[發明專利]一種基于等離子體改善反光熱熔膜與基材表面粘結力的方法在審
| 申請號： | 201710324024.6 | 申請日： | 2017-05-09 |
| 公開（公告）號： | CN107139509A | 公開（公告）日： | 2017-09-08 |
| 發明（設計）人： | 鄔欽崇;鄔明旭;全峰 | 申請（專利權）人： | 深圳優普萊等離子體技術有限公司 |
| 主分類號： | B29C71/04 | 分類號： | B29C71/04;B29C65/02;B08B5/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市南山區*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 等離子體 改善 光熱 基材 表面 粘結 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種基于等離子體改善反光熱熔膜與基材表面粘結力的方法，其特征在于：包括前處理、等離子體表面活化處理、熱壓貼合以及撕掉離型紙、裁剪縫紉四大步驟，具體包括：
步驟一、通過等離子體對熱熔膜和基材進行預處理；
步驟二、借助等離子體產生的帶有大量高能電子、離子和自由基等對熱熔膜和基材表面進行活化；
步驟三、將活化后的基材按照后續原有工藝進行熱壓貼合；
步驟四、撕掉離型紙、裁剪縫紉。
2.如權利要求1所述的基于等離子體改善反光熱熔膜與基材表面粘結力的方法，其特征在于，具體包括如下步驟：
(一)取需要處理的熱熔膜和基材，用高壓氣槍對其表面進行前處理清潔，放入烘箱中80度熱烘2小時，備用；
(二)將前處理清潔后的基布放入等離子體反應室內，反應室抽本體真空5Pa-100Pa，通入一定流量的非聚合性氣體，維持真空度在20Pa-300Pa，激發等離子體對基材和熱熔膜表面活化0.5min-10min，取出放入防塵罩內待用；
(三)在熱壓機達到設定溫度后將處理后的熱熔膜和基材放在操作臺上進行熱壓一定時間后冷卻、取出。
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