[發(fā)明專利]噴墨打印成膜方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710231008.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106960922B | 公開(公告)日: | 2019-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 崔穎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L51/56 | 分類號(hào): | H01L51/56;H01L51/50 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 陳平 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 噴墨 打印 方法 | ||
本公開提供一種噴墨打印成膜方法。所述方法包括:噴墨打印步驟:在基板上通過噴墨打印形成墨水的液滴;和旋轉(zhuǎn)干燥步驟:在使基板旋轉(zhuǎn)的同時(shí),干燥基板上的墨水的液滴,從而使墨水的液滴形成膜。所述方法可提高噴墨打印器件性能,提高整個(gè)基板的成膜均勻性。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及噴墨打印成膜方法。
背景技術(shù)
在各種成膜技術(shù)中,溶液成膜技術(shù)越來越受到人們的重視。所謂溶液成膜,即把所需材料經(jīng)過處理,例如分散成納米級(jí)的微小顆粒,然后溶解在相應(yīng)的溶劑中,再利用其他設(shè)備將該溶液淀積在基板表面,待溶劑蒸發(fā)后,即可在基板表面形成所需薄膜。
噴墨打印是溶液成膜技術(shù)中較為重要的一種,并因其具有操作簡(jiǎn)單、成本低廉、工藝簡(jiǎn)單、及易于實(shí)現(xiàn)大尺寸等優(yōu)點(diǎn),而被廣泛應(yīng)用于制備發(fā)光顯示中的彩色濾光片、有機(jī)薄膜晶體管、金屬電極以及三維隔離墻等,以及用于制備發(fā)光器件,都取得了很好的成果。尤其是在有機(jī)發(fā)光器件(OLED)等自發(fā)光器件的加工生產(chǎn)中,噴墨打印因其成本低、效率高等多重優(yōu)勢(shì)備受矚目。
申請(qǐng)人在實(shí)踐中發(fā)現(xiàn),盡管噴墨打印具有諸多的技術(shù)優(yōu)勢(shì),但噴墨打印的成膜在性能上相對(duì)傳統(tǒng)的蒸鍍等有所不足,因此本領(lǐng)域,尤其是在在基板上形成陣列式的打印圖案形式的薄膜等具體應(yīng)用中,依舊存在改進(jìn)噴墨打印技術(shù)的需要。。
另外,在噴墨打印后的真空干燥的過程中,由于真空干燥抽氣口的位置固定,致使整塊基板的不同位置成膜均勻性不一致。
發(fā)明內(nèi)容
因此,需要提供一種噴墨打印成膜方法,所述方法可以使噴墨打印具有良好的成膜狀態(tài),從而提高噴墨打印器件性能。
另外,還需要提供一種噴墨打印成膜方法,所述方法可以提高整個(gè)基板的成膜均勻性,不會(huì)由于真空干燥抽氣口的位置固定,致使整塊基板的不同位置成膜均勻性不一致。
因此,在本公開的一個(gè)方面,提供一種噴墨打印成膜方法,所述方法包括:
噴墨打印步驟:在基板上通過噴墨打印形成墨水的液滴;和,
旋轉(zhuǎn)干燥步驟:在使基板旋轉(zhuǎn)的同時(shí),干燥基板上的墨水的液滴,從而使墨水的液滴形成膜。
根據(jù)本公開的一個(gè)實(shí)施方案,所述方法還包括:在噴墨打印步驟和旋轉(zhuǎn)干燥步驟之間的預(yù)干燥步驟:將墨水的液滴預(yù)干燥,以除去液滴中的一部分溶劑。
根據(jù)本公開的另一個(gè)實(shí)施方案,在所述旋轉(zhuǎn)干燥步驟中,使所述基板以50至1000轉(zhuǎn)/分鐘或者100至800轉(zhuǎn)/分鐘的速度旋轉(zhuǎn)。
根據(jù)本公開的另一個(gè)實(shí)施方案,所述旋轉(zhuǎn)干燥選自真空旋轉(zhuǎn)干燥和加熱旋轉(zhuǎn)干燥中的至少一種。
根據(jù)本公開的另一個(gè)實(shí)施方案,所述旋轉(zhuǎn)干燥是真空旋轉(zhuǎn)干燥,并且所述真空旋轉(zhuǎn)干燥的真空度是2至100pa。
根據(jù)本公開的另一個(gè)實(shí)施方案,所述真空旋轉(zhuǎn)干燥進(jìn)行1至30分鐘。
根據(jù)本公開的另一個(gè)實(shí)施方案,所述預(yù)干燥選自真空預(yù)干燥和加熱預(yù)干燥中的至少一種。
根據(jù)本公開的另一個(gè)實(shí)施方案,所述預(yù)干燥是真空預(yù)干燥,并且所述真空預(yù)干燥的真空度是1000至20000pa。
根據(jù)本公開的另一個(gè)實(shí)施方案,所述真空預(yù)干燥進(jìn)行1至5分鐘。
根據(jù)本公開的另一個(gè)實(shí)施方案,所述預(yù)干燥步驟和所述旋轉(zhuǎn)干燥步驟在同一真空干燥腔中進(jìn)行,其中所述真空干燥腔具有用于放置所述基板的基板放置機(jī)臺(tái),其中所述基板放置機(jī)臺(tái)具有旋轉(zhuǎn)的功能。
根據(jù)本公開的另一個(gè)實(shí)施方案,所述預(yù)干燥步驟是在25至50℃加熱1至10分鐘的預(yù)干燥步驟,并且所述旋轉(zhuǎn)干燥步驟是在25至50℃加熱1至15分鐘的旋轉(zhuǎn)干燥步驟。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司,未經(jīng)京東方科技集團(tuán)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710231008.2/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
- 一種數(shù)據(jù)庫讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





