[發(fā)明專利]壓印光刻法、用于壓印的主模板、線柵偏振器和顯示基底

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710300846.0
• 申請日: 2017-05-02
• 公開（公告）號: CN107402498B
• 公開（公告）日: 2022-08-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 樸昇元;金泰佑;謝磊;張大煥;李大榮;趙國來
• 申請（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G03F1/76;G02F1/1335
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 劉燦強;陳曉博

1.一種壓印光刻法，所述壓印光刻法包括以下步驟：

在第一區(qū)域和第三區(qū)域中的基礎(chǔ)基底上形成第一壓印圖案，其中，所述第三區(qū)域與所述第一區(qū)域分隔開；

在第二區(qū)域中的所述基礎(chǔ)基底上形成第一抗蝕劑圖案，其中，所述第二區(qū)域與所述第一區(qū)域和所述第三區(qū)域相鄰；

通過使用所述第一壓印圖案和所述第一抗蝕劑圖案作為蝕刻阻擋件來蝕刻所述第一壓印圖案下方的元件，在所述第一區(qū)域和所述第三區(qū)域中形成第一圖案；

在所述第二區(qū)域中的所述基礎(chǔ)基底上形成第二壓印圖案；

在所述第一區(qū)域和所述第三區(qū)域中的所述基礎(chǔ)基底上形成第二抗蝕劑圖案；以及

通過使用所述第二壓印圖案和所述第二抗蝕劑圖案作為蝕刻阻擋件來蝕刻所述第二壓印圖案下方的元件，在所述第二區(qū)域中形成第二圖案。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印光刻法，其中，形成所述第一壓印圖案的步驟包括：

在形成所述第一區(qū)域中的所述第一壓印圖案之后，在所述第三區(qū)域中形成所述第一壓印圖案。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓印光刻法，其中：

形成所述第一壓印圖案的步驟還包括：在所述第一區(qū)域和所述第三區(qū)域中的所述基礎(chǔ)基底上提供樹脂溶液，并且使用壓印模由所述樹脂溶液形成所述第一壓印圖案；

形成所述第二壓印圖案的步驟還包括：在所述第二區(qū)域中的將要形成有所述第二圖案的所述基礎(chǔ)基底上提供所述樹脂溶液，并且使用所述壓印模由所述樹脂溶液形成所述第二壓印圖案。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印光刻法，其中：

形成所述第一壓印圖案的步驟還包括樹脂溶液從所述第一區(qū)域和所述第三區(qū)域流出所述第一壓印圖案，以及

所述第一壓印圖案包括在所述第一區(qū)域和所述第三區(qū)域外部且與所述第一區(qū)域和所述第三區(qū)域相鄰的區(qū)域處形成的溢出部分。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的壓印光刻法，其中，形成所述第一抗蝕劑圖案的步驟還包括用所述第一抗蝕劑圖案覆蓋所述第一壓印圖案的所述溢出部分。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓印光刻法，其中，形成有所述第二壓印圖案的第二區(qū)域比所述第一區(qū)域和所述第三區(qū)域大。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印光刻法，其中，由所述樹脂溶液形成所述第一壓印圖案的步驟包括：

使用所述壓印模由所述樹脂溶液形成第一初始圖案；以及

蝕刻所述第一初始圖案以形成所述第一壓印圖案，其中，所述第一初始圖案包括殘留層和位于所述殘留層上的多個突起，通過蝕刻突起之間的殘留層形成所述第一壓印圖案，

其中，由所述樹脂溶液形成所述第二壓印圖案包括：

使用所述壓印模由所述樹脂溶液形成第二初始圖案；以及

蝕刻所述第二初始圖案以形成所述第二壓印圖案，其中，所述第二初始圖案包括殘留層和位于所述殘留層上的多個突起，通過蝕刻突起之間的殘留層形成所述第二壓印圖案。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印光刻法，其中，形成所述第一壓印圖案的步驟還包括：

提供所述樹脂溶液之前，在所述基礎(chǔ)基底上形成掩模層。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印光刻法，所述壓印光刻法還包括：

在第四區(qū)域中的所述基礎(chǔ)基底上形成第三壓印圖案，其中，所述第四區(qū)域與所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域和所述第三區(qū)域接觸；

在所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域和所述第三區(qū)域中的所述基礎(chǔ)基底上形成第三抗蝕劑圖案；以及

通過使用所述第三壓印圖案和所述第三抗蝕劑圖案作為蝕刻阻擋件來蝕刻所述第三壓印圖案下方的元件，在所述第四區(qū)域中形成第三圖案。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印光刻法，其中，所述第一區(qū)域至所述第三區(qū)域中的每個之間的邊界不連續(xù)地延伸。