[發(fā)明專利]一種注塑機(jī)螺桿表面強(qiáng)化方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710336293.4
• 申請(qǐng)日: 2017-05-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107267934B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-03-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鮑明東;徐金富;劉維
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 寧波工程學(xué)院;寧波市海達(dá)塑料機(jī)械有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/32
• 分類號(hào): C23C14/32;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/58
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• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種注塑機(jī)螺桿表面強(qiáng)化方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1：去除注塑機(jī)螺桿(5)表面的氧化層；

步驟2：在步驟1之后，將注塑機(jī)螺桿(5)放到超聲波中清洗；

步驟3：將清洗后的注塑機(jī)螺桿(5)放到真空干燥箱中干燥；

步驟4：將干燥后的注塑機(jī)螺桿(5)放入電弧離子鍍膜設(shè)備中，鍍制Ti/TiN/TiAlN多層復(fù)合薄膜；

步驟5：在步驟4之后，使用等離子體轟擊注塑機(jī)螺桿(5)表面上的Ti/TiN/TiAlN多層復(fù)合薄膜。

2.按照權(quán)利要求1所述的一種注塑機(jī)螺桿表面強(qiáng)化方法，其特征在于，所述電弧離子鍍膜設(shè)備包括腔體(6)，所述腔體(6)上連接有氮?dú)夤?yīng)系統(tǒng)和氬氣供應(yīng)系統(tǒng)，所述腔體(6)的側(cè)壁上均勻的固定有第一靶材(1)、第二靶材(2)、第三靶材(3)和第四靶材(4)，所述第一靶材(1)和第三靶材(3)相對(duì)設(shè)置并且材料均為Ti，所述第二靶材(2)和第四靶材(4)相對(duì)設(shè)置并且材料均為Al，所述腔體(6)的底部設(shè)有用于放置注塑機(jī)螺桿(5)的試樣臺(tái)(7)；所述Ti/TiN/TiAlN多層復(fù)合薄膜由注塑機(jī)螺桿(5)表面向外依次包括Ti薄膜層(8)、TiN過(guò)渡層(9)、TiN薄膜層(10)、TiAlN過(guò)渡層(11)和TiAlN薄膜層(12)；所述鍍制Ti/TiN/TiAlN多層復(fù)合薄膜具體包括：

S1)等離子體轟擊注塑機(jī)螺桿(5)表面；即：開(kāi)啟第一靶材(1)、第二靶材(2)、第三靶材(3)和第四靶材(4)，氮?dú)夤?yīng)系統(tǒng)處于關(guān)閉狀態(tài)，氬氣供應(yīng)系統(tǒng)供應(yīng)氬氣的流量為25～30sccm；設(shè)置第一靶材(1)、第二靶材(2)、第三靶材(3)和第四靶材(4)的電流參數(shù)為0.3～0.5A，注塑機(jī)螺桿(5)上的負(fù)偏壓為500V～600V，時(shí)間為20～30min；

S2)鍍制Ti薄膜層(8)；即：氮?dú)夤?yīng)系統(tǒng)處于關(guān)閉狀態(tài)，氬氣供應(yīng)系統(tǒng)供應(yīng)氬氣的流量為25～30sccm；設(shè)置第一靶材(1)和第三靶材(3)的電流參數(shù)為4～6A，第二靶材(2)和第四靶材(4)的電流參數(shù)為0.3～0.5A，注塑機(jī)螺桿(5)上的負(fù)偏壓為50V～80V，時(shí)間為30～40min；

S3)等離子體轟擊Ti薄膜層(8)表面；即：氮?dú)夤?yīng)系統(tǒng)處于關(guān)閉狀態(tài)，氬氣供應(yīng)系統(tǒng)供應(yīng)氬氣的流量為25～30sccm；設(shè)置第一靶材(1)、第二靶材(2)、第三靶材(3)和第四靶材(4)的電流參數(shù)為0.3～0.5A，注塑機(jī)螺桿(5)上的負(fù)偏壓為500V～600V，時(shí)間為10～20min；

S4)鍍制TiN過(guò)渡層(9)；即：氬氣供應(yīng)系統(tǒng)供應(yīng)氬氣的流量為25～30sccm；設(shè)置第一靶材(1)和第三靶材(3)的電流參數(shù)為4～6A，第二靶材(2)和第四靶材(4)的電流參數(shù)為0.3～0.5A，注塑機(jī)螺桿(5)上的負(fù)偏壓為50V～80V，打開(kāi)氮?dú)夤?yīng)系統(tǒng)，使氮?dú)饬髁恳?～6sccm/min的速度增加，時(shí)間為5～6min；

S5)鍍制TiN薄膜層(10)；即：氬氣供應(yīng)系統(tǒng)供應(yīng)氬氣的流量為25～30sccm，氮?dú)夤?yīng)系統(tǒng)供應(yīng)氮?dú)獾牧髁繛?5～30sccm，設(shè)置第一靶材(1)和第三靶材(3)的電流參數(shù)為4～6A，設(shè)置第二靶材(2)和第四靶材(4)的電流參數(shù)為0.3～0.5A，注塑機(jī)螺桿(5)上的負(fù)偏壓為50V～80V，時(shí)間為60～80min；

S6)等離子體轟擊TiN薄膜層(10)；即：氮?dú)夤?yīng)系統(tǒng)處于關(guān)閉狀態(tài)，氬氣供應(yīng)系統(tǒng)供應(yīng)氬氣的流量為25～30sccm；設(shè)置第一靶材(1)、第二靶材(2)、第三靶材(3)和第四靶材(4)的電流參數(shù)為0.3～0.5A，注塑機(jī)螺桿(5)上的負(fù)偏壓為500V～600V，時(shí)間為10～20min；

S7)鍍制TiAlN過(guò)渡層(11)；即：氬氣供應(yīng)系統(tǒng)供應(yīng)氬氣的流量為25～30sccm，氮?dú)夤?yīng)系統(tǒng)供應(yīng)氮?dú)獾牧髁繛?5～30sccm，設(shè)置第一靶材(1)和第三靶材(3)的電流參數(shù)為4～6A，將第二靶材(2)和第四靶材(4)的電流設(shè)置為以0.5～0.8A/min的速度增加，注塑機(jī)螺桿(5)上的負(fù)偏壓為50V～80V，時(shí)間為5～6min；

S8)鍍制TiAlN薄膜層(12)；即：氬氣供應(yīng)系統(tǒng)供應(yīng)氬氣的流量為25～30sccm，氮?dú)夤?yīng)系統(tǒng)供應(yīng)氮?dú)獾牧髁繛?5～30sccm，設(shè)置第一靶材(1)和第三靶材(3)的電流參數(shù)為4～6A，設(shè)置第二靶材(2)和第四靶材(4)的電流參數(shù)為3～4A，注塑機(jī)螺桿(5)上的負(fù)偏壓為50V～80V，時(shí)間為60～80min。