[發明專利]一種彩色色阻的制作方法有效
| 申請號: | 201710236026.X | 申請日: | 2017-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN107065281B | 公開(公告)日: | 2020-07-03 |
| 發明(設計)人: | 甘啟明 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 鐘子敏 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 彩色 制作方法 | ||
本發明公開了一種彩色色阻的制作方法,包括:在襯底上形成具有第一標記、第二標記、第三標記、第一鏤空區域、第二鏤空區域和第三鏤空區域的黑色矩陣層;依次移動光罩使對位標記分別與第一標記、第二標記和第三標記對齊;分別用光罩在黑色矩陣層上形成第一色阻和第一色塊、第二色阻和第二色塊、以及第三色阻和第三色塊,并根據各色塊和相應鏤空區域的位置關系來核對各色阻位置;第一標記/第一鏤空區域和第二標記/第二鏤空區域之間間隔第一距離,第一標記/第一鏤空區域和第三標記/第三鏤空區域之間間隔第二距離;第一距離和第二距離被配置成使第一色塊、第二色塊和第三色塊互不交疊。采用本方案可在不改變色塊大小的前提下使各色塊互不交疊。
技術領域
本發明涉及彩膜基板的制造技術領域,尤其涉及一種彩色色阻的制作方法。
背景技術
目前,在制作彩色色阻時,可通過采用同一光罩制備彩色色阻及相應的檢測用色塊,來降低光罩數量和制作成本。
在開始制作彩色色阻時,需要利用黑色矩陣光罩在襯底基板上形成對位標記。圖1為現有技術中對位標記的示意圖。如圖1所示,對位標記(Alignment Mark)包括對位標記101和對位標記102。其中,玻璃基板上的黑色矩陣(BM on Glass)具有對位標記101。而對位標記102則設置在RGB光罩(RGB Mask)上。
對位標記101具體包括三個黑色矩陣對位標記。其中,第一個黑色矩陣對位標記與第二個黑色矩陣對位標記相隔一個子像素的寬度H。第一個黑色矩陣對位標記與第三個黑色矩陣對位標記相隔兩個子像素的寬度2*H。移動RGB光罩。當RGB光罩上的對位標記102依次與各個黑色矩陣對位標記101對準時,在相應的位置形成對應各個黑色矩陣對位標記101的色塊和色阻。圖2為現有技術中的對準監測標記的第一種示意圖。如圖2所示,對準檢測標記包括R色塊201、G色塊202和B色塊203。R色塊201與G色塊202相隔H,R色塊201與B色塊203相隔2*H。
圖3為現有技術中的對準監測標記的第二種示意圖。如圖3所示,當在高PPI模式(即高像素密度模式,在此模式下像素尺寸小)下H小于色塊的寬度C時,R色塊201與G色塊202會產生交疊,從而導致無法測量彩色色阻的位置誤差的問題。
圖4為現有技術中的對準監測標記的第三種示意圖。為了使色塊不產生交疊,如圖4所示,可以將各色塊做小。但是尺寸較小的色塊會存在易被剝離的風險。
現有技術中彩色色阻的制作方法的缺陷在于:當在高PPI模式下子像素的寬度小于色塊的寬度時,色塊之間會產生交疊,從而導致無法測量彩色色阻的位置誤差的問題,而將色塊做小又會存在尺寸較小的色塊易被剝離的風險。
發明內容
為了解決上述技術問題,本發明提供了一種彩色色阻的制作方法,包括:
在襯底基板上形成具有第一標記、第二標記、第三標記、第一鏤空區域、第二鏤空區域和第三鏤空區域的黑色矩陣層;
移動光罩,使所述光罩上的對位標記與所述第一標記對齊;利用所述光罩在所述黑色矩陣層上形成第一色阻和第一色塊,并根據所述第一色塊和所述第一鏤空區域的位置關系來核對所述第一色阻的位置;
移動所述光罩,使所述對位標記與所述第二標記對齊;利用所述光罩在所述黑色矩陣層上形成第二色阻和第二色塊,并根據所述第二色塊和所述第二鏤空區域的位置關系來核對所述第二色阻的位置;
移動所述光罩,使所述對位標記與所述第三標記對齊;利用所述光罩在所述黑色矩陣層上形成第三色阻和第三色塊,并根據所述第三色塊和所述第三鏤空區域的位置關系來核對所述第三色阻的位置;
其中,所述第一標記/第一鏤空區域和所述第二標記/第二鏤空區域之間間隔第一距離,所述第一標記/第一鏤空區域和所述第三標記/第三鏤空區域之間間隔第二距離;所述第一距離和第二距離被配置成使所述第一色塊、第二色塊和第三色塊互不交疊。
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