[發(fā)明專利]等離子體處理裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710325905.X | 申請(qǐng)日： | 2017-05-10 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN107527782B | 公開（公告）日： | 2021-01-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 金學(xué)泳;洪定杓;宣鐘宇;成德鏞;林龍浩;全允珖;鄭和俊 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 三星電子株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | H01J37/32 | 分類號(hào)： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人： | 弋桂芬 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 等離子體 處理 裝置 | ||
本發(fā)明提供一種等離子體處理裝置，該等離子體處理裝置包括：腔室；窗口板，設(shè)置在腔室的上部分中并在其中限定有緊固孔；注入器，具有包括多個(gè)噴嘴并構(gòu)造為被緊固到緊固孔的主體部、和從主體部徑向地延伸以在主體部被緊固到緊固孔時(shí)部分地覆蓋窗口板的底表面的凸緣部；和制動(dòng)器，構(gòu)造為在窗口板的上表面上被緊固到主體部以在主體部被緊固到緊固孔時(shí)將注入器保持在緊固孔中。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明構(gòu)思涉及等離子體處理裝置。
背景技術(shù)
等離子體處理裝置通常用于制造半導(dǎo)體器件、發(fā)光二極管(LED)、液晶顯示器(LCD)等。其中，ICP型蝕刻裝置包括在窗口板的中心的孔、RF功率傳輸路徑和安裝在該孔中以將工藝氣體注入到腔室中的噴嘴。工藝氣體在腔室內(nèi)被激發(fā)為等離子態(tài)并且碰撞蝕刻靶(例如，晶片)以執(zhí)行蝕刻工藝。
在這里，與窗口板的其它區(qū)域相比，窗口板的包括噴嘴的孔外圍區(qū)在結(jié)構(gòu)上是易損壞的，由此因等離子體損壞而導(dǎo)致微粒化。具體地，當(dāng)窗口板在已經(jīng)被化學(xué)清洗劑清潔之后或在窗口板已經(jīng)被拋光之后再使用時(shí)，窗口板的孔外圍區(qū)會(huì)暴露于等離子體而加速其退化，因而，孔外圍區(qū)易受微粒化損壞。另外，根據(jù)清洗窗口板的次數(shù)，窗口板的使用壽命會(huì)受限。
一般地，工藝氣體通過噴嘴在垂直方向上被注入，工藝氣體的混合動(dòng)力在腔室內(nèi)的下部壓力區(qū)中更小，其會(huì)導(dǎo)致工藝氣體在晶片邊緣區(qū)中的不均勻分布。因此，會(huì)導(dǎo)致諸如產(chǎn)品產(chǎn)量降低等的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明構(gòu)思的一方面可以提供減小窗口板的結(jié)構(gòu)易損性并實(shí)現(xiàn)工藝氣體在腔室內(nèi)的均勻分散的方法。
根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一方面，一種等離子體處理裝置可以包括：腔室；窗口板，設(shè)置在腔室的上部分中并且在其中限定有緊固孔；注入器，具有包括多個(gè)噴嘴并構(gòu)造為被緊固到緊固孔的主體部以及從主體部徑向地延伸以在主體部被緊固到緊固孔時(shí)部分地覆蓋窗口板的底表面的凸緣部；和制動(dòng)器；構(gòu)造為在窗口板的上表面上被緊固到主體部以在主體部被緊固到緊固孔時(shí)將注入器保持在緊固孔中。
根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一方面，一種等離子體處理裝置可以包括：腔室；窗口板，設(shè)置在腔室的上部分中并具有緊固孔；和注入器，構(gòu)造為設(shè)置在緊固孔中并包括第一主體和第二主體，該第一主體具有用于散布工藝氣體的多個(gè)散布噴嘴，該第二主體具有第一主體構(gòu)造為被緊固到其的容納凹槽并具有在注入器設(shè)置在緊固孔中時(shí)用于注射工藝氣體到腔室內(nèi)部的多個(gè)注射噴嘴。
根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一方面，一種等離子體處理裝置可以包括：腔室；窗口板，在腔室的上部分中；緊固孔，被限定在窗口板的中心部中；注入器；和凸緣。注入器可以包括：主體，構(gòu)造為被緊固到緊固孔；多個(gè)第一注射噴嘴，限定在主體的側(cè)表面中并構(gòu)造為當(dāng)主體被緊固到緊固孔時(shí)朝向遠(yuǎn)離側(cè)表面的方向注入工藝氣體；和多個(gè)第二注射噴嘴，被限定在主體的底表面中并構(gòu)造為當(dāng)主體被緊固到緊固孔時(shí)朝向遠(yuǎn)離所述底表面的方向向下注入工藝氣體。凸緣可以朝向遠(yuǎn)離注入器的主體的方向徑向延伸并可以構(gòu)造為當(dāng)主體被緊固到緊固孔時(shí)位于窗口板的底表面處以覆蓋并保護(hù)緊固孔的外周邊周圍的區(qū)域。
附圖說明
通過以下結(jié)合附圖的詳細(xì)說明，本發(fā)明構(gòu)思的上述及其他方面、特征和其他優(yōu)點(diǎn)將被更清楚地理解，附圖中：
圖1是示意地示出根據(jù)一示例實(shí)施方式的等離子體處理裝置的剖視圖；
圖2是示意地示出圖1的等離子體處理裝置中的窗口板的剖面透視圖；
圖3A和3B是示意地示出圖1的等離子體處理裝置中的注入器的透視圖；
圖4是示意地示出圖3A的注入器的剖視圖；
圖5A和5B是示意地示出其中注入器被制動(dòng)器固定到窗口板的結(jié)構(gòu)的透視圖和剖視圖；
圖6是示意地示出根據(jù)一示例實(shí)施方式的注入器的透視圖；
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