[發明專利]像素界定層及其制造方法、顯示基板、顯示裝置

在審

• 申請號: 201710330762.1
• 申請日: 2017-05-11
• 公開（公告）號: CN107123752A
• 公開（公告）日: 2017-09-01
• 發明（設計）人: 宋瑩瑩
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司11138
• 代理人: 滕一斌

技術領域

本發明涉及顯示領域，特別涉及一種像素界定層及其制造方法、顯示基板、顯示裝置。

背景技術

有機發光二極管(英文：Organic Light-Emitting Diode；簡稱：OLED)顯示面板是由玻璃基板上依次形成陽極、空穴注入層、空穴傳輸層、有機材料膜層、電子傳輸層、電子注入層和陰極等制作完成。其中，有機材料膜層可以使用噴墨打印技術制造而成。在使用噴墨打印技術制造有機材料膜層時，需要先在玻璃基板上形成像素界定層，然后將有機發光材料的溶液噴墨到形成有像素界定層的玻璃基板上，以形成有機材料膜層。

相關技術中，像素界定層由含氟樹脂材料制成，并在制造過程中對該含氟樹脂材料進行烘烤處理，在該處理過程中，含氟樹脂材料中的含氟成分上移至像素界定層的上部，形成具有一定厚度的含氟層，該含氟層具有較好的疏液性，含氟層以下的像素界定層的下部具有較好的親液性。噴墨打印時，親液性的像素界定層下部對溶解有有機發光材料的溶液有吸引作用，使像素區域內形成厚度均一的有機材料膜層，疏液性的像素界定層上部對溶解有有機發光材料的溶液有排斥作用，以避免溶液被噴墨到相鄰像素區域中。

但是，含氟成分只上移至像素界定層的上部，沒有或者很少上移到像素界定層的側表面，因此，噴墨時溶液在該側表面上會有一定程度的攀爬，從而影響溶液在像素區域內的成膜均一性。

發明內容

為了解決相關技術中有機發光材料的溶液在像素界定層斜面上的攀爬影響溶液在像素區域內的成膜均一性的問題，本發明實施例提供了一種像素界定層及其制造方法、顯示基板、顯示裝置。所述技術方案如下：

第一方面，提供了一種像素界定層的制造方法，所述方法包括：

提供襯底基板；

在所述襯底基板上形成親液層、覆蓋所述親液層的上表面的疏液層和覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層；

去除覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層，使所述親液層的側表面裸露；

其中，所述親液層對溶解有有機電致發光材料的溶液具有吸引性，所述疏液層對溶解有有機電致發光材料的溶液具有排斥性。

可選地，所述疏液層包括所述表面覆蓋層，

所述在所述襯底基板上形成親液層、覆蓋所述親液層的上表面的疏液層和覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層，包括：

在所述襯底基板上形成親液材料層；

對所述親液材料層裸露的表層進行疏液處理，得到所述親液層和覆蓋所述親液層上表面和側表面的疏液層。

可選地，所述對所述親液材料層裸露的表層進行疏液處理，包括：

在所述親液材料層裸露的表層上形成反應涂層，使所述反應涂層與所述親液材料層反應，以得到所述疏液層。

可選地，所述疏液層包括所述表面覆蓋層，

所述在所述襯底基板上形成親液層、覆蓋所述親液層的上表面的疏液層和覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層，包括：

在所述襯底基板上依次形成第一親液材料層和覆蓋所述第一親液材料層上表面和側表面的第二親液材料層，所述第一親液材料層和所述第二親液材料層的材料不同；

在所述第二親液材料層裸露的表層形成用于與所述第二親液材料層反應的反應涂層，使所述反應涂層與所述第二親液材料層的表層反應；

其中，所述第一親液材料層和未與所述反應涂層反應的所述第二親液材料層的底層構成所述親液層，與所述反應涂層反應后的所述第二親液材料層的表層為所述疏液層。

可選地，所述在所述襯底基板上形成親液層、覆蓋所述親液層的上表面的疏液層和覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層，包括：

在所述襯底基板上依次形成第一親液材料層和覆蓋所述第一親液材料層上表面的第二親液材料層，所述第一親液材料層和所述第二親液材料層的材料不同；

在所述第一親液材料層的側表面形成所述表面覆蓋層；

在所述第二親液材料層裸露的表層形成用于與所述第二親液材料層反應的反應涂層，使所述反應涂層與所述第二親液材料層的表層反應；

其中，所述第一親液材料層和未與所述反應涂層反應的所述第二親液材料層的底層構成所述親液層，與所述反應涂層反應后的所述第二親液材料層的表層為所述疏液層。

可選地，所述第二親液材料層由二氧化硅制成，所述反應涂層由氟化氫制成。

可選地，所述第二親液材料層的厚度為0.1至0.5微米。

可選地，所述第一親液材料層由聚酰亞胺制成。

可選地，所述裸露的側表面的高度為0.5微米。