[發明專利]磁場提供裝置、磁控濺射設備及磁控濺射的方法

有效

• 申請號: 201710286637.5
• 申請日: 2017-04-27
• 公開（公告）號: CN107012440B
• 公開（公告）日: 2019-03-12
• 發明（設計）人: 杜建華;王鑫
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;劉偉

1.一種磁場提供裝置，其中，所述磁場提供裝置包括多個磁鐵單元和多個調節結構，其中每一所述磁鐵單元分別與一個所述調節結構相連接，其特征在于，所述磁場提供裝置還包括：

多個磁場檢測元件，在一檢測平面內呈陣列分布，用于檢測所述檢測平面內不同位置的磁場強度；

其中，多個磁鐵單元分別與所述檢測平面相對設置，多個所述磁場檢測元件位于所述磁鐵單元的磁場中；

通過所述調節結構，所述磁鐵單元相對于所述檢測平面的距離變化，以調節所述磁場檢測元件檢測獲得的磁場強度，使所述檢測平面上的磁場強度均勻。

2.根據權利要求1所述的磁場提供裝置，其特征在于，所述磁場提供裝置還包括：

控制器，分別與所述調節結構和所述磁場檢測元件相連接，所述控制器用于獲取所述磁場檢測元件檢測的磁場強度，當至少兩個所述磁場檢測元件檢測獲得磁場強度的差值大于預設數值時，向部分所述磁鐵單元相連接的所述調節結構發出控制信號；

其中，所述調節結構根據所述控制信號，調節相連接所述磁鐵單元相對于所述檢測平面的距離，使距離調節后每兩個所述磁場檢測元件檢測獲得磁場強度的差值均小于等于所述預設數值。

3.根據權利要求1所述的磁場提供裝置，其特征在于，所述磁場提供裝置還包括：

翻轉驅動結構，用于當所述檢測平面上的磁場強度均勻后，驅動所述磁鐵單元從與所述檢測平面相對的第一狀態翻轉至與一設置平面相對的第二狀態，其中所述設置平面平行于所述檢測平面，所述磁鐵單元位于所述設置平面與所述檢測平面之間，且每一所述磁鐵單元，在所述第一狀態時與所述檢測平面之間的垂直距離等于在所述第二狀態時與所述設置平面之間的垂直距離。

4.根據權利要求3所述的磁場提供裝置，其特征在于，所述磁場提供裝置包括：

形成有一容置空間的殼體，其中多個所述磁鐵單元設置于所述容置空間中，所述殼體的相對兩個端面設置有固定軸；

所述翻轉驅動結構包括驅動電機，所述驅動電機與所述固定軸連接，通過驅動所述固定軸帶動所述殼體轉動，所述磁鐵單元在所述第一狀態和所述第二狀態之間動作。

5.根據權利要求1所述的磁場提供裝置，其特征在于，所述磁場提供裝置還包括：

模數轉換器，用于獲取所述磁場檢測元件所檢測磁場強度的檢測信號，將所述檢測信號轉換為數字信號；

顯示器，用于顯示所述數字信號。

6.根據權利要求1所述的磁場提供裝置，其特征在于，所述磁場檢測元件為霍爾傳感器。

7.根據權利要求1所述的磁場提供裝置，其特征在于，所述調節結構包括：馬達和滾珠絲杠，其中所述滾珠絲杠的螺桿垂直于所述檢測平面，所述磁鐵單元與所述滾珠絲杠的螺母固定連接，通過所述馬達驅動所述螺桿轉動，所述螺母相對于所述螺桿移動，所述磁鐵單元相對于所述檢測平面的距離變化。

8.根據權利要求1所述的磁場提供裝置，其特征在于，每一所述磁鐵單元包括依次平行設置的三個磁體，其中相鄰兩個磁體的磁極不同。

9.一種磁控濺射設備，包括反應腔室和設置在所述反應腔室內如權利要求1至8任一項所述的磁場提供裝置。

10.根據權利要求9所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述反應腔室內設置有靶材承載部，所述靶材承載部上的靶材與所述磁場提供裝置內的所述檢測平面相平行，所述磁鐵單元位于所述檢測平面與所述靶材之間。