[發(fā)明專利]圖像處理方法和圖像處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710288252.2 | 申請日: | 2017-04-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107341771B | 公開(公告)日: | 2020-08-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 川端優(yōu);中野貴司;夏秋和弘;瀧本貴博;山崎信夫;本田大輔;玉井幸夫 | 申請(專利權(quán))人: | 夏普株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G06T5/00 | 分類號(hào): | G06T5/00 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳;楊藝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像 處理 方法 裝置 | ||
本發(fā)明提供一種圖像處理方法和圖像處理裝置,圖像處理方法包括:亮度值信息獲取步驟,從被攝體獲取有效輻射亮度值;和圖像生成步驟,從上述有效輻射亮度值中去除上述被攝體的表面的正反射光成分的至少一部分而得到亮度值,生成拍攝圖像,該拍攝圖像為具有該亮度值的單位區(qū)域的集合。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及對虹膜認(rèn)證中使用的圖像進(jìn)行處理的圖像處理方法、圖像處理裝置和圖像處理程序。
背景技術(shù)
近年來,開發(fā)有在對被攝體進(jìn)行拍攝而得到的圖像中,將來自被攝體的反射光中包含的擴(kuò)散反射成分和鏡面反射成分分離的技術(shù)。這是因?yàn)椋瑘D像處理算法大多以擴(kuò)散反射為前提,鏡面反射可能成為圖像處理算法性能降低的主要原因。在專利文獻(xiàn)1中公開有將上述兩個(gè)反射成分分離的技術(shù)的一個(gè)例子。
在專利文獻(xiàn)1中,公開有包含下述(1)~(5)的工序的圖像處理方法。
(1)在任意的照明下,由相機(jī)通過主軸方向相互不同的偏振元件拍攝被攝體的多個(gè)圖像。
(2)對拍攝到的多個(gè)圖像的產(chǎn)生鏡面反射的像素組,按每個(gè)像素,根據(jù)被攝體的法線矢量和視線矢量確定入射面。
(3)按每個(gè)上述像素,根據(jù)被攝體的法線矢量和視線矢量確定入射角。
(4)將入射面和入射角這兩者都類似的像素彼此聚類而形成像素集合。
(5)在像素集合中,假定擴(kuò)散反射成分與鏡面反射成分之間的概率獨(dú)立性而分離反射成分。
根據(jù)專利文獻(xiàn)1的圖像處理方法,在一般的照明環(huán)境下也能夠?qū)U(kuò)散反射成分與鏡面反射成分分離。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本公開特許公報(bào)“特許第3955616號(hào)公報(bào)(2007年5月11日注冊)”
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的技術(shù)問題
可是,在專利文獻(xiàn)1中,未公開關(guān)于降低來自被攝體的反射光中包含的正反射光成分后進(jìn)行虹膜認(rèn)證的內(nèi)容。
本申請的一個(gè)方式的目的在于實(shí)現(xiàn)能夠降低正反射光成分的圖像處理方法等。
解決技術(shù)問題的技術(shù)方案
為了解決上述的問題,本申請的一個(gè)方式的圖像處理方法包括:亮度值信息獲取步驟,利用以與主軸方向相互不同的多個(gè)偏振元件對應(yīng)的多個(gè)像素為一個(gè)像素單元并將上述像素單元二維地排列的攝像元件,從被攝體獲取該攝像元件的作為該被攝體的有效的輻射亮度值的有效輻射亮度值;和圖像生成步驟,使用從上述被攝體獲取的有效輻射亮度值生成包含上述被攝體的像的拍攝圖像,在上述圖像生成步驟中,按與上述被攝體的至少一部分對應(yīng)的每個(gè)上述像素單元,從該像素單元中包含的多個(gè)像素的有效輻射亮度值中去除上述被攝體的表面的正反射光成分的至少一部分而得到亮度值,生成作為具有該亮度值的單位區(qū)域的集合的上述拍攝圖像。
此外,本申請的一個(gè)方式的圖像處理方法包括:獲取由攝像元件拍攝到的被攝體的圖像的步驟,該攝像元件以與主軸方向相互不同的多個(gè)偏振元件對應(yīng)的多個(gè)像素為一個(gè)像素單元并將該像素單元二維地排列;和使用上述攝像元件的輸出來計(jì)算依賴于射向上述被攝體的入射角的S偏振光的亮度分布的步驟,該入射角由與上述攝像元件的上述像素單元的二維的位置對應(yīng)的上述被攝體上的位置決定。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于夏普株式會(huì)社,未經(jīng)夏普株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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