[發(fā)明專利]一種涂布機(jī)管路的清潔方法及清潔裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710318747.5
• 申請(qǐng)日: 2017-05-08
• 公開（公告）號(hào): CN106964609B
• 公開（公告）日: 2019-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許可
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B08B9/027
• 分類號(hào): B08B9/027
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種涂布機(jī)管路的清潔裝置，其特征在于，包括待清潔管路、向所述待清潔管路提供光阻溶劑的第一清潔管路、向所述待清潔管路提供清洗劑的第二清潔管路、向所述待清潔管路提供惰性氣體的第三清潔管路、向所述待清潔管路提供有機(jī)溶劑的第四清潔管路及向所述待清潔管路提供干燥潔凈空氣的第五清潔管路，所述第一清潔管路上設(shè)置有第一閥門，所述第二清潔管路上設(shè)置有第二閥門，所述第三清潔管路上設(shè)置有第一分支及第二分支，所述第一分支上設(shè)置有第三閥門，所述第二分支上設(shè)置有第四閥門，所述第一分支與所述第二清潔管道合流，所述第二分支與所述第四清潔管道合流，所述第四清潔管路上設(shè)置有第五閥門，所述第五清潔管路上設(shè)置有第六閥門；其中所述清潔裝置包括四種清潔狀態(tài)，所述四種清潔狀態(tài)依次執(zhí)行，當(dāng)處于第一清潔狀態(tài)時(shí)，通過使用光阻溶劑對(duì)待清潔管路進(jìn)行清洗，當(dāng)處于第二清潔狀態(tài)時(shí)，使用清洗劑與惰性氣體合成后的第一二流體對(duì)待清潔管路進(jìn)行清洗，當(dāng)處于第三清潔狀態(tài)時(shí)，使用有機(jī)溶劑與惰性氣體合成后的第二二流體對(duì)待清潔管路進(jìn)行清洗，當(dāng)處于第四清潔狀態(tài)時(shí)，使用干燥潔凈空氣對(duì)待清潔管路進(jìn)行干燥。

2.如權(quán)利要求1所述的涂布機(jī)管路的清潔裝置，其特征在于，所述第一閥門、第二閥門、第三閥門、第四閥門、第五閥門以及第六閥門處于關(guān)閉狀態(tài)，當(dāng)所述清潔裝置處于第一清潔狀態(tài)時(shí)，第一閥門開啟，當(dāng)所述清潔裝置處于第二清潔狀態(tài)時(shí)，第一閥門關(guān)閉，第二閥門及第三閥門開啟，當(dāng)所述清潔裝置處于第三清潔狀態(tài)時(shí)，第二閥門及第三閥門關(guān)閉，第四閥門及第五閥門開啟，當(dāng)所述清潔裝置處于第四清潔狀態(tài)時(shí)，第四閥門及第五閥門關(guān)閉，第六閥門開啟。

3.如權(quán)利要求2所述的涂布機(jī)管路的清潔裝置，其特征在于，所述裝置還包括第一二流體合成器，所述第一二流體合成器的一側(cè)與第二清潔管路及第三清潔管路的第一分支連接，另一側(cè)與待清潔管路連接。

4.如權(quán)利要求3所述的涂布機(jī)管路的清潔裝置，其特征在于，所述裝置還包括第二二流體合成器，所述第二二流體合成器的一側(cè)與第三清潔管路的第二分支及第四清潔管路連接，另一側(cè)與待清潔管路連接。

5.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的涂布機(jī)管路的清潔裝置，其特征在于，所述惰性氣體為氮?dú)狻?/p>

6.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的涂布機(jī)管路的清潔裝置，其特征在于，所述有機(jī)溶劑為丙酮。

7.如權(quán)利要求4所述的涂布機(jī)管路的清潔裝置，其特征在于，所述待清洗管路上依次連接有光阻暫存罐、過濾芯、排泡模組、涂布泵及涂布噴嘴。