[發(fā)明專利]坩鍋有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710249202.3 | 申請日: | 2017-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN106906444B | 公開(公告)日: | 2019-01-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳彥光 | 申請(專利權(quán))人: | 友達光電股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁揮;鮑俊萍 |
| 地址: | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 坩鍋 | ||
1.一種坩鍋,其特征在于,包含:
一鍋體,具有一空腔;
一內(nèi)蓋,設(shè)置于該鍋體的該空腔內(nèi),并具有一第一下表面及至少一孔洞,該第一下表面朝向該鍋體的一底部,并朝該鍋體的該底部突出,且該鍋體的該底部與該內(nèi)蓋的該第一下表面之間的垂直距離,自該第一下表面的一邊緣朝該第一下表面的一中心點漸減少;以及
一外蓋,設(shè)置于該內(nèi)蓋的上方,并具有一開口于其中;
該外蓋更包含一第二下表面,該第二下表面朝向該內(nèi)蓋,并傾斜于該鍋體的一側(cè)壁,且該鍋體的該底部與該外蓋的該第二下表面之間的垂直距離,自該第二下表面的一邊緣朝該開口漸增加。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的坩鍋,其特征在于,該外蓋的該第二下表面傾斜于該鍋體的該側(cè)壁,并與該鍋體的該側(cè)壁夾一角度θ,且10°≦θ≦20°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的坩鍋,其特征在于,該內(nèi)蓋具有多個該些孔洞,且該些孔洞配置于該第一下表面的該邊緣,以圍繞該第一下表面的一頂點,其中該些孔洞至該外蓋的垂直投影落于該開口之外。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的坩鍋,其特征在于,該內(nèi)蓋更包含一上表面,該上表面朝向該外蓋并朝該外蓋突出,且該鍋體的該底部與該內(nèi)蓋的該上表面之間的垂直距離,自該上表面的一邊緣朝該上表面的一中心點漸增加。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的坩鍋,其特征在于,該外蓋的該第二下表面與該內(nèi)蓋的該上表面之間相距距離d,且0.3公分≦d≦0.7公分。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的坩鍋,其特征在于,該內(nèi)蓋的該第一下表面傾斜于該鍋體的該側(cè)壁,并與該鍋體的該側(cè)壁夾一角度θ,且100°≦θ≦110°。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的坩鍋,其特征在于,該內(nèi)蓋的該第一下表面及該上表面為垂直對稱于彼此。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的坩鍋,其特征在于,該內(nèi)蓋的其中至少一部分為一錐體,且該錐體朝該鍋體的該底部突出,并具有一頂點。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





