[發明專利]等離子體發生裝置

有效

• 申請號: 201710272198.2
• 申請日: 2017-04-24
• 公開（公告）號: CN108732234B
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 趙向陽
• 申請（專利權）人: 上海新昇半導體科技有限公司
• 主分類號: G01N27/62
• 分類號: G01N27/62
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 余昌昊

1.一種等離子體發生裝置，其特征在于，所述等離子體發生裝置包括本體、第一管體、第二管體和第三管體，其中：

所述本體分別連接所述第一管體、所述第二管體和所述第三管體的頂端；所述第一管體位于所述第二管體中，所述第二管體位于所述第三管體中；

所述第一管體的長度小于所述第二管體，所述第二管體的長度小于所述第三管體；

所述第二管體包括第一端部，所述第一端部靠近所述第二管體的末端；所述第二管體具有一個或多個第一類孔，所述第一類孔位于所述第一端部的側壁上。

2.如權利要求1所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述第三管體包括內側壁和外側壁，其中：

所述內側壁位于所述外側壁中，所述內側壁和所述外側壁形成中空結構；

所述內側壁包括第二端部，所述第二端部靠近所述第三管體的末端，所述內側壁具有一個或多個第二類孔，所述第二類孔位于所述第二端部上；

所述外側壁具有一個或多個第三類孔。

3.如權利要求2所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述第二端部向所述第三管體的內部收縮。

4.如權利要求2所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述第一管體噴射混合氣體，所述混合氣體包括承載氣體和樣品。

5.如權利要求4所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述承載氣體為氦氣、氖氣、氬氣、氪氣或氙氣。

6.如權利要求4所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述第二管體噴射輔助氣體。

7.如權利要求6所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述輔助氣體為氦氣、氖氣、氬氣、氪氣或氙氣。

8.如權利要求6所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述第三管體噴射冷卻氣體。

9.如權利要求8所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述冷卻氣體為氦氣、氖氣、氬氣、氪氣或氙氣。

10.如權利要求4所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述等離子體發生裝置還包括霧化裝置，所述霧化裝置將所述樣品進行霧化后輸送到所述第一管體中。

11.如權利要求10所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述等離子體發生裝置還包括進樣裝置，所述進樣裝置包括樣品架、進樣管和機械臂，其中：

所述樣品架承載所述樣品，所述進樣管的頂端連接所述霧化裝置，所述機械臂帶動所述進樣管移動以使所述進樣管的末端接觸所述樣品架的不同區域。

12.如權利要求11所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述樣品架的形狀為圓盤狀，所述樣品架的中心區域設有一清洗槽，所述樣品架上分布多個開口，每個所述開口中容置一個容器，所述容器中承載有所述樣品。

13.如權利要求12所述的等離子體發生裝置，其特征在于，所述機械臂帶動所述進樣管移動到第一位置后下降，所述進樣管的末端浸入某個所述容器中；

所述機械臂帶動所述進樣管上升，移動到第二位置后下降，所述進樣管的末端浸入到所述清洗槽中；

所述樣品架旋轉一定角度。