[發明專利]用于處理腔室的陶瓷涂覆的石英蓋體

有效

• 申請號: 201710294635.0
• 申請日: 2017-04-28
• 公開（公告）號: CN107342208B
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: 伯納德·L·黃
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種用于基板處理腔室的蓋體，包含：

蓋構件，所述蓋構件具有第一表面和與所述第一表面相對的第二表面；

涂層，所述涂層包含設置在所述蓋構件上的含釔氧化物；

中央開口，所述中央開口通過所述蓋構件形成，其中所述中央開口的內輪廓包含具有第一直徑的第一段、具有第二直徑的第二段，和具有第三直徑的第三段，其中所述第一段連接至所述第一表面，所述第二段被設置在所述第一段和所述第三段之間且連接至所述第一段和所述第三段，所述第三段連接至所述第二表面，且所述第一直徑從所述第二段的所述第二直徑朝向所述蓋構件的所述第一表面逐漸增加，使得所述第一段的內表面沿著相對于所述中央開口的軸線成30°和60°之間的角度的方向延伸；和

溝槽，所述溝槽圍繞所述中央開口，所述溝槽沿著所述蓋構件的所述第一表面中的封閉路徑形成，所述溝槽具有形成在所述溝槽的內表面中的凹槽，

其中所述第二直徑從所述第一段柱面延伸至所述第三段，所述第三直徑從所述第二段柱面延伸至所述第二表面，所述第三直徑小于所述第二直徑；和

其中所述中央開口經調適以接收氣體耦合嵌件，且所述中央開口的所述第一段經成形以匹配所述氣體耦合嵌件的圓錐形或漸縮形凸緣。

2.如權利要求1所述的蓋體，其中所述凹槽具有斜角，所述斜角沿著相對于所述溝槽的底表面的方向以一角度延伸，所述角度在15°和45°之間。

3.如權利要求1所述的蓋體，其中所述蓋構件是由火焰拋光的石英制成。

4.如權利要求1所述的蓋體，其中所述蓋構件由石英制成且所述蓋構件的所述第二表面被火焰拋光。

5.如權利要求1所述的蓋體，其中所述涂層設置在所述蓋構件的所述第二表面上。

6.如權利要求1所述的蓋體，其中所述涂層具有0.001英寸至0.100英寸的厚度。

7.如權利要求1所述的蓋體，其中所述蓋構件的所述第二表面具有在2埃與150埃之間的平均表面粗糙度。

8.如權利要求1所述的蓋體，其中所述蓋構件是由非火焰拋光的石英制成。

9.如權利要求1所述的蓋體，其中所述涂層進一步包含氧化鋯、氧化鋁或上述的組合。

10.如權利要求9所述的蓋體，其中所述涂層具有0.001英寸至0.100英寸的厚度。

11.一種處理腔室，包含：

主體；

基板支撐組件，所述基板支撐組件設置在所述主體內部；

覆蓋所述主體的蓋體，所述蓋體包含：

板，所述板具有第一表面和與所述第一表面相對的第二表面；

涂層，所述涂層包含設置在所述板上的含釔氧化物；

中央開口，所述中央開口通過所述板形成，其中所述中央開口的內輪廓包含具有第一直徑的第一段、具有第二直徑的第二段，和具有第三直徑的第三段，其中所述第一段連接至所述第一表面，所述第二段被設置在所述第一段和所述第三段之間且連接至所述第一段和所述第三段，所述第三段連接至所述第二表面，且所述第一直徑從所述第二段的所述第二直徑朝向所述板的所述第一表面逐漸增加，使得所述第一段的內表面沿著相對于所述中央開口的軸線成30°和60°之間的角度的方向延伸，所述第二直徑從所述第一段柱面延伸至所述第三段，所述第三直徑從所述第二段柱面延伸至所述第二表面，所述第三直徑小于所述第二直徑；和

溝槽，形成在所述第一表面中，所述溝槽圍繞所述中央開口；和

氣體耦合嵌件，所述氣體耦合嵌件設置在所述中央開口內且具有經成形以匹配所述第一直徑的漸縮形凸緣。

12.如權利要求11所述的處理腔室，其中所述溝槽具有形成在所述溝槽的內表面中的凹槽。