲基苯乙烯；所述的能水解的單體為甲基丙烯酸縮水甘油酯，丙烯酸縮水甘油酯；所述的交聯劑為乙二醇二甲醇丙烯酸酯，二乙烯基苯；所述的引發劑為偶氮二異丁腈，過氧化苯酰；

（2）限進介質-分子印跡聚合物的合成：把（1）制得的印跡聚合物加入到酸的水溶液中水解，反應結束后，抽濾，洗滌，晾干，得到限進介質-分子印跡聚合物；所述酸的水溶液中酸與水的體積比為1:9；

（3）模板分子的洗脫：把（2）制得的聚合物在索氏提取器用有機溶劑-酸的混合物抽提，洗去模板分子，直到不能檢測出模板分子為止，再用有機溶劑洗去殘留的酸，真空干燥至恒重，得到可以在復雜基質體系中對黃曲霉毒素有選擇性吸附的限進介質-印跡聚合物；

步驟（1）中所述的替代模板、功能單體、能水解的單體的摩爾比例為1: 4～9: 3～8；步驟（1）中所述的模板分子和交聯劑的摩爾比例為1:10～100。

2.如權利要求1所述的復雜基質中對黃曲霉毒素具有特異性分子識別能力的印跡聚合物的制備方法，其特征在于，步驟（1）中所述的引發劑的加入量為功能單體質量的0.5%～5%，反應溫度為50℃～100℃，反應時間為2小時～48小時。

3.如權利要求1所述的復雜基質中對黃曲霉毒素具有特異性分子識別能力的印跡聚合物的制備方法，其特征在于，步驟（2）中，所述的酸為高氯酸。

4.如權利要求1所述的復雜基質中對黃曲霉毒素具有特異性分子識別能力的印跡聚合物的制備方法，其特征在于，步驟（3）中，所述的有機溶劑為甲醇，乙醇，乙腈，所述的酸為乙酸，印跡聚合物用有機溶劑和酸混合液去除模板分子，處理后得到對黃曲霉毒素有選擇性吸附的限進介質-印跡聚合物。