[發(fā)明專利]一種化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710314057.2 | 申請日: | 2017-05-05 |
| 公開(公告)號: | CN107267952B | 公開(公告)日: | 2023-05-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鮑明東;徐雪波;呂志甲;楊夢夢;馮超;丁蘭;何驊波 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波工程學(xué)院 |
| 主分類號: | C23C16/27 | 分類號: | C23C16/27;C23C16/02;C23C16/44 |
| 代理公司: | 寧波辰暉專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33420 | 代理人: | 劉海彬 |
| 地址: | 315000 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 化學(xué) 沉積 金剛石 方法 | ||
本發(fā)明涉及金剛石膜制備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的方法,包括如下步驟:輔助步驟,所述輔助步驟包括:第一步,打開輔助腔體(5)的電動閥門(6);第二步,工控系統(tǒng)控制噴槍(9)向試樣(3)方向移動,并使噴槍(9)的出口對準(zhǔn)試樣(3)的異質(zhì)顆粒物,擋板(32)將電極(2)遮擋;第三步,工控系統(tǒng)打開流量控制閥(24),使氣瓶(26)中儲存的惰性氣體通過噴槍(9)的出口將異質(zhì)顆粒物吹離襯底試樣(3)表面。該方法在鍍制金剛石膜的過程中,當(dāng)觀察到襯底試樣表面出現(xiàn)異質(zhì)顆粒物時,可以及時將異質(zhì)顆粒物從襯底試樣表面清除。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及金剛石鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的方法。
背景技術(shù)
自低壓氣相合成金剛石獲得成功以來,在全世界范圍逐步開展了氣相合成金剛石的研究工作,經(jīng)過努力已在沉積技術(shù)、合成工藝、性能研究、開發(fā)應(yīng)用等方面,取得了很大進(jìn)展。
目前氣相沉積鍍制金剛石膜的方法有化學(xué)氣相沉積CVD和物理氣相沉積PVD兩大類。物理氣相沉積金剛石膜比較困難,化學(xué)氣相沉積是沉積金剛石膜的主要方法。化學(xué)氣相沉積金剛石膜是在高溫條件下使原料氣分解,生成碳原子或甲基原子團(tuán)等活性粒子,并在一定工藝條件下,在試樣上沉積生長出金剛石膜。氣相沉積鍍膜的設(shè)備一般包括鍍膜腔體和工控系統(tǒng),所述鍍膜腔體內(nèi)固定有電極和用于放置試樣的試樣臺,試樣臺位于電極正下方。
在鍍制金剛石膜時,操作者在工控系統(tǒng)上設(shè)定鍍膜參數(shù),啟動氣相沉積鍍膜的設(shè)備就可以在試樣上鍍制金剛石膜。但在鍍制金剛石膜的過程中,偶爾會發(fā)現(xiàn)有其它異質(zhì)顆粒物會沉積在試樣表面。異質(zhì)顆粒物例如碳粒,由于碳原子可能以碳粒的方式析出,而沉積在試樣表面。這樣,受異質(zhì)顆粒物的影響,鍍制出來的金剛石膜存在缺陷,例如開裂等,難以達(dá)到使用需求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是,提供一種化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的方法,該方法在試樣表面鍍制金剛石膜的過程中,當(dāng)觀察到試樣表面出現(xiàn)異質(zhì)顆粒物時,可以及時將異質(zhì)顆粒物從試樣表面清除,從而可以避免鍍制出來的金剛石膜受到異質(zhì)顆粒物的影響,保證鍍制出來的金剛石膜的質(zhì)量。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的一種化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的方法,包括如下步驟:
步驟1:將試樣放到超聲波中清洗;
步驟2:將清洗后的試樣放到真空干燥箱中干燥;
步驟3:在干燥后的試樣上鍍制Si薄膜層,得到鍍有Si薄膜層的試樣;
步驟4:將步驟3中的試樣放到超聲波中清洗;
步驟5:將步驟4中清洗后的試樣放到真空干燥箱中干燥;
步驟6:將步驟5中干燥后的試樣放入化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的設(shè)備,根據(jù)預(yù)設(shè)參數(shù),啟動化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的設(shè)備并開始鍍制金剛石膜;鍍制過程中,觀察試樣表面,
若試樣表面發(fā)現(xiàn)異質(zhì)顆粒物時,進(jìn)入輔助步驟,所述輔助步驟包括:
第一步,打開輔助腔體的電動閥門;
第二步,工控系統(tǒng)控制噴槍向試樣方向移動,并使噴槍的出口對準(zhǔn)試樣的異質(zhì)顆粒物,擋板將電極遮擋;
第三步,工控系統(tǒng)打開流量控制閥,使氣瓶中儲存的惰性氣體通過噴槍的出口將異質(zhì)顆粒物吹離試樣表面;
第四步,復(fù)位,輔助步驟結(jié)束,化學(xué)氣相沉積鍍制金剛石膜的設(shè)備根據(jù)預(yù)設(shè)參數(shù)繼續(xù)鍍制金剛石膜;
若試樣表面未發(fā)現(xiàn)異形顆粒物,按所述預(yù)設(shè)參數(shù)鍍膜;
步驟7:鍍制金剛石膜完成,關(guān)閉設(shè)備。
優(yōu)選的,所述輔助步驟還包括:工控系統(tǒng)記錄打開電動閥門到復(fù)位之間的時間T,并將時間T增加至預(yù)設(shè)參數(shù)中的時間參數(shù)中。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
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C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
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