[發(fā)明專利]一種大尺度調(diào)控艾里光束傳輸軌跡的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710320057.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107346043A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-11-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳瓊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江師范大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G02B5/30 | 分類號(hào): | G02B5/30;G02B27/28 |
| 代理公司: | 杭州知瑞知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司33271 | 代理人: | 陳宜芳 |
| 地址: | 321004 浙江*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 尺度 調(diào)控 光束 傳輸 軌跡 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光束的傳輸軌跡控制技術(shù),公開(kāi)了一種大尺度調(diào)控艾里光束傳輸軌跡的方法。基于產(chǎn)生艾里光束的立方相位傅立葉變換的定義,在相位掩膜板中心偏離傅立葉變換透鏡光軸的情況下,推導(dǎo)出了艾里光束的峰值軌跡。理論推導(dǎo)結(jié)果表明,傅里葉變換透鏡光軸和相位板中心的錯(cuò)位越大,艾里加速光束的傳輸軌跡可控制范圍越大。
本發(fā)明利用全息打印技術(shù)制作大尺寸的相位掩膜板,可以較大范圍調(diào)控艾里光束傳輸軌跡。靈活可控的傳輸軌跡,為艾里光束更好地應(yīng)用于科學(xué)研究領(lǐng)域,提供了更具實(shí)用性的加速光源。
背景技術(shù)
艾里光束是一種新型無(wú)衍射光束。艾里光束的新穎特性在于,它在傳播過(guò)程中能夠橫向加速,類似于彈丸在重力作用下的加速拋物彈道軌跡。沿彎曲軌跡傳輸?shù)募铀偬匦裕蓱?yīng)用于粒子微觀操控等各種科學(xué)領(lǐng)域。不同的科學(xué)實(shí)驗(yàn)需要艾里光束沿不同的曲線軌跡傳輸,近年來(lái),人們采取各種辦法,實(shí)現(xiàn)艾里光束的傳輸軌跡控制。
Zhang P等用金屬薄膜耦合光柵產(chǎn)生艾里等離子激元實(shí)現(xiàn)光束運(yùn)動(dòng)軌跡控制[Phys.Rev.Lett.,2007,99(21):213901],Ye Z等利用改變光誘導(dǎo)晶體梯度折射率梯度來(lái)改變艾里光束的加速方向[Opt.Lett.,2011,36(16):3230],Liu W等通過(guò)楔形的金屬-電介質(zhì)-金屬結(jié)構(gòu)產(chǎn)生線性光勢(shì)對(duì)艾里光束等離子激元進(jìn)行軌跡操控[Opt.Lett.,2011,36(7):1164]。Efremidis N K研究了不同的折射率梯度中艾里光速傳輸?shù)奶匦訹Opt.Lett.,2011,36(15):3006],Dolev I等發(fā)現(xiàn)通過(guò)非線性光子晶體可產(chǎn)生艾里光束,改變同一非線性光子晶體的溫度能改變二次諧波產(chǎn)生和差頻產(chǎn)生的相位匹配條件,從而改變輸出光束的加速方向[Opt.Lett.,2010,35(10):1581]。
G.A.Siviloglou和Chen Z G等利用傅立葉變換透鏡、入射光束和相位調(diào)制元件之間中心偏離的辦法,給艾里光束引入初始發(fā)射角,來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)艾里光束傳輸軌跡的控制[Opt.Lett.,2010,35(13):2260;Opt.Lett.,2008,33(3):207]。該方法簡(jiǎn)單而有效,但由于傳統(tǒng)的相位調(diào)制元件——空間光調(diào)制器尺寸有限,引入的偏移量較小。這就大大限制了對(duì)艾里光束傳輸軌跡的調(diào)控范圍。
發(fā)明內(nèi)容
利用傅立葉變換透鏡和相位調(diào)制元件之間中心偏離的辦法,來(lái)實(shí)現(xiàn)艾里光束傳輸?shù)能壽E控制,是一種簡(jiǎn)單有效的方法,但傳統(tǒng)的相位調(diào)制元件——空間光調(diào)制器(SLM)有限的尺寸,限制了艾里光束傳輸軌跡的控制范圍。
本發(fā)明提供了一種大尺度調(diào)控艾里光束傳輸軌跡的方法。主要是利用全息打印的技術(shù),用全息縮微輸出系統(tǒng)來(lái)制作大尺寸立方相位掩膜板,通過(guò)相位掩膜板偏離光軸中心的方法,偏離距離越大,艾里光束的初始發(fā)射角變換幅度越大。用全息縮微輸出系統(tǒng)來(lái)制作的大尺寸立方相位掩膜板,為實(shí)現(xiàn)艾里光束傳輸軌跡的大幅度調(diào)控,奠定了基礎(chǔ)。
本發(fā)明技術(shù)的理論基礎(chǔ)如下:
經(jīng)典的產(chǎn)生艾里光束的方法是用平行光入射到立方相位掩模板,再經(jīng)傅立葉變換透鏡變換后得到。以透鏡的光軸為z軸,立方相位掩模板的傅立葉變換過(guò)程,數(shù)學(xué)上可寫為:
其中
u(ξ,η)=exp[ikφ(ξ,η)].(2)
(1)式中,(ξ,η)和(x0,y0)為截面坐標(biāo),k=2π/λ為波數(shù)。z為以傅里葉變換透鏡后焦面為起點(diǎn)的縱向傳輸坐標(biāo)。f為傅里葉變換透鏡的焦距。
(2)式為平行光入射到相位掩模板后的光束振幅分布。
如果相位掩膜板中心偏離傅立葉變換透鏡光軸,即相位掩模板中心位于(ξ0,η0),則有
φ(ξ,η)=β[(ξ-ξ0)3/3+(η-η0)3/3].(3)
(3)式為產(chǎn)生艾里光束的相位分布,其中β為控制常數(shù)。
經(jīng)典產(chǎn)生艾里光束的方法,均要求相位掩模板中心與光軸重合,即相位掩模板中心位于(0,0)處。
(3)式帶入(2)式后再帶入(1)式,積分后可得
根據(jù)艾里函數(shù)的定義,可知|Ai(-1.018)|為艾里函數(shù)最大值,由式(4),可求得艾里光束的峰值軌跡為
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