[發明專利]分子印跡過氧化聚吡咯/聚對氨基苯磺酸修飾電極的制備

有效

• 申請號: 201710315123.8
• 申請日: 2017-05-08
• 公開（公告）號: CN107219277B
• 公開（公告）日: 2019-05-31
• 發明（設計）人: 孔泳;張潔;顧嘉衛
• 申請（專利權）人: 常州大學
• 主分類號: G01N27/30
• 分類號: G01N27/30;G01N27/327;G01N27/36
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本發明涉及一種分子印跡過氧化聚吡咯/聚對氨基苯磺酸修飾電極的制備方法，包括以下步驟：制備聚對氨基苯磺酸修飾電極、制備分子印跡過氧化聚吡咯/聚對氨基苯磺酸修飾電極。本發明的有益效果：分子印跡過氧化聚吡咯/聚對氨基苯磺酸修飾電極的制備過程簡單環保無污染。此外，聚對氨基苯磺酸的引入可增加與色氨酸三維空間匹配的空腔數量，從而得到的分子印跡材料對于色氨酸對映體的識別效率顯著提升。

技術領域

本發明涉及一種分子印跡過氧化聚吡咯/聚對氨基苯磺酸修飾電極的制備方法，屬于電化學和材料研究領域。

背景技術

手性化合物是具有極其相似的物理化學性質的光學異構體，兩者很難區分，因此在生化分析領域，手性化合物的識別和拆分是一項困難且艱巨的任務。在過去，廣泛應用于識別手性化合物的方法主要有色譜技術、光譜技術和電化學技術等。如今，由于電化學分析方法具備靈敏度高、干擾小和操作簡單等優點，因此基于電化學技術的手性識別方法非常有希望也最容易推廣。

人體內的各種蛋白質是由20種基本氨基酸構成的，它們與人類的生命息息相關。而構成蛋白質的基本氨基酸大多為L-構型，因此基于L-構型氨基酸的手性傳感器的研究備受關注。由于分子印跡聚合物具有很多優勢如構型預定性、高選擇性、易于制備和相對低的成本等，因此在過去幾十年中，分子印跡聚合物(MIPs)作為L-構型氨基酸手性識別材料的研究已經取得了很大進展。導電聚合物可以將分子印跡技術與電化學技術完美結合，但是傳統的MIPs存在印跡位點較少的缺陷，使其對于目標分子具有較低的識別效率，這限制了導電高分子作為分子印跡材料的應用，因此如何增加模板分子在導電高分子內部的印跡位點是個研究熱點。

聚對氨基苯磺酸(pABSA)含有的磺酸基團能與苯環可通過靜電作用與π-π共軛作用與有機客體分子結合，從而可將其用于分子印跡的基底材料。通過循環伏安法制備得到pABSA修飾玻碳電極(pABSA/GCE)，并在該修飾電極表面繼續修飾分子印跡過氧化聚吡咯，可得到分子印跡過氧化聚吡咯/pABSA/GCE(MIOPPy/pABSA/GCE)，該分子印跡電極可用于色氨酸對映體的電化學手性識別。

發明內容

本發明涉及一種分子印跡過氧化聚吡咯/聚對氨基苯磺酸修飾電極的制備方法，包括以下步驟：

a、制備pABSA修飾電極：采用直徑為3mm的玻碳電極(GCE)為工作電極，鉑片為輔助電極，飽和甘汞電極為參比電極的三電極體系；稱取15mg對氨基苯磺酸溶于20mL 0.1M的磷酸鹽緩沖溶液(pH＝7.0)中，在-1.5～2.5V的電位窗口內，以0.1V/s的掃速采用循環伏安法制備得到pABSA修飾電極，記為pABSA/GCE；

b、制備MIOPPy/pABSA/GCE：將pABSA/GCE浸入包括2mM L-色氨酸、0.1M吡咯和0.1MPBS(pH＝3.5)的混合溶液中靜置20min，然后在-0.6～0.8V(vs.SCE)的電化學范圍內，以0.1V/s的掃速循環伏安(CV)10圈，得到摻雜有L-色氨酸的PPy/pABSA修飾電極(PPy/pABSA/GCE)；再將該修飾電極浸入0.1M H₂SO₄溶液中，施加0.4V的電位脫摻雜1000s得到分子印PPy/pABSA修飾電極，即MIPPy/pABSA/GCE；為了規避PPy的氧化峰對于電化學檢測Trp的影響，將MIPPy/pABSA/GCE置于0.1M的NaOH溶液中，在0.4～1.2V的電化學窗口內進行CV，直到出現穩定的CV曲線，得到MIOPPy/pABSA/GCE。

進一步，步驟a中對氨基苯磺酸的質量為15mg，磷酸鹽緩沖溶液的pH為3.5。

進一步，步驟b中磷酸鹽緩沖液的pH值為4，靜置時間為20min，脫摻雜的恒電位為0.4V。

附圖說明

下面結合附圖對本發明進一步說明。

圖1為色氨酸對映體在MIOPPy/pABSA/GCE上的DPV圖。