[發(fā)明專利]蒸鍍?cè)匆约罢翦冊(cè)O(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710283956.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106929804A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-07-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 潘愛(ài)軍;陳紅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昆山國(guó)顯光電有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蒸鍍?cè)?/a> 以及 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及制造技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種蒸鍍?cè)匆约罢翦冊(cè)O(shè)備。
背景技術(shù)
OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)發(fā)光二級(jí)管,簡(jiǎn)稱OLED)顯示屏由于具有薄、輕、寬視角、主動(dòng)發(fā)光、發(fā)光顏色連續(xù)可調(diào)、成本低、響應(yīng)速度快、能耗小、驅(qū)動(dòng)電壓低、工作溫度范圍寬、生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單、發(fā)光效率高及可柔性顯示等優(yōu)點(diǎn),已被列為極具發(fā)展前景的顯示技術(shù)
在基板上形成OLED器件通常采用蒸鍍工藝,其是指在一定的真空條件下加熱鍍膜材料,使鍍膜材料熔化(或升華)成原子、分子或原子團(tuán)組成的蒸氣,然后沉積在基板表面成膜,從而形成OLED器件的功能層。其中,作為收容鍍膜材料的容器的蒸鍍?cè)词潜夭豢缮俚牟考?/p>
圖1a和圖1b是兩種典型的蒸鍍?cè)?0。具體的,圖1a所示的蒸鍍?cè)?0為舟狀結(jié)構(gòu),鍍膜材料20設(shè)置在蒸鍍?cè)?0的凹槽內(nèi),且由鍍膜材料20加熱形成的蒸氣將如圖中箭頭所指的方向運(yùn)動(dòng),但具體的運(yùn)動(dòng)方向不受限制,因此,該蒸鍍?cè)?0的形式為自由蒸發(fā)型。圖1b所示的蒸鍍?cè)?0為頂部敞開(kāi)的坩鍋,且底部的鍍膜材料20加熱后形成的蒸氣的運(yùn)動(dòng)方向受坩鍋內(nèi)腔形狀的限制,相比于圖1a,具有一定的方向性。該兩種蒸鍍?cè)措m然蒸鍍速度較快,但是蒸氣運(yùn)動(dòng)的方向性較差,容易導(dǎo)致待鍍膜的基板上出現(xiàn)蒸鍍陰影,致使膜厚不均以致產(chǎn)生邊緣亮度不均勻問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種蒸鍍?cè)匆约罢翦冊(cè)O(shè)備,可以改善蒸鍍陰影所導(dǎo)致的膜厚不均問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種蒸鍍?cè)矗ň哂袃?nèi)腔的本體,所述本體上開(kāi)設(shè)有與所述內(nèi)腔連通的開(kāi)孔,所述本體通過(guò)所述開(kāi)孔使鍍膜材料從所述內(nèi)腔中排出;其中,所述開(kāi)孔具有第一內(nèi)徑和第二內(nèi)徑,所述第一內(nèi)徑靠近所述鍍膜材料流出所述開(kāi)孔的方向,所述第二內(nèi)徑靠近所述鍍膜材料流進(jìn)所述開(kāi)孔的方向,且所述第一內(nèi)徑小于或等于所述第二內(nèi)徑。
可選的,所述本體為對(duì)稱結(jié)構(gòu),所述開(kāi)孔與所述本體同軸布置。
可選的,所述開(kāi)孔的橫向截面為中心對(duì)稱且軸對(duì)稱圖形。
可選的,所述開(kāi)孔的橫向截面為圓形或橢圓形。
可選的,所述第一內(nèi)徑與所述第二內(nèi)徑的比值在0.25~0.5之間。
可選的,所述開(kāi)孔的深度等于所述第二內(nèi)徑與所述第一內(nèi)徑的差值。
可選的,所述本體包括第一部分以及與所述第一部分相連接的第二部分,所述第一部分具有第一內(nèi)腔,所述第二部分具有第二內(nèi)腔,所述第二內(nèi)腔與所述第一內(nèi)腔連通,所述第一內(nèi)腔和所述第二內(nèi)腔構(gòu)成所述內(nèi)腔,所述開(kāi)孔開(kāi)設(shè)在所述第二部分上并與所述第二內(nèi)腔貫通。
可選的,所述第二部分的縱截面形狀為弧形。
可選的,所述本體包括第一部分以及與所述第一部分相連接的第二部分,所述第一部分具有第一內(nèi)腔,所述第二部分具有第二內(nèi)腔,所述第二內(nèi)腔與所述第一內(nèi)腔連通,所述第一內(nèi)腔構(gòu)成所述內(nèi)腔,所述第二內(nèi)腔直接形成為所述開(kāi)孔。
可選的,所述本體還包括與所述第一部分相連接的第三部分,所述第三部分與所述第一部分共同形成有所述第一內(nèi)腔,所述第二部分與所述第三部分中的至少一個(gè)與所述第一部分以可拆卸的方式連接。
可選的,所述蒸鍍?cè)礊槎鄠€(gè),多個(gè)所述蒸鍍?cè)磁帕谐梢粭l直線。
進(jìn)一步的,本發(fā)明另提供了一種包括上述任意一項(xiàng)所述的蒸鍍?cè)吹恼翦冊(cè)O(shè)備。
綜上,本發(fā)明提供的蒸鍍?cè)匆约罢翦冊(cè)O(shè)備中,所述蒸鍍?cè)窗ň哂袃?nèi)腔的本體,所述本體上開(kāi)設(shè)有與所述內(nèi)腔連通的開(kāi)孔,所述本體通過(guò)所述開(kāi)孔使鍍膜材料從所述內(nèi)腔中排出,其中,所述開(kāi)孔具有第一內(nèi)徑和第二內(nèi)徑,所述第一內(nèi)徑靠近所述鍍膜材料流出所述開(kāi)孔的方向,所述第二內(nèi)徑靠近所述鍍膜材料流進(jìn)所述開(kāi)孔的方向,且所述第一內(nèi)徑小于或等于所述第二內(nèi)徑,這樣的結(jié)構(gòu),可利用由進(jìn)口端向出口端方向尺寸不變或漸窄的開(kāi)孔排出鍍膜材料,以此來(lái)調(diào)整鍍膜材料從蒸鍍?cè)磁懦龅慕嵌群头较颍瑥亩瑰兡げ牧吓懦龅姆较蛐愿茫M(jìn)而解決蒸鍍陰影所導(dǎo)致的邊緣缺陷,提升蒸鍍效果。
附圖說(shuō)明
圖1a是現(xiàn)有的一種蒸鍍?cè)吹慕Y(jié)構(gòu)示意圖;
圖1b是現(xiàn)有的另一種蒸鍍?cè)吹慕Y(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)吹慕Y(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的開(kāi)孔的縱向截面示意圖;
圖4是圖3所示的開(kāi)孔的蒸鍍?cè)韴D;
圖5是本發(fā)明再一實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)吹慕Y(jié)構(gòu)示意圖;
圖6是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蒸鍍?cè)O(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖標(biāo)記說(shuō)明如下:
10-蒸鍍?cè)矗?0-鍍膜材料;
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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