[發明專利]一種表面清潔裝置、溫控臺系統及表面清潔方法

有效

• 申請號: 201710304972.3
• 申請日: 2017-05-03
• 公開（公告）號: CN106903116B
• 公開（公告）日: 2019-07-16
• 發明（設計）人: 孫全龍;李志賓;丁秀娟;鄭云蛟;林發慶;曹振洋;韓俊
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02;B08B15/04;B08B13/00;H05F3/04
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319
• 代理人: 莎日娜

本發明實施例提供一種表面清潔裝置、溫控臺系統及表面清潔方法。該裝置包括：可沿溫控臺的表面移動的支架，連接在所述支架上的噴頭，以及向所述噴頭輸送氣體的氣體輸入單元；所述噴頭設置在所述溫控臺上方，所述噴頭包括相對設置的第一表面和第二表面，所述噴頭的第一表面上設置至少一個第一出風口；所述噴頭的第二表面上設置至少一個第二出風口；所述第一出風口沿噴頭移動方向向所述溫控臺的表面出風；所述第二出風口沿噴頭移動方向向基板的表面出風。本發明實施例通過在噴頭的第一表面上設置第一出風口，在噴頭的第二表面上設置第二出風口，可同時去除溫控臺和基板的整個表面上的顆粒物，以便提高產線稼動率以及產品良率。

技術領域

本發明涉及表面清潔技術領域，特別是涉及一種表面清潔裝置、溫控臺系統及表面清潔方法。

背景技術

曝光機的溫控臺的表面上往往會殘留顆粒物。這些顆粒物如果沒有及時清理掉，則基板與溫控臺的表面在多次擠壓后，可能會使顆粒物嵌入到溫控臺的表面的涂層中，使得基板與溫控臺的表面接觸造成基板表面也產生凹點。現有技術中，為了解決該問題，定期清潔溫控臺的表面。但是，由于基板的表面也會有顆粒物，該清潔過程沒有清潔基板的表面，并且在清潔的過程中又會引入新的顆粒物，從而使得清潔的效率較低，影響產能。

發明內容

本發明實施例提供一種表面清潔裝置、溫控臺系統及表面清潔方法，以解決現有技術不能同時清潔溫控臺和基板表面的顆粒物的問題。

第一方面，提供一種表面清潔裝置，包括：可沿溫控臺的表面移動的支架，連接在所述支架上的噴頭，以及向所述噴頭輸送氣體的氣體輸入單元；所述噴頭設置在所述溫控臺上方，所述噴頭包括相對設置的第一表面和第二表面，所述噴頭的第一表面上設置至少一個第一出風口；所述噴頭的第二表面上設置至少一個第二出風口；所述第一出風口沿噴頭移動方向向所述溫控臺的表面出風；所述第二出風口沿噴頭移動方向向基板的表面出風。

進一步，還包括：設置在所述噴頭內部的高壓放電單元，所述高壓放電單元將所述氣體輸入單元輸入的氣體離子化后輸入第一出風口和第二出風口。

進一步：所述噴頭的第一表面上設置至少一個第一吸附口；所述噴頭的第二表面上設置至少一個第二吸附口。

進一步，還包括：至少一個吸附單元，至少一個所述吸附單元用于設置在所述溫控臺的與所述噴頭的移動方向同向的一側，吸附所述第一出風口和所述第二出風口去除的顆粒物。

進一步：所述第一出風口與所述噴頭的第一表面的自由端之間隔有第一距離，所述噴頭的第一表面的自由端為與所述噴頭的移動方向同向的一端；所述第二出風口與所述噴頭的第二表面的自由端之間隔有第二距離，所述噴頭的第二表面的自由端為與所述噴頭的移動方向同向的一端。

進一步：所述噴頭的第一表面上設置有至少一條與所述噴頭的移動方向平行的第一導流槽，所述第一導流槽的一端延伸到所述第一出風口處，所述第一導流槽的另一端延伸到所述溫控臺的第一表面的自由端；所述噴頭的第二表面上設置有至少一條與所述噴頭的移動方向平行的第二導流槽，所述第二導流槽的一端延伸到所述第二出風口處，所述第二導流槽的另一端延伸到所述溫控臺的第二表面的自由端。

進一步，還包括：控制單元，所述控制單元與所述噴頭電連接，用于控制所述噴頭的第一出風口和第二出風口的風力和/或所述第一出風口的出風溫度。

進一步，還包括：顆粒物檢測單元和/或溫度測量單元，其中，所述顆粒物檢測單元與所述控制單元電連接，用于檢測所述溫控臺的表面的顆粒物，并將所述溫控臺的表面的顆粒物的位置發送到所述控制單元；所述控制單元用于根據所述顆粒物的位置，控制所述噴頭移動到所述顆粒物的位置處時，增大第一出風口的風力；所述溫度測量單元與所述控制單元電連接，用于檢測所述溫控臺的表面的溫度，并將所述溫控臺的表面的溫度發送到所述控制單元；所述控制單元用于根據所述溫控臺的表面的溫度和所述溫控臺的表面的設定溫度，調節所述第一出風口的出風溫度。