[發(fā)明專利]光學(xué)結(jié)構(gòu)、顯示面板及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710236583.1 | 申請日: | 2017-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN106802512B | 公開(公告)日: | 2019-05-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 關(guān)峰;董學(xué);袁廣才;谷新;王美麗;王維;譚紀(jì)風(fēng) | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G09F9/33;G02B26/08 |
| 代理公司: | 北京潤澤恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11319 | 代理人: | 蘇培華 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 結(jié)構(gòu) 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種光學(xué)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述光學(xué)結(jié)構(gòu)應(yīng)用于顯示面板,所述光學(xué)結(jié)構(gòu)包括基材,所述基材內(nèi)設(shè)置有多個獨立的光學(xué)腔室,每個所述光學(xué)腔室均貫通于所述基材的上下表面,所述光學(xué)腔室的位于所述基材上表面的出光口的尺寸小于位于所述基材下表面的入光口的尺寸;
其中,所述光學(xué)結(jié)構(gòu)形成在所述顯示面板的出光面上,所述顯示面板的出光面上的圖像的每個子像素與所述光學(xué)腔室的入光口一一對應(yīng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)腔室結(jié)構(gòu),其特征在于,所述光學(xué)結(jié)構(gòu)的基材上表面上的圖像的像素尺寸為百納米量級。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述光學(xué)結(jié)構(gòu)中各光學(xué)腔室的內(nèi)表面形成有金屬膜層或反射結(jié)構(gòu)層,所述反射結(jié)構(gòu)層的材料的折射率大于所述光學(xué)結(jié)構(gòu)的基材的折射率。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述金屬膜層為鋁膜層或鉻膜層;所述反射結(jié)構(gòu)層為樹脂層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述顯示面板包括彩膜基板和形成在所述彩膜基板上的彩膜;
所述光學(xué)結(jié)構(gòu)形成在所述彩膜的出光面上,所述彩膜上的圖像的每個子像素與所述光學(xué)腔室的入光口一一對應(yīng);或者所述光學(xué)結(jié)構(gòu)形成在所述彩膜基板的出光面上,所述彩膜形成在所述光學(xué)結(jié)構(gòu)的背離所述彩膜基板的面上,所述彩膜基板上的圖像的每個子像素與所述光學(xué)腔室的入光口一一對應(yīng)。
6.一種顯示面板,其特征在于,包括如權(quán)利要求1~5任一項所述的光學(xué)結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板為液晶面板、OLED面板或MEMS顯示面板。
8.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求6~7任一項所述的顯示面板。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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