[發明專利]減阻銅表面的制備方法

在審

• 申請號: 201710286816.9
• 申請日: 2017-04-27
• 公開（公告）號: CN107164746A
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 盧艷;魏青
• 申請（專利權）人: 武漢科技大學
• 主分類號: C23C18/16
• 分類號: C23C18/16;C23C28/02;C23C18/40;C25D3/12
• 代理公司: 上海光華專利事務所31219
• 代理人: 陸蕾

1.一種減阻銅表面的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)對純銅或含銅的合金進行預處理，形成基底一；純銅中的銅含量為99.9％以上，含銅的合金中的銅含量為80％以上；

2)在基底一上鍍銅，具體為：將所述基底一浸入含銅元素的化學鍍液中進行化學沉積，反應完成后，形成基底二；

3)在基底二上鍍鎳，具體為：將制備好的所述基底二作為陰極，純鎳板作為陽極，浸入電鍍液中進行電化學沉積，反應完成后，形成基底三；

4)修飾，將基底三浸入低表面能的有機分子液中，獲得減阻銅。

2.根據權利要求1所述的類荷葉微納多級結構減阻銅表面的制備方法，其特征在于：所述化學鍍液為含0.03-0.04mol/L的硫酸銅，0.007-0.009mol/L的硫酸鎳，0.06-0.07mol/L的次磷酸鈉，0.25-0.29mol/L的檸檬酸鈉，0.4-0.6mol/L的硼酸以及50ppm聚乙二醇的混合水溶液。

3.根據權利要求1所述的類荷葉微納多級結構減阻銅表面的制備方法，其特征在于：所述電鍍液為含1mol/L的氯化鎳，0.5mol/L的硼酸和1.5mol/L的鹽酸乙二胺的混合水溶液。

4.根據權利要求1所述的類荷葉微納多級結構減阻銅表面的制備方法，其特征在于：所述步驟1)中的預處理具體為：將所述純銅或含銅的合金用金相磨拋機打磨，在丙酮中超聲清洗，再堿洗酸洗，冷風干燥。

5.根據權利要求4所述的類荷葉微納多級結構減阻銅表面的制備方法，其特征在于：所述堿洗所用堿溶液具體為：45-50g/L Na₃PO₄·12H₂O,50-55g/L NaOH和3-8g/LNa₂SiO₃的水溶液，且在室溫下堿洗一分鐘。

6.根據權利要求4所述的類荷葉微納多級結構減阻銅表面的制備方法，其特征在于：所述酸洗所用酸溶液具體為：濃度為10％的H₂SO₄水溶液，在室溫下酸洗10s。

7.根據權利要求1所述的類荷葉微納多級結構減阻銅表面的制備方法，其特征在于：所述低表面能的有機分子液為含氟硅烷溶液。