[發明專利]干蝕刻設備及干蝕刻設備的電極

在審

• 申請號: 201710302181.7
• 申請日: 2017-05-02
• 公開（公告）號: CN107170660A
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 溫俊斌
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司;重慶惠科金渝光電科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司11228
• 代理人: 亓贏

1.一種干蝕刻設備的電極，其特征在于，包括：

電極板，表面包括組件放置區及環繞所述組件放置區的邊緣區；

阻擋環，設置在所述邊緣區，位于所述組件放置區的外圍；以及

隔板，設置在所述電極板外側，鄰接所述阻擋環的外圍，所述隔板具有多個穿孔。

2.如權利要求1所述的干蝕刻設備的電極，其特征在于，所述隔板以等間距、不等間距、局部等間距或無間隔的方式設置于所述阻擋環的外圍。

3.如權利要求1所述的干蝕刻設備的電極，其特征在于，所述多個穿孔以均勻、不均勻或局部均勻的方式設置于所述隔板。

4.如權利要求1所述的干蝕刻設備的電極，其特征在于，所述多個穿孔的形狀與大小是相同、相異或局部相同。

5.一種干蝕刻設備，其特征在于，包括：

腔室；

基臺，設置于所述腔室的內部；

第一電極，設置于所述基臺上，表面包括組件放置區及環繞所述組件放置區的邊緣區；

阻擋環，設置在所述邊緣區，位于所述組件放置區的外圍；

隔板，設置在所述電極板外側，鄰接所述阻擋環的外圍，所述隔板具有多個穿孔；

第二電極，設置于所述腔室的內部并與所述第一電極對向設置；

進氣口，設置于所述腔室內側，所述進氣口的水平位置高于所述第一電極的水平位置；以及

抽氣口，設置于所述腔室內側，所述抽氣口的水平位置低于所述第一電極的水平位置。

6.如權利要求5所述的干蝕刻設備，其特征在于，所述隔板以等間距、不等間距、局部等間距或無間隔的方式設置于所述阻擋環的外圍。

7.如權利要求5所述的干蝕刻設備，其特征在于，所述多個穿孔以均勻、不均勻或局部均勻的方式設置于所述隔板。

8.如權利要求5所述的干蝕刻設備，其特征在于，所述多個穿孔的形狀與大小是相同、相異或局部相同。

9.如權利要求5所述的干蝕刻設備，其特征在于，所述抽氣口設置于所述腔室的底部，與所述隔板的開口對向設置。

10.如權利要求5所述的干蝕刻設備，其特征在于，所述抽氣口設置于所述腔室的側邊，鄰接所述隔板的開口。