[發明專利]等離子體處理裝置

有效

• 申請號: 201710325905.X
• 申請日: 2017-05-10
• 公開（公告）號: CN107527782B
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發明（設計）人: 金學泳;洪定杓;宣鐘宇;成德鏞;林龍浩;全允珖;鄭和俊
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 弋桂芬

1.一種等離子體處理裝置，包括：

腔室；

窗口板，設置在所述腔室的上部分中并且具有緊固孔；和

注入器，構造為設置在所述緊固孔中，所述注入器包括第一主體和第二主體，該第一主體具有用于散布工藝氣體的多個散布噴嘴，該第二主體具有所述第一主體構造為被緊固到的容納凹槽并具有用于在所述注入器設置在所述緊固孔中時將所述工藝氣體注入到所述腔室的內部的多個注射噴嘴。

2.如權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中所述容納凹槽包括設置在所述第二主體的中心部中的第一容納凹槽和設置在所述第一容納凹槽周圍的第二容納凹槽，以及

當所述注入器的所述第一主體被緊固到所述注入器的所述第二主體時，所述第一容納凹槽的底表面位于比所述第二容納凹槽的底表面低的垂直水平。

3.如權利要求2所述的等離子體處理裝置，其中，當所述注入器的所述第一主體被緊固到所述注入器的所述第二主體時，所述多個注射噴嘴包括從所述第一容納凹槽徑向地延伸以連接到所述第二主體的外側表面的第一注射噴嘴、和在向下方向上從所述第二容納凹槽延伸以連接到所述第二主體的下表面的第二注射噴嘴。

4.如權利要求3所述的等離子體處理裝置，其中基于從所述第一容納凹槽的中心軸沿正交方向延伸的直線在所述第一注射噴嘴處與所述第一容納凹槽的內側表面相交的點，所述第一注射噴嘴的每個相對于所述直線成銳角。

5.如權利要求3所述的等離子體處理裝置，其中所述第二注射噴嘴的每個相對于平行于所述第一容納凹槽的中心軸的垂直線成銳角，并且在相同方向上從所述第二容納凹槽傾斜到所述第二主體的所述下表面。

6.如權利要求2所述的等離子體處理裝置，其中所述多個散布噴嘴包括設置在所述第一主體的中心部中并且連接到所述第一容納凹槽內的至少一個第一散布噴嘴、和設置在所述至少一個第一散布噴嘴周圍并連接到所述第二容納凹槽內的多個第二散布噴嘴。

7.如權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，當所述注入器的所述第一主體被緊固到所述注入器的所述第二主體時，所述注入器具有被限定在所述第一主體和所述第二主體之間用于在所述第一主體和所述第二主體之間容納所述工藝氣體的空間。

8.如權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中所述第二主體具有徑向向外延伸以在所述注入器設置在所述緊固孔中時部分地覆蓋所述窗口板的底表面的凸緣部。

9.一種等離子體處理裝置，包括：

腔室；

窗口板，在所述腔室的上部分中；

緊固孔，被限定在所述窗口板的中心部中；

注入器，包括：

主體，構造為被緊固到所述緊固孔；

多個第一注射噴嘴，限定在所述主體的側表面中并構造為當所述主體被緊固到所述緊固孔時朝向遠離所述側表面的方向注入工藝氣體；和

多個第二注射噴嘴，限定在所述主體的底表面中并構造為當所述主體被緊固到所述緊固孔時朝向遠離所述底表面的方向向下注入所述工藝氣體；和

凸緣，朝向遠離所述注入器的所述主體的方向徑向延伸并構造為當所述主體被緊固到所述緊固孔時位于所述窗口板的底表面處以覆蓋并保護所述緊固孔的外周邊周圍的區域，

其中所述主體包括第一主體和第二主體，該第二主體包括限定在所述第二主體的中心部中的第一容納凹槽和與所述第一容納凹槽間隔開并圍繞所述第一容納凹槽的環形的第二容納凹槽，

其中所述第二主體的所述第一容納凹槽和所述第二容納凹槽被構造為在其中接收所述第一主體使得所述第一主體聯接到所述第二主體，

其中所述第一主體包括第一散布噴嘴，該第一散布噴嘴在所述第一主體聯接到所述第二主體時被接收在所述第一容納凹槽中并與所述第二主體中的所述多個第一注射噴嘴流體連通，

其中所述第一主體包括第二散布噴嘴，該第二散布噴嘴在所述第一主體聯接到所述第二主體時被接收在所述第二容納凹槽中并與所述第二主體中的所述多個第二注射噴嘴流體連通。