[發明專利]像素界定層及其制造方法、顯示基板、顯示裝置

在審

• 申請號: 201710330762.1
• 申請日: 2017-05-11
• 公開（公告）號: CN107123752A
• 公開（公告）日: 2017-09-01
• 發明（設計）人: 宋瑩瑩
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司11138
• 代理人: 滕一斌

1.一種像素界定層的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

提供襯底基板；

在所述襯底基板上形成親液層、覆蓋所述親液層的上表面的疏液層和覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層；

去除覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層，使所述親液層的側表面裸露；

其中，所述親液層對溶解有有機電致發光材料的溶液具有吸引性，所述疏液層對溶解有有機電致發光材料的溶液具有排斥性。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述疏液層包括所述表面覆蓋層，

所述在所述襯底基板上形成親液層、覆蓋所述親液層的上表面的疏液層和覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層，包括：

在所述襯底基板上形成親液材料層；

對所述親液材料層裸露的表層進行疏液處理，得到所述親液層和覆蓋所述親液層上表面和側表面的疏液層。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述對所述親液材料層裸露的表層進行疏液處理，包括：

在所述親液材料層裸露的表層上形成反應涂層，使所述反應涂層與所述親液材料層反應，以得到所述疏液層。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述疏液層包括所述表面覆蓋層，

所述在所述襯底基板上形成親液層、覆蓋所述親液層的上表面的疏液層和覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層，包括：

在所述襯底基板上依次形成第一親液材料層和覆蓋所述第一親液材料層上表面和側表面的第二親液材料層，所述第一親液材料層和所述第二親液材料層的材料不同；

在所述第二親液材料層裸露的表層形成用于與所述第二親液材料層反應的反應涂層，使所述反應涂層與所述第二親液材料層的表層反應；

其中，所述第一親液材料層和未與所述反應涂層反應的所述第二親液材料層的底層構成所述親液層，與所述反應涂層反應后的所述第二親液材料層的表層為所述疏液層。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述襯底基板上形成親液層、覆蓋所述親液層的上表面的疏液層和覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層，包括：

在所述襯底基板上依次形成第一親液材料層和覆蓋所述第一親液材料層上表面的第二親液材料層，所述第一親液材料層和所述第二親液材料層的材料不同；

在所述第一親液材料層的側表面形成所述表面覆蓋層；

在所述第二親液材料層裸露的表層形成用于與所述第二親液材料層反應的反應涂層，使所述反應涂層與所述第二親液材料層的表層反應；

其中，所述第一親液材料層和未與所述反應涂層反應的所述第二親液材料層的底層構成所述親液層，與所述反應涂層反應后的所述第二親液材料層的表層為所述疏液層。

6.根據權利要求4或5所述的方法，其特征在于，所述第二親液材料層由二氧化硅制成，所述反應涂層由氟化氫制成。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述第二親液材料層的厚度為0.1至0.5微米。

8.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一親液材料層由聚酰亞胺制成。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述裸露的側表面的高度為0.5微米。

10.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

所述在所述襯底基板上形成親液層、覆蓋所述親液層的上表面的疏液層和覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層，包括：

在所述襯底基板上形成親液材料層；

在所述親液材料層的側表面的下半部分設置所述表面覆蓋層；

對所述親液材料層裸露的表層進行表面疏液處理，使得所述親液材料層裸露的表層形成所述疏液層，所述親液材料層未裸露的底層形成所述親液層，以在所述襯底基板上形成親液層、覆蓋所述親液層的上表面的疏液層和覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層。

11.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

所述去除覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層，包括：

剝離覆蓋所述親液層的側表面的表面覆蓋層；

或者，通過刻蝕工藝去除所述親液層的側表面的表面覆蓋層。

12.一種像素界定層，其特征在于，所述像素界定層由權利要求1至11任一所述的方法制成。