[發明專利]一種高強度光催化薄膜的制備方法

在審

• 申請號: 201710291474.X
• 申請日: 2017-04-28
• 公開（公告）號: CN107008241A
• 公開（公告）日: 2017-08-04
• 發明（設計）人: 楊林
• 申請（專利權）人: 楊林
• 主分類號: B01J21/06
• 分類號: B01J21/06;B01J35/06;B01J37/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種高強度光催化薄膜的制備方法，其特征在于：其步驟如下：

步驟1，將納米二氧化鈦溶解在乙酸乙酯中，加入穩定劑，低溫攪拌形成懸濁液，所述納米二氧化鈦與乙酸乙酯的質量比例為1:15-30，所述穩定劑為納米二氧化鈦的2-4%；

步驟2，將鈦酸四丁酯加入至無水乙醇中，加入無水乙酸攪拌均勻后，緩慢滴加乙酰丙酮直至完全溶解，形成黃色溶膠液，所述鈦酸四丁酯：無水乙醇：無水乙酸：乙酰丙酮為20:60:2:5；

步驟3，將黃色溶膠液中加入聚乙烯吡咯烷酮，密封加溫反應，形成分散溶膠液，聚乙烯吡咯烷酮的質量是鈦酸四丁酯的1.2-1.5倍；

步驟4，將懸濁液放入超聲儀中超聲2-4h，并緩慢滴加分散溶膠液，直至完全混合，得到米黃色懸濁液，所述分散溶膠液：懸濁液的質量比為3:7-11；

步驟5，將基材浸泡米黃色懸濁液后恒溫烘干，然后放入密封反應釜中加壓加熱反應3-5h，自然冷卻至室溫，得到光催化薄膜；

步驟6，將光催化薄膜進行低超聲清洗，晾干后進行紫外光照激活反應，得到高強度光催化薄膜。

2.根據權利要求1所述的一種高強度光催化薄膜的制備方法，其特征在于，步驟1中的納米二氧化鈦的粒徑為10-100nm，所述納米二氧化鈦采用銳鈦型或者鈦白型。

3.根據權利要求1所述的一種高強度光催化薄膜的制備方法，其特征在于，步驟1中的穩定劑采用聚乙烯醇，所述低溫攪拌的溫度為5-10℃，所述攪拌速度為2000-3500℃，所述攪拌時間為30-90min。

4.根據權利要求1所述的一種高強度光催化薄膜的制備方法，其特征在于，步驟2中的緩慢滴加速度為2-3ml/min，所述滴加攪拌速度為500-800r/min。

5.根據權利要求1所述的一種高強度光催化薄膜的制備方法，其特征在于，步驟3中的密封加溫反應的溫度為60-75℃。

6.根據權利要求1所述的一種高強度光催化薄膜的制備方法，其特征在于，步驟4中的超聲頻率為10-20kHz，所述滴加速度為5-15mL/min。

7.根據權利要求1所述的一種高強度光催化薄膜的制備方法，其特征在于，步驟5中恒溫烘干溫度為30-50℃，所述加壓加熱反應的反應溫度為300-350℃，所述加壓采用梯度加壓反應。

8.根據權利要求7所述的一種高強度光催化薄膜的制備方法，其特征在于，所述梯度加壓反應的壓力變化程序如下：2-3MPa反應10-15min，4-6MPa反應15-20min，8-10MPa反應15-20min，最后持續10MPa反應。

9.根據權利要求1所述的一種高強度光催化薄膜的制備方法，其特征在于，步驟6中低超聲的超聲頻率為0.5-1.5kHz，所述超聲時間為10-15min，所述紫外光照的時間為20-40min，紫外采用365nm的紫外燈。