[發明專利]一種電路板酸堿蝕刻廢液回收處理工藝

在審

• 申請號: 201710321291.8
• 申請日: 2017-05-09
• 公開（公告）號: CN108862365A
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 戴武軍;董關羽
• 申請（專利權）人: 廣東省博羅縣湘澧精細化工有限公司
• 主分類號: C01G3/10
• 分類號: C01G3/10;C01C1/16;C01G3/12
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 許志勇

本申請公開了一種電路板酸堿蝕刻液回收處理工藝，其通過將將酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液中和反應生成堿式氯化銅后，將堿式氯化銅與堿性溶液反應形成氧化銅，再將氧化銅與濃硫酸反應生成硫酸銅，并收集各反應中的濾液和洗水。本發明的電路板酸堿蝕刻廢液回收處理工藝通過多個步驟，逐一將銅離子沉淀形成不同的含銅產物，操作簡單，成本低廉，可以大批量地處理蝕刻廢液，同時充分利用處理后的濾液重新調配蝕刻液，提高經濟效益的同時，減少排放，有利于環境保護。

技術領域

本申請屬于廢液回收技術領域，具體地說，涉及一種含電路板酸堿蝕刻廢液回收處理工藝。

背景技術

隨著電子行業的飛速發展，印刷電路板的產量也隨之逐年增加，在制造印刷電路板的蝕刻工序中，需要使用大量堿性蝕刻液或酸性蝕刻液。這些蝕刻液在使用完畢后形成蝕刻廢液，蝕刻廢液中含有大量的銅離子和可以重復利用配置蝕刻液的離子如氯離子?，F有的蝕刻廢液回收處理方法有：如發明專利CN102206823A中所記載的電解處理法，該方法的缺點是工藝復雜、投資大；溶劑萃取法，即將萃取劑加入到堿性蝕刻廢液中，得到含銅溶液及蝕刻再生液，該方法的缺點是需要使用昂貴的萃取劑、工藝繁瑣；以及用還原提純銅的方法，例如，發明專利CN102019430A中所記載的用水合肼還原來提純銅的方法，該方法的缺點是工藝控制復雜，成本高；采用蒸發結晶法使蝕刻廢水中和后的氯化銨結晶析出，該方法能耗高且速度慢。

發明內容

針對現有技術中的問題，本發明的目的是提供一種電路板酸堿蝕刻廢液回收處理工藝。

為了解決上述技術問題，本申請揭示了一種電路板酸堿蝕刻廢液回收處理工藝，包括以下步驟：

(1)將酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液分別儲存于酸性儲罐和堿性儲罐中，檢測酸性蝕刻廢液中是否含有亞銅離子，加入氧化劑將亞銅離子氧化為銅離子；

(2)將步驟(1)中的酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液交替抽入中和罐內，二者混合反應，直至混合液的PH值為5.1，并生成含有堿式氯化銅的固體；

(3)將含有堿式氯化銅的固體與液體分離，并洗滌固體，洗滌完畢后將固體送入打漿罐中加水混合形成堿式氯化銅漿體，將分離的液體中加入硫化鈉溶液，硫化鈉溶液與液體中的銅離子形成硫化銅沉淀物，濾出硫化銅沉淀物，向濾液中加入氧化劑氧化硫離子，再將濾液用于配制蝕刻液；

(4)將堿式氯化銅漿體置于反應釜中，向反應釜內加入堿性溶液，直至漿體的PH值為13，再加熱反應釜，使反應釜的溫度處于85℃—100℃并保持10分鐘，再停止加熱，使反應釜降溫至60℃，反應生成氧化銅漿液和氨氣，將氨氣送入氨氣吸收塔中生成氯化銨溶液；

(5)將氧化銅漿液的液體濾除，得到氧化銅固體，多次洗滌氧化銅固體，去除可溶性雜質后，將氧化銅固體物從反應釜中卸出，將濾液的PH值調節至中性后，用于配制蝕刻液；

(6)將部分所述氧化銅固體物送入打漿罐中，再加水混合形成氧化銅漿體，將氧化銅漿體置入硫酸反應釜中，向硫酸反應釜內加入濃硫酸，生成硫酸銅溶液，將硫酸銅溶液冷卻結晶，制得硫酸銅晶體；

(7)檢測步驟(3)和步驟(5)的濾液中的成分，調配酸性蝕刻液和堿性蝕刻液。

根據本申請的一實施例，上述步驟(1)和步驟(3)的氧化劑為過氧化氫溶液。

根據本申請的一實施例，上述步驟(4)的堿性溶液為氫氧化鈉溶液。

與現有技術相比，本發明可以獲得包括以下技術效果：

本發明的電路板酸堿蝕刻廢液回收處理工藝通過多個步驟，逐一將銅離子沉淀形成不同的含銅產物，操作簡單，成本低廉，可以大批量地處理蝕刻廢液，同時充分利用處理后的濾液重新調配蝕刻液，提高經濟效益的同時，減少排放，有利于環境保護。

具體實施方式