[發(fā)明專利]一種彩色色阻的制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710236026.X
• 申請(qǐng)日: 2017-04-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107065281B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-07-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 甘啟明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1335
• 分類號(hào): G02F1/1335
• 代理公司: 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

本發(fā)明公開(kāi)了一種彩色色阻的制作方法，包括：在襯底上形成具有第一標(biāo)記、第二標(biāo)記、第三標(biāo)記、第一鏤空區(qū)域、第二鏤空區(qū)域和第三鏤空區(qū)域的黑色矩陣層；依次移動(dòng)光罩使對(duì)位標(biāo)記分別與第一標(biāo)記、第二標(biāo)記和第三標(biāo)記對(duì)齊；分別用光罩在黑色矩陣層上形成第一色阻和第一色塊、第二色阻和第二色塊、以及第三色阻和第三色塊，并根據(jù)各色塊和相應(yīng)鏤空區(qū)域的位置關(guān)系來(lái)核對(duì)各色阻位置；第一標(biāo)記/第一鏤空區(qū)域和第二標(biāo)記/第二鏤空區(qū)域之間間隔第一距離，第一標(biāo)記/第一鏤空區(qū)域和第三標(biāo)記/第三鏤空區(qū)域之間間隔第二距離；第一距離和第二距離被配置成使第一色塊、第二色塊和第三色塊互不交疊。采用本方案可在不改變色塊大小的前提下使各色塊互不交疊。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及彩膜基板的制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彩色色阻的制作方法。

背景技術(shù)

目前，在制作彩色色阻時(shí)，可通過(guò)采用同一光罩制備彩色色阻及相應(yīng)的檢測(cè)用色塊，來(lái)降低光罩?jǐn)?shù)量和制作成本。

在開(kāi)始制作彩色色阻時(shí)，需要利用黑色矩陣光罩在襯底基板上形成對(duì)位標(biāo)記。圖1為現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)位標(biāo)記的示意圖。如圖1所示，對(duì)位標(biāo)記(Alignment Mark)包括對(duì)位標(biāo)記101和對(duì)位標(biāo)記102。其中，玻璃基板上的黑色矩陣(BM on Glass)具有對(duì)位標(biāo)記101。而對(duì)位標(biāo)記102則設(shè)置在RGB光罩(RGB Mask)上。

對(duì)位標(biāo)記101具體包括三個(gè)黑色矩陣對(duì)位標(biāo)記。其中，第一個(gè)黑色矩陣對(duì)位標(biāo)記與第二個(gè)黑色矩陣對(duì)位標(biāo)記相隔一個(gè)子像素的寬度H。第一個(gè)黑色矩陣對(duì)位標(biāo)記與第三個(gè)黑色矩陣對(duì)位標(biāo)記相隔兩個(gè)子像素的寬度2*H。移動(dòng)RGB光罩。當(dāng)RGB光罩上的對(duì)位標(biāo)記102依次與各個(gè)黑色矩陣對(duì)位標(biāo)記101對(duì)準(zhǔn)時(shí)，在相應(yīng)的位置形成對(duì)應(yīng)各個(gè)黑色矩陣對(duì)位標(biāo)記101的色塊和色阻。圖2為現(xiàn)有技術(shù)中的對(duì)準(zhǔn)監(jiān)測(cè)標(biāo)記的第一種示意圖。如圖2所示，對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)標(biāo)記包括R色塊201、G色塊202和B色塊203。R色塊201與G色塊202相隔H，R色塊201與B色塊203相隔2*H。

圖3為現(xiàn)有技術(shù)中的對(duì)準(zhǔn)監(jiān)測(cè)標(biāo)記的第二種示意圖。如圖3所示，當(dāng)在高PPI模式(即高像素密度模式，在此模式下像素尺寸小)下H小于色塊的寬度C時(shí)，R色塊201與G色塊202會(huì)產(chǎn)生交疊，從而導(dǎo)致無(wú)法測(cè)量彩色色阻的位置誤差的問(wèn)題。

圖4為現(xiàn)有技術(shù)中的對(duì)準(zhǔn)監(jiān)測(cè)標(biāo)記的第三種示意圖。為了使色塊不產(chǎn)生交疊，如圖4所示，可以將各色塊做小。但是尺寸較小的色塊會(huì)存在易被剝離的風(fēng)險(xiǎn)。

現(xiàn)有技術(shù)中彩色色阻的制作方法的缺陷在于：當(dāng)在高PPI模式下子像素的寬度小于色塊的寬度時(shí)，色塊之間會(huì)產(chǎn)生交疊，從而導(dǎo)致無(wú)法測(cè)量彩色色阻的位置誤差的問(wèn)題，而將色塊做小又會(huì)存在尺寸較小的色塊易被剝離的風(fēng)險(xiǎn)。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種彩色色阻的制作方法，包括：

在襯底基板上形成具有第一標(biāo)記、第二標(biāo)記、第三標(biāo)記、第一鏤空區(qū)域、第二鏤空區(qū)域和第三鏤空區(qū)域的黑色矩陣層；

移動(dòng)光罩，使所述光罩上的對(duì)位標(biāo)記與所述第一標(biāo)記對(duì)齊；利用所述光罩在所述黑色矩陣層上形成第一色阻和第一色塊，并根據(jù)所述第一色塊和所述第一鏤空區(qū)域的位置關(guān)系來(lái)核對(duì)所述第一色阻的位置；

移動(dòng)所述光罩，使所述對(duì)位標(biāo)記與所述第二標(biāo)記對(duì)齊；利用所述光罩在所述黑色矩陣層上形成第二色阻和第二色塊，并根據(jù)所述第二色塊和所述第二鏤空區(qū)域的位置關(guān)系來(lái)核對(duì)所述第二色阻的位置；

移動(dòng)所述光罩，使所述對(duì)位標(biāo)記與所述第三標(biāo)記對(duì)齊；利用所述光罩在所述黑色矩陣層上形成第三色阻和第三色塊，并根據(jù)所述第三色塊和所述第三鏤空區(qū)域的位置關(guān)系來(lái)核對(duì)所述第三色阻的位置；

其中，所述第一標(biāo)記/第一鏤空區(qū)域和所述第二標(biāo)記/第二鏤空區(qū)域之間間隔第一距離，所述第一標(biāo)記/第一鏤空區(qū)域和所述第三標(biāo)記/第三鏤空區(qū)域之間間隔第二距離；所述第一距離和第二距離被配置成使所述第一色塊、第二色塊和第三色塊互不交疊。