[發(fā)明專利]一種表面清潔裝置、溫控臺(tái)系統(tǒng)及表面清潔方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710304972.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-05-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106903116B | 公開(公告)日: | 2019-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫全龍;李志賓;丁秀娟;鄭云蛟;林發(fā)慶;曹振洋;韓俊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | B08B5/02 | 分類號(hào): | B08B5/02;B08B15/04;B08B13/00;H05F3/04 |
| 代理公司: | 北京潤澤恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11319 | 代理人: | 莎日娜 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 噴頭 出風(fēng)口 溫控 第二表面 第一表面 表面清潔裝置 表面清潔 噴頭移動(dòng) 臺(tái)系統(tǒng) 出風(fēng) 基板 支架 氣體輸入單元 表面移動(dòng) 產(chǎn)品良率 噴頭設(shè)置 輸送氣體 相對(duì)設(shè)置 整個(gè)表面 稼動(dòng)率 顆粒物 產(chǎn)線 去除 | ||
1.一種表面清潔裝置,其特征在于,包括:可沿溫控臺(tái)的表面移動(dòng)的支架,連接在所述支架上的噴頭,以及向所述噴頭輸送氣體的氣體輸入單元;
所述噴頭設(shè)置在所述溫控臺(tái)上方,所述噴頭包括相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面,所述噴頭的第一表面上設(shè)置至少一個(gè)第一出風(fēng)口;所述噴頭的第二表面上設(shè)置至少一個(gè)第二出風(fēng)口;
所述第一出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向所述溫控臺(tái)的表面出風(fēng);
所述第二出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向基板的表面出風(fēng);
所述第一出風(fēng)口與所述噴頭的第一表面的自由端之間隔有第一距離,所述噴頭的第一表面的自由端為與所述噴頭的移動(dòng)方向同向的一端;
所述第二出風(fēng)口與所述噴頭的第二表面的自由端之間隔有第二距離,所述噴頭的第二表面的自由端為與所述噴頭的移動(dòng)方向同向的一端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,還包括:設(shè)置在所述噴頭內(nèi)部的高壓放電單元,所述高壓放電單元將所述氣體輸入單元輸入的氣體離子化后輸入第一出風(fēng)口和第二出風(fēng)口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:所述噴頭的第一表面上設(shè)置至少一個(gè)第一吸附口;所述噴頭的第二表面上設(shè)置至少一個(gè)第二吸附口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,還包括:至少一個(gè)吸附單元,至少一個(gè)所述吸附單元用于設(shè)置在所述溫控臺(tái)的與所述噴頭的移動(dòng)方向同向的一側(cè),吸附所述第一出風(fēng)口和所述第二出風(fēng)口去除的顆粒物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:所述噴頭的第一表面上設(shè)置有至少一條與所述噴頭的移動(dòng)方向平行的第一導(dǎo)流槽,所述第一導(dǎo)流槽的一端延伸到所述第一出風(fēng)口處,所述第一導(dǎo)流槽的另一端延伸到所述溫控臺(tái)的第一表面的自由端;
所述噴頭的第二表面上設(shè)置有至少一條與所述噴頭的移動(dòng)方向平行的第二導(dǎo)流槽,所述第二導(dǎo)流槽的一端延伸到所述第二出風(fēng)口處,所述第二導(dǎo)流槽的另一端延伸到所述溫控臺(tái)的第二表面的自由端。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于,還包括:控制單元,所述控制單元與所述噴頭電連接,用于控制所述噴頭的第一出風(fēng)口和第二出風(fēng)口的風(fēng)力和/或所述第一出風(fēng)口的出風(fēng)溫度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,還包括:顆粒物檢測(cè)單元和/或溫度測(cè)量單元,其中,
所述顆粒物檢測(cè)單元與所述控制單元電連接,用于檢測(cè)所述溫控臺(tái)的表面的顆粒物,并將所述溫控臺(tái)的表面的顆粒物的位置發(fā)送到所述控制單元;所述控制單元用于根據(jù)所述顆粒物的位置,控制所述噴頭移動(dòng)到所述顆粒物的位置處時(shí),增大第一出風(fēng)口的風(fēng)力;
所述溫度測(cè)量單元與所述控制單元電連接,用于檢測(cè)所述溫控臺(tái)的表面的溫度,并將所述溫控臺(tái)的表面的溫度發(fā)送到所述控制單元;所述控制單元用于根據(jù)所述溫控臺(tái)的表面的溫度和所述溫控臺(tái)的表面的設(shè)定溫度,調(diào)節(jié)所述第一出風(fēng)口的出風(fēng)溫度。
8.一種溫控臺(tái)系統(tǒng),其特征在于,包括:溫控臺(tái)和如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的表面清潔裝置;
所述溫控臺(tái)包括多個(gè)可升降的支撐針,所述多個(gè)可升降的支撐針與所述溫控臺(tái)的表面平行,所述多個(gè)可升降的支撐針用于支撐基板;
所述表面清潔裝置的噴頭的第一表面正對(duì)所述溫控臺(tái)的表面。
9.一種表面清潔方法,用于如權(quán)利要求8所述的溫控臺(tái)系統(tǒng),所述方法包括:
將所述溫控臺(tái)的多個(gè)可升降的支撐針升高,使所述支撐針與所述溫控臺(tái)的表面分離,并使所述支撐針的高度高于表面清潔裝置的噴頭的高度;
將基板放置在所述支撐針上;
開啟所述表面清潔裝置的氣體輸入單元、所述噴頭的第一出風(fēng)口和所述噴頭的第二出風(fēng)口,使所述氣體輸入單元向所述噴頭輸送氣體;
開啟表面清潔裝置的支架,使所述支架帶動(dòng)所述支架上的噴頭沿所述溫控臺(tái)的表面移動(dòng),所述第一出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向所述溫控臺(tái)的表面出風(fēng),所述第二出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向基板的表面出風(fēng)。
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