[發(fā)明專利]一種調(diào)節(jié)和確定飽和溫度的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710320721.4
• 申請日: 2017-05-09
• 公開（公告）號: CN108865270A
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王萬利
• 申請（專利權(quán)）人: 王萬利
• 主分類號: C10J3/02
• 分類號: C10J3/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

一種調(diào)節(jié)和確定飽和溫度的方法，涉及煤氣的生產(chǎn)方法，包括，升高飽和溫度，氧化層上升，上升距離與蒸汽壓力有關(guān)；升高飽和溫度，氧化層上升距離基本等于氧化層循環(huán)位置上升距離；降低飽和溫度，氧化層下降，下降距離與蒸汽壓力有關(guān)；降低飽和溫度，氧化層下降距離基本等于氧化層循環(huán)位置下降距離；飽和溫度周期循環(huán)。氧化層循環(huán)位置低，升高飽和溫度，或升高蒸汽壓力，或調(diào)節(jié)二者。氧化層循環(huán)位置高，降低飽和溫度，或降低蒸汽壓力，或調(diào)節(jié)二者。氧化層循環(huán)過程中，氧化層上升過程，升高飽和溫度，氧化層下降過程中后部，降低飽和溫度。溫度顯示的氧化層當(dāng)作氧化層循環(huán)位置。本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)，提高氣化效率，降低勞動(dòng)強(qiáng)度，爐篦壽命長。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及煤氣的生產(chǎn)方法。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)，沒有飽和溫度變化與氧化層位置的關(guān)系，易出現(xiàn)二個(gè)溫度顯示的氧化層，易結(jié)渣，易燒壞爐篦，氣化效率低。氧化層循環(huán)位置低，不調(diào)節(jié)蒸汽壓力，只是降低飽和溫度，或降低飽和溫度1-3h后，飽和溫度恢復(fù)到降低飽和溫度之前的溫度，易燒壞爐篦，氣化效率低。確定飽和溫度，依據(jù)煤粒度大小、水分含量、灰份含量、灰溶點(diǎn)，長時(shí)間運(yùn)行確定，沒有直觀、統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn)，常不是最佳飽和溫度和對應(yīng)的最佳蒸汽壓力。調(diào)節(jié)飽和溫度時(shí)間不確定，氣化效率波動(dòng)大。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種依據(jù)氧化層循環(huán)位置，調(diào)節(jié)和確定飽和溫度的方法，本發(fā)明沒有特別說明，氧化層指正在發(fā)生氧化層化學(xué)反應(yīng)的燃料層，消耗大部分氧氣，氧化層長度70-150mm。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種調(diào)節(jié)和確定飽和溫度的方法，飽和溫度范圍40-65℃，其中，單段爐50-65℃，兩段爐40-60℃，其特征是，包括：

飽和溫度每升高1℃，氧化層上升6-100mm，其一，氣化劑混合前，蒸汽壓力小，氣化劑混合后壓力增量小，氧化層上升距離小，氣化劑混合前，蒸汽壓力大，氣化劑混合后壓力增量大，氧化層上升距離大，其二，氣化劑通過氣化劑混合器，蒸汽壓力減量大，氣化劑壓力增量小，氧化層上升距離小，氣化劑通過氣化劑混合器，蒸汽壓力減量小，氣化劑壓力增量大，氧化層上升距離大，氣化劑混合角度不同，氣化劑通過氣化劑混合器，蒸汽壓力減量不同，氧化層上升距離不同，氣化劑混合器長度不同，氣化劑通過氣化劑混合器，蒸汽壓力減量不同，氧化層上升距離不同，其三，基本飽和溫度低，氣化劑蒸汽含量增量小，氧化層上升距離小，飽和溫度高，氣化劑蒸汽含量增量大，氧化層上升距離大，確定了升高飽和溫度與氧化層上升的關(guān)系；

升高飽和溫度，減少或消除因升高飽和溫度導(dǎo)致的蒸汽壓力變化，需要1-5個(gè)氧化層循環(huán)周期，升高的飽和溫度穩(wěn)定、蒸汽壓力穩(wěn)定，作用，升高的氧化層循環(huán)位置穩(wěn)定，升高飽和溫度，氧化層上升導(dǎo)致氧化層循環(huán)位置上升，因升高飽和溫度，氧化層上升距離基本等于氧化層循環(huán)位置升高距離，氧化層位置難測量，氧化層循環(huán)位置容易測量，其一，氧化層循環(huán)位置主要是除渣和停除渣循環(huán)，導(dǎo)致的氧化層位置循環(huán)，包括伴隨的飽和溫度循環(huán)導(dǎo)致的氧化層位置循環(huán)，其次是蒸汽壓力循環(huán)導(dǎo)致的氧化層位置循環(huán)，和蒸汽壓力循環(huán)伴隨的飽和溫度循環(huán)導(dǎo)致的氧化層位置循環(huán)，不包括，加煤和加煤后，煤氣壓力循環(huán)導(dǎo)致的氧化層位置循環(huán)，和伴隨的飽和溫度循環(huán)導(dǎo)致的氧化層位置循環(huán)，氣化劑空氣、氧氣流量小，氧化層循環(huán)位置短，氣化劑空氣、氧氣流量大，氧化層循環(huán)位置長，其二，氧化層循環(huán)是下述過程：氧化層上升60-180mm，小于、等于氧化層長度，或大于氧化層長度60mm之內(nèi)，1-4min；氧化層下降60-180mm，小于、等于氧化層長度，或大于氧化層長度60mm之內(nèi)，減少蒸汽壓力降低，之后蒸汽壓力自然升高，單段爐9-11min，兩段爐13-16min；氧化層下降過程后部，減少或消除氧化層上升因素，單段爐2-5min，兩段爐4-10min；上述三個(gè)環(huán)節(jié)是一個(gè)周期，單段爐12-20min，兩段爐18-30min，循環(huán)，氧化層上升距離基本等于氧化層下降距離，蒸汽壓力降低值基本等于蒸汽壓力升高值，分別小于或等于0.02MPa；