[發明專利]一種基于等離子體改善反光熱熔膜與基材表面粘結力的方法

在審

• 申請號: 201710324024.6
• 申請日: 2017-05-09
• 公開（公告）號: CN107139509A
• 公開（公告）日: 2017-09-08
• 發明（設計）人: 鄔欽崇;鄔明旭;全峰
• 申請（專利權）人: 深圳優普萊等離子體技術有限公司
• 主分類號: B29C71/04
• 分類號: B29C71/04;B29C65/02;B08B5/02
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技術領域

本發明涉及一種應用于功能性面料復合、商標熱貼合等生產過程中，改善基材與待貼合物界面粘結力的方法，具體涉及一種基于等離子體改善反光熱熔膜與基材表面粘結力的方法。

背景技術

目前服用反光熱熔膜材料大都采用在離型紙基材上通過PET、PU、PVC、TPU或聚丙烯酸酯類等粘合劑混配均勻固定玻璃微珠或者微棱鏡反光晶格形成的。反光材料通常采用熱壓轉移或者熱升華轉印的方式固定在服裝或者其他各類基材上。但是這種方式固定在織物上的反光膠與紡織品表面之間發生交聯反應形成化學交聯的幾率遠遠低于其以物理交聯或者吸附的形式固定在紡織品表面上，因此，通常這類產品通過蒸汽熨燙、熱水洗或皂洗時很容易產生反光膠與基材脫落的現象。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種改變原有生產過程、工藝和生產模式，工藝簡單，可操作性強，無污染、無排放，屬于綠色干式加工。

本發明是通過以下技術方案來實現的：一種基于等離子體改善反光熱熔膜與基材表面粘結力的方法，包括前處理、等離子體表面活化處理、熱壓貼合以及撕掉離型紙、裁剪縫紉四大步驟，具體包括：

步驟一、通過等離子體對熱熔膜和基材進行預處理；

步驟二、借助等離子體產生的帶有大量高能電子、離子和自由基等對熱熔膜和基材表面進行活化；

步驟三、將活化后的基材按照后續原有工藝進行熱壓貼合；

步驟四、撕掉離型紙、裁剪縫紉。

2.如權利要求1所述的基于等離子體改善反光熱熔膜與基材表面粘結力的方法，其特征在于，具體包括如下步驟：

(一)取需要處理的熱熔膜和基材，用高壓氣槍對其表面進行前處理清潔，放入烘箱中80度熱烘2小時，備用；

(二)將前處理清潔后的基布放入等離子體反應室內，反應室抽本體真空5Pa-100Pa，通入一定流量的非聚合性氣體，維持真空度在20Pa-300Pa，激發等離子體對基材和熱熔膜表面活化0.5min-10min，取出放入防塵罩內待用；

(三)在熱壓機達到設定溫度后將處理后的熱熔膜和基材放在操作臺上進行熱壓一定時間后冷卻、取出

本發明的有益效果是：第一，等離子體處理基布表面，可以使得基布表面纖維活化，生成自由基，改善纖維親水性，從而可以使得反光轉印膜粘結層在熱和壓力條件下充分與基布表面纖維進行反應；

第二，等離子體活化半生著刻蝕反應存在，等離子體刻蝕是一種干式處理，可以在基布纖維表面形成不同形狀的納米或微米級的裂痕、空隙等，從而增大了基布纖維表面積，使得更多的粘接層樹脂膠能充分與纖維粘接在一起，從而提高其剝離強度和耐水洗性能；

第三，等離子體表面處理方法是一種新型干式處理法，其處理過程不用任何化學品，無三廢排放，對環境無污染，符合國家對環境保護的要求，是一種新型綠色加工技術。

具體實施方式

(一)取需要處理的熱熔膜和基材，用高壓氣槍對其表面進行前處理清潔，放入烘箱中80度熱烘2小時，備用；

(二)將前處理清潔后的基布放入等離子體反應室內，反應室抽本體真空5Pa-100Pa，通入一定流量的非聚合性氣體，維持真空度在20Pa-300Pa，激發等離子體對基材和熱熔膜表面活化0.5min-10min，取出放入防塵罩內待用；

(三)在熱壓機達到設定溫度后將處理后的熱熔膜和基材放在操作臺上進行熱壓一定時間后冷卻、取出。

實施例1

下面取基布與反光熱熔膜作為實施例進行本發明的詳細解釋。

(1)基布與反光熱熔膜的前處理

用高壓氣槍對基布和反光熱熔膜進行清潔，除去表面附著的線頭、飛花、灰塵、雜質等影響粘接力的物質，在放入80度烘箱中烘干2小時，備用；

(2)等離子體表面活化處理

分別將前處理后的烘干的基材和反光膜放入等離子體反應室內，反應室抽本體真空5Pa-100Pa，以0.8L/h-6L/h流量通入空氣、氧氣、氮氣、氬氣、氫氣或者上述氣體的混合性非聚合性氣體，維持真空度在20Pa-300Pa，打開電源開關，激發等離子體對紡織品表面活化0.5min-10min。

(3)熱轉印

將活化后的基布和反光熱熔膜放在熱轉印機上，基布活化面與反光膜粘結層面對齊，設定熱壓溫度在170-240度，熱壓時間10s-30s開機加工生產，待熱壓好的反光布冷卻后，撕去反光面保護紙即可。