[發明專利]壓印光刻法、用于壓印的主模板、線柵偏振器和顯示基底有效
| 申請號: | 201710300846.0 | 申請日: | 2017-05-02 |
| 公開(公告)號: | CN107402498B | 公開(公告)日: | 2022-08-09 |
| 發明(設計)人: | 樸昇元;金泰佑;謝磊;張大煥;李大榮;趙國來 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00;G03F1/76;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 劉燦強;陳曉博 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓印 光刻 用于 模板 偏振 顯示 基底 | ||
提供了一種壓印光刻法、由該壓印光刻法制造的主模板、使用該主模板制造的線柵偏振器以及具有該線柵偏振器的顯示基底。所述壓印光刻法包括:在第一區域和第三區域中的基底上形成第一壓印圖案,其中,第三區域與第一區域分隔開;在第二區域中的基底上形成第一抗蝕劑圖案,其中,第二區域與第一區域和第三區域相鄰;通過使用第一壓印圖案和第一抗蝕劑圖案作為蝕刻阻擋件蝕刻第一壓印圖案下方的元件,在第一區域和第三區域中形成第一圖案;在第二區域中的基底上形成第二壓印圖案;在第一區域和第三區域中的基底上形成第二抗蝕劑圖案;通過使用第二壓印圖案和第二抗蝕劑圖案作為蝕刻阻擋件蝕刻第二壓印圖案下方的元件,在第二區域中形成第二圖案。
技術領域
發明構思的示例性實施例涉及壓印光刻法、用于壓印的主模板、使用該主模板制造的線柵偏振器以及包括該線柵偏振器的顯示基底。更具體地,發明構思的示例性實施例涉及大面積壓印光刻法、用于大面積壓印的主模板、使用該主模板制造的線柵偏振器、以及包括該線柵偏振器的顯示基底。
背景技術
近來,已經制造了具有低重量和小尺寸的顯示裝置。陰極射線管(CRT)顯示裝置由于其性能和有競爭力的價格而被在先使用。然而,CRT顯示器在尺寸和/或便攜性方面具有缺點。因此,諸如等離子體顯示裝置、液晶顯示裝置和有機發光顯示裝置的顯示設備由于它們的小尺寸、低重量和低功耗而受到高度重視。
液晶顯示裝置將電壓施加到特定的分子排列以改變該分子排列。液晶顯示裝置根據分子排列的變化利用液晶單元的光學性質(例如,雙折射、旋光偏振、二色性和光散射)的變化來顯示圖像。
液晶顯示裝置包括偏振器、顯示面板、光學片和背光組件。近來,偏振器已經形成在顯示面板的內部(內嵌型偏振器)。例如,可以使用線柵偏振器。線柵偏振器可以通過壓印光刻工藝來形成。然而,用于壓印光刻工藝的主模板的尺寸受到限制,使得難以制造大尺寸的面板。
在該背景技術部分中公開的以上信息僅用于增強對發明構思的背景的理解,因此,該信息可以包含不形成在本國已被本領域普通技術人員所知曉的現有技術的信息。
發明內容
示例性實施例提供了一種用于大面積工藝的壓印光刻法。
示例性實施例還提供了一種通過該方法制造的主模板。
示例性實施例還提供了一種使用該主模板制造的線柵偏振器。
示例性實施例還提供了一種包括該線柵偏振器的顯示基底。
另外的方面將在下面的詳細描述中進行闡述,并且通過該公開部分地將是清楚的,或者可以通過發明構思的實踐而習得。
示例性實施例公開了一種壓印光刻法,該壓印光刻法包括以下步驟:在第一區域和第三區域中的基底上形成第一壓印圖案,其中,第三區域與第一區域分隔開;在第二區域中的基底上形成第一抗蝕劑圖案,其中,第二區域與第一區域和第三區域相鄰;通過使用第一壓印圖案和第一抗蝕劑圖案作為蝕刻阻擋件蝕刻在第一壓印圖案下方的元件,在第一區域和第三區域中形成第一圖案;在第二區域中的基底上形成第二壓印圖案;在第一區域和第三區域中的基底上形成第二抗蝕劑圖案;通過使用第二壓印圖案和第二抗蝕劑圖案作為蝕刻阻擋件蝕刻在第二壓印圖案下方的元件,在第二區域中形成第二圖案。
在示例性實施例中,在形成第一壓印圖案的步驟中,可以在第一區域中形成第一壓印圖案之后,在第三區域中形成第一壓印圖案。
在示例性實施例中,形成第一壓印圖案的步驟還可以包括:在第一區域和第三區域中的基底上提供樹脂溶液;使用壓印模由樹脂溶液形成第一壓印圖案。形成第二壓印圖案可以包括:在第二區域中的將要形成有第二圖案的基底上提供樹脂溶液;使用壓印模由樹脂溶液形成第二壓印圖案。
在示例性實施例中,在形成第一壓印圖案的步驟中,第一壓印圖案可以流出第一區域和第三區域。第一壓印圖案可以包括在第一區域和第三區域外部且與第一區域和第三區域相鄰的區域處形成的溢出部分。
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