[發(fā)明專利]一種電路板酸堿蝕刻廢液回收處理工藝

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710321291.8
• 申請日: 2017-05-09
• 公開（公告）號: CN108862365A
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 戴武軍;董關(guān)羽
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東省博羅縣湘澧精細(xì)化工有限公司
• 主分類號: C01G3/10
• 分類號: C01G3/10;C01C1/16;C01G3/12
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 許志勇

1.一種電路板酸堿蝕刻廢液回收處理工藝，其特征在于，包括以下步驟：

(1)將酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液分別儲存于酸性儲罐和堿性儲罐中，檢測酸性蝕刻廢液中是否含有亞銅離子，加入氧化劑將亞銅離子氧化為銅離子；

(2)將步驟(1)中的酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液交替抽入中和罐內(nèi)，二者混合反應(yīng)，直至混合液的PH值為5.1，并生成含有堿式氯化銅的固體；

(3)將含有堿式氯化銅的所述固體與液體分離，并洗滌所述固體，洗滌完畢后將所述固體送入打漿罐中加水混合形成堿式氯化銅漿體，將分離的液體中加入硫化鈉溶液，所述硫化鈉溶液與所述液體中的銅離子形成硫化銅沉淀物，濾出所述硫化銅沉淀物，向濾液中加入氧化劑氧化硫離子，再將濾液用于配制蝕刻液；

(4)將所述堿式氯化銅漿體置于反應(yīng)釜中，向所述反應(yīng)釜內(nèi)加入堿性溶液，直至漿體的PH值為13，再加熱反應(yīng)釜，使反應(yīng)釜的溫度處于85℃—100℃并保持10分鐘，再停止加熱，使所述反應(yīng)釜降溫至60℃，反應(yīng)生成氧化銅漿液和氨氣，將氨氣送入氨氣吸收塔中生成氯化銨溶液；

(5)將所述氧化銅漿液的液體濾除，得到氧化銅固體，多次洗滌所述氧化銅固體，去除可溶性雜質(zhì)后，將氧化銅固體物從所述反應(yīng)釜中卸出，將濾液的PH值調(diào)節(jié)至中性后，用于配制蝕刻液；

(6)將部分所述氧化銅固體物送入打漿罐中，再加水混合形成氧化銅漿體，將所述氧化銅漿體置入硫酸反應(yīng)釜中，向所述硫酸反應(yīng)釜內(nèi)加入濃硫酸，生成硫酸銅溶液，將所述硫酸銅溶液冷卻結(jié)晶，制得硫酸銅晶體；

(7)檢測步驟(3)和步驟(5)的濾液中的成分，調(diào)配酸性蝕刻液和堿性蝕刻液。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電路板酸堿蝕刻廢液回收處理工藝，其特征在于，所述步驟(1)和步驟(3)的氧化劑為過氧化氫溶液。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電路板酸堿蝕刻廢液回收處理工藝，其特征在于，所述步驟(4)的堿性溶液為氫氧化鈉溶液。