[發明專利]一種大尺度調控艾里光束傳輸軌跡的方法在審
| 申請號: | 201710320057.3 | 申請日: | 2017-05-08 |
| 公開(公告)號: | CN107346043A | 公開(公告)日: | 2017-11-14 |
| 發明(設計)人: | 吳瓊 | 申請(專利權)人: | 浙江師范大學 |
| 主分類號: | G02B5/30 | 分類號: | G02B5/30;G02B27/28 |
| 代理公司: | 杭州知瑞知識產權代理有限公司33271 | 代理人: | 陳宜芳 |
| 地址: | 321004 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 尺度 調控 光束 傳輸 軌跡 方法 | ||
1.一種大尺度調控艾里光束傳輸軌跡的方法,其特征在于:基于全息打印技術制作大尺寸立方相位掩膜板,通過大范圍調節傅里葉變換透鏡光軸和相位板中心的偏移,較大范圍改變艾里光束的初始發射角,從而大范圍地改變和控制艾里加速光束的傳輸軌跡。
2.根據權利要求1所述的大尺度調控艾里光束傳輸軌跡的方法,其特征在于該方法的實現具體步驟如下:
(1)利用全息打印技術制作大尺寸立方相位掩膜板。
(2)激光擴束準直后,入射至相位掩膜板。在垂直于光軸的方向,利用微位移平移臺上下左右移動相位掩膜板的位置,來改變并控制艾里加速光束的傳輸軌跡,實現對艾里光束軌跡的大幅度控制。
(3)改變相位掩膜板中心偏離傅立葉變換透鏡光軸的橫向或者縱向偏移時,兩者偏離越大,光束的初始發射角改變越大,艾里光束傳輸的軌跡調控范圍越大。
(4)當艾里光束的初始發射角為正值時,加速光束的傳輸軌跡有一個拐點。由相位掩膜板中心偏離傅立葉變換透鏡光軸的橫向或者縱向錯位,可確定加速光束傳輸軌跡的拐點位置。
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