[發(fā)明專利]半導(dǎo)體發(fā)光模塊及其半導(dǎo)體發(fā)光二極管芯片在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710288411.9 | 申請日: | 2017-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN108666400A | 公開(公告)日: | 2018-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 葉志庭;潘錫明 | 申請(專利權(quán))人: | 宏齊科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/44 | 分類號: | H01L33/44;H01L33/46 |
| 代理公司: | 隆天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 李昕巍;章侃銥 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 導(dǎo)光結(jié)構(gòu) 反光結(jié)構(gòu) 半導(dǎo)體發(fā)光二極管芯片 半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu) 投射光源 發(fā)光模塊 發(fā)光層 半導(dǎo)體 廣角光源 投射 配合 | ||
1.一種半導(dǎo)體發(fā)光二極管芯片,其特征在于,所述半導(dǎo)體發(fā)光二極管芯片包括:
一半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu),所述半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu)包括多個按序堆疊的半導(dǎo)體材料層,其中,多個所述半導(dǎo)體材料層之中的其中四層分別為一基底層、一n型導(dǎo)電層、一發(fā)光層以及一p型導(dǎo)電層;
一導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層,所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層連接于所述基底層;以及
一反光結(jié)構(gòu)層,所述反光結(jié)構(gòu)層連接于所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層;
其中,所述發(fā)光層連接于所述n型導(dǎo)電層與所述p型導(dǎo)電層之間,以用于產(chǎn)生一投射光源,且所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層連接于所述基底層與所述反光結(jié)構(gòu)層之間,以用于接收所述投射光源;
其中,所述發(fā)光層所產(chǎn)生的所述投射光源投向所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層與所述反光結(jié)構(gòu)層,且投向所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層與所述反光結(jié)構(gòu)層的所述投射光源通過所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層與所述反光結(jié)構(gòu)層的配合,以形成一從所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層的一外表面投射而出的廣角光源。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體發(fā)光二極管芯片,其特征在于,所述基底層、所述n型導(dǎo)電層、所述發(fā)光層以及所述p型導(dǎo)電層按序堆疊,且所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層的厚度介于0.4mm至0.8mm之間,其中,所述基底層為一藍寶石材料層,所述n型導(dǎo)電層為一n型氮化鎵材料層,且所述p型導(dǎo)電層為一p型氮化鎵材料層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體發(fā)光二極管芯片,其特征在于,所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層具有一入光面以及一圍繞地連接于所述入光面的圍繞出光面,所述入光面連接于所述基底層,且所述圍繞出光面圍繞地連接于所述基底層與所述反光結(jié)構(gòu)層之間,其中,所述發(fā)光層所產(chǎn)生的所述投射光源穿過所述入光面以進入所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層內(nèi),且進入所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層內(nèi)的所述投射光源穿過所述圍繞出光面以離開所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層而形成所述廣角光源。
4.一種半導(dǎo)體發(fā)光模塊,其特征在于,所述半導(dǎo)體發(fā)光模塊包括:
一電路基板;以及
一半導(dǎo)體發(fā)光二極管芯片,所述半導(dǎo)體發(fā)光二極管芯片設(shè)置在所述電路基板上,其中,所述半導(dǎo)體發(fā)光二極管芯片包括:
一半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu),所述半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu)包括多個按序堆疊的半導(dǎo)體材料層,其中,多個所述半導(dǎo)體材料層之中的其中四層分別為一基底層、一n型導(dǎo)電層、一發(fā)光層以及一p型導(dǎo)電層;
一導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層,所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層連接于所述基底層;以及
一反光結(jié)構(gòu)層,所述反光結(jié)構(gòu)層連接于所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層;
其中,所述n型導(dǎo)電層的外側(cè)端具有一第一芯片焊墊,且所述n型導(dǎo)電層的所述第一芯片焊墊通過一第一導(dǎo)電單元以電性連接于所述電路基板的一第一基板焊墊;
其中,所述p型導(dǎo)電層的外側(cè)端具有一第二芯片焊墊,且所述p型導(dǎo)電層的所述第二芯片焊墊通過一第二導(dǎo)電單元以電性連接于所述電路基板的一第二基板焊墊;
其中,所述發(fā)光層連接于所述n型導(dǎo)電層與所述p型導(dǎo)電層之間,以用于產(chǎn)生一投射光源,且所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層連接于所述基底層與所述反光結(jié)構(gòu)層之間,以用于接收所述投射光源;
其中,所述發(fā)光層所產(chǎn)生的所述投射光源投向所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層與所述反光結(jié)構(gòu)層,且投向所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層與所述反光結(jié)構(gòu)層的所述投射光源通過所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層與所述反光結(jié)構(gòu)層的配合,以形成一從所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層的一外表面投射而出的廣角光源。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體發(fā)光模塊,其特征在于,所述基底層、所述n型導(dǎo)電層、所述發(fā)光層以及所述p型導(dǎo)電層按序堆疊,且所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層的厚度介于0.4mm至0.8mm之間,其中,所述基底層為一藍寶石材料層,所述n型導(dǎo)電層為一n型氮化鎵材料層,且所述p型導(dǎo)電層為一p型氮化鎵材料層。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體發(fā)光模塊,其特征在于,所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層具有一入光面以及一圍繞地連接于所述入光面的圍繞出光面,所述入光面連接于所述基底層,且所述圍繞出光面圍繞地連接于所述基底層與所述反光結(jié)構(gòu)層之間,其中,所述發(fā)光層所產(chǎn)生的所述投射光源穿過所述入光面以進入所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層內(nèi),且進入所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層內(nèi)的所述投射光源穿過所述圍繞出光面以離開所述導(dǎo)光結(jié)構(gòu)層而形成所述廣角光源。
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