[發(fā)明專利]一種彩色色阻的制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710236026.X
• 申請日: 2017-04-12
• 公開（公告）號: CN107065281B
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 甘啟明
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335
• 代理公司: 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種彩色色阻的制作方法，其特征在于，包括：

在襯底基板上形成具有第一標記、第二標記、第三標記、第一鏤空區(qū)域、第二鏤空區(qū)域和第三鏤空區(qū)域的黑色矩陣層；其中，所述第一標記、第二標記、第三標記、第一鏤空區(qū)域、第二鏤空區(qū)域和第三鏤空區(qū)域利用同一黑矩陣光罩同步形成；移動色阻光罩，使所述色阻光罩上的對位標記與所述第一標記對齊；利用所述色阻光罩在所述黑色矩陣層上形成第一色阻和第一色塊，并根據(jù)所述第一色塊和所述第一鏤空區(qū)域的位置關(guān)系來核對所述第一色阻的位置；

移動所述色阻光罩，使所述對位標記與所述第二標記對齊；利用所述色阻光罩在所述黑色矩陣層上形成第二色阻和第二色塊，并根據(jù)所述第二色塊和所述第二鏤空區(qū)域的位置關(guān)系來核對所述第二色阻的位置；

移動所述色阻光罩，使所述對位標記與所述第三標記對齊；利用所述色阻光罩在所述黑色矩陣層上形成第三色阻和第三色塊，并根據(jù)所述第三色塊和所述第三鏤空區(qū)域的位置關(guān)系來核對所述第三色阻的位置；

其中，所述第一標記與所述第二標記的距離或所述第一鏤空區(qū)域與所述第二鏤空區(qū)域之間間隔為第一距離H1，所述第一距離H1滿足：H1＝(3*n1+1)*P；其中，n1為滿足n1≥1或n1≦-1的整數(shù)，P為子像素的寬度；

所述第一標記與所述第三標記的距離或第一鏤空區(qū)域與所述第三鏤空區(qū)域之間間隔為第二距離H2，所述第二距離H2滿足：H2＝(3*n2+2)*P；其中，n2為滿足n2≥0或n2≦-2的整數(shù) ；

所述第一距離H1和第二距離H2被配置成使所述第一色塊、第二色塊和第三色塊互不交疊；其中，當n1為滿足n1≥1的整數(shù)，且n2為滿足n2≥0的整數(shù)時，所述色阻光罩右移；當n1為滿足n1≦-1的整數(shù)，且n2為滿足n2≦-2的整數(shù)時，所述色阻光罩左移。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一色阻、第二色阻和第三色阻各不相同，并且分別為紅色色阻、綠色色阻和藍色色阻中的一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一色塊、第二色塊和第三色塊位于子像素與子像素之間的位置。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一標記、第二標記和第三標記位于非顯示區(qū)。