[發明專利]等離子體發生裝置有效
| 申請號: | 201710272198.2 | 申請日: | 2017-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN108732234B | 公開(公告)日: | 2020-09-29 |
| 發明(設計)人: | 趙向陽 | 申請(專利權)人: | 上海新昇半導體科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N27/62 | 分類號: | G01N27/62 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 余昌昊 |
| 地址: | 201306 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子體 發生 裝置 | ||
本發明提供了一種等離子體發生裝置,所述等離子體發生裝置包括本體、第一管體、第二管體和第三管體,其中:所述本體分別連接所述第一管體、所述第二管體和所述第三管體的頂端;所述第一管體位于所述第二管體中,所述第二管體位于所述第三管體中;所述第一管體的長度小于所述第二管體,所述第二管體的長度小于所述第三管體;所述第二管體包括第一端部,所述第一端部靠近所述第二管體的末端;所述第二管體具有一個或多個第一類孔,所述第一類孔位于所述第一端部的側壁上。
技術領域
本發明涉及元素分析技術領域,特別涉及一種等離子體發生裝置。
背景技術
電感耦合等離子體質譜技術(ICP-MS)是最強有力的元素分析技術,尤其是檢測微量和痕量元素。電感耦合等離子體質譜儀器主要由:進樣系統、接口與離子透鏡、質量分析器、檢測器、矩管及電離發生裝置等構成。
如圖1~2所示,在矩管及電離發生裝置1中,射頻線圈11產生電磁場,通過高頻裝置使輔助氣體管13中輸出的氬氣電離,氬離子和電子在電磁場作用下與其他氬原子碰撞產生更多的氬離子和電子,強大的電流產生高溫,使氬氣形成溫度達10000K的等離子體焰炬12,樣品由載氣氬氣帶入等離子體焰炬12發生蒸發,分解,激發和電離。現有的炬管及電離發生裝置1中會有樣品或氬氣的溶液殘留,會使等離子體焰炬12熄滅造成測試中止,或根本無法將焰矩點燃。矩管及電離發生裝置1中還包括霧化裝置14和排液管18,對樣品進行霧化以及排放樣品霧化不完全形成的溶液。
因此,需要設計一種防止焰矩熄滅的等離子體發生裝置。
發明內容
本發明的目的在于提供一種等離子體發生裝置,以解決現有的炬管及電離發生裝置焰矩熄滅的問題。
為解決上述技術問題,本發明提供一種等離子體發生裝置,所述等離子體發生裝置包括本體、第一管體、第二管體和第三管體,其中:
所述本體分別連接所述第一管體、所述第二管體和所述第三管體的頂端;所述第一管體位于所述第二管體中,所述第二管體位于所述第三管體中;
所述第一管體的長度小于所述第二管體,所述第二管體的長度小于所述第三管體;
所述第二管體包括第一端部,所述第一端部靠近所述第二管體的末端;所述第二管體具有一個或多個第一類孔,所述第一類孔位于所述第一端部的側壁上。
可選的,在所述的等離子體發生裝置中,所述第三管體包括內側壁和外側壁,其中:
所述內側壁位于所述外側壁中,所述內側壁和所述外側壁形成中空結構;
所述內側壁包括第二端部,所述第二端部靠近所述第三管體的末端,所述內側壁具有一個或多個第二類孔,所述第二類孔位于所述第二端部上;
所述外側壁具有一個或多個第三類孔。
可選的,在所述的等離子體發生裝置中,所述第二端部向所述第三管體的內部收縮。
可選的,在所述的等離子體發生裝置中,所述第一管體噴射混合氣體,所述混合氣體包括承載氣體和樣品。
可選的,在所述的等離子體發生裝置中,所述承載氣體為氦氣、氖氣、氬氣、氪氣或氙氣。
可選的,在所述的等離子體發生裝置中,所述第二管體噴射輔助氣體。
可選的,在所述的等離子體發生裝置中,所述輔助氣體為氦氣、氖氣、氬氣、氪氣或氙氣。
可選的,在所述的等離子體發生裝置中,所述第三管體噴射冷卻氣體。
可選的,在所述的等離子體發生裝置中,所述冷卻氣體為氦氣、氖氣、氬氣、氪氣或氙氣。
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