[發明專利]一種過孔的尺寸測量方法及測量設備

在審

• 申請號: 201710224129.4
• 申請日: 2017-04-07
• 公開（公告）號: CN106989681A
• 公開（公告）日: 2017-07-28
• 發明（設計）人: 葉巧云
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G01B11/08
• 分類號: G01B11/08
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280
• 代理人: 李慶波

技術領域

本發明涉及顯示面板領域，特別是涉及一種過孔的尺寸測量方法及測量設備。

背景技術

Color-filter on Array(COA)技術是將彩色濾光片與陣列基板集成在一起的集成技術。即將彩色光阻涂布于已完成的陣列基板上形成彩色濾光層，可以改善傳統彩色濾光片開口率低的問題。該技術要求在制程中監控面板面內過孔直徑，在測量過孔直徑時，極易受到干擾，難于找準過孔邊緣。

現有技術在抓取框區域只能從上到下識別波峰順序，將第N個波峰作為邊界值，由于過孔邊緣容易出現多波峰，導致邊界值抓取不固定，引起測量誤差。

發明內容

本發明主要解決的技術問題是提供一種過孔的尺寸測量方法，能夠準確測量出過孔的直徑。

為解決上述技術問題，本發明采用的一個技術方案是：提供一種過孔的尺寸測量方法，包括：獲取所述過孔及其周邊區域的圖像；在所述圖像中設置一圖像抓取框；沿預設方向根據所述圖像的像素的灰階繪出變化曲線；在所述變化曲線中設定中間基準點；在所述變化曲線上以所述中間基準點為起點分別向兩側搜索滿足預設條件的波峰；根據所述中間基準點兩側的所述波峰之間的距離計算所述過孔沿所述預設方向的尺寸。

為解決上述技術問題，本發明采用的另一個技術方案是：提供一種過孔的尺寸測量設備，包括：成像設備，用于拍攝所述過孔及其周邊區域的圖像；存儲器，用于存儲預設程序；處理器，用于通過運行所述預設程序執行以下步驟：獲取所述過孔及其周邊區域的圖像；在所述圖像中設置一圖像抓取框；沿預設方向根據所述圖像的像素的灰階繪出變化曲線；在所述變化曲線中設定中間基準點；在所述變化曲線上以所述中間基準點為起點分別向兩側搜索滿足預設條件的波峰；根據所述中間基準點兩側的所述波峰之間的距離計算所述過孔沿所述預設方向的尺寸。

本發明的有益效果是：區別于現有技術經常出現邊界值抓取不固定，引起測量誤差的情況，本發明通過設置變化曲線上的基準點，找到離基準點最近的兩個波峰，且波峰的峰值要大于閾值，確保抓取的邊界為過孔的邊界，就能準確測量過孔的直徑。

附圖說明

圖1是本發明過孔的尺寸測量方法實施方式的流程圖；

圖2是本發明過孔的尺寸測量設備實施方式的示意圖；

圖3是本發明以圖像抓取框的幾何中心設置中間基準點的圖像處理的示意圖；

圖4是本發明以過孔的幾何中心設置中間基準點的圖像處理的示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，均屬于本發明保護的范圍。

請參閱圖1，圖1是本發明過孔的尺寸測量設備。如圖2所示，過孔的尺寸測量設備包括成像設備10、處理器20、儲存器30。處理器20連接著成像設備10和儲存器30。成像設備10用于獲取待測過孔及其周邊區域的圖像，處理器20用于控制成像設備10獲取圖像，同時對成像設備10獲取的圖像進行分析，通過分析測得到過孔的直徑尺寸。儲存器30用于存儲預設程序，處理器20通過調用存儲在儲存器30中的預設程序完成整個測量工作。

請結合參閱圖1和圖2，圖2是本發明過孔的尺寸測量方法實施方式的流程圖。

本發明過孔的尺寸測量方法包括以下步驟：

S101：獲取所述過孔及其周邊區域的圖像。

具體地說，成像設備10在處理器20的控制下對過孔及其周邊區域進行拍照，拍照時需注意讓過孔處于照片的中心位置，過孔周圍都需要留出足夠空間，以便后續分析照片時有足夠的采樣空間。

S102：在所述圖像中設置一圖像抓取框。

具體地說，成像設備10拍攝到的圖像由處理器20進行分析，首先在圖像中設置一圖像抓取框，圖像抓取框位置由測試人員設置，需注意使得圖像抓取框的邊緣盡量將過孔包含進去。

S103：沿預設方向根據所述圖像的像素的灰階繪出變化曲線。

具體地說，預設方向為圖像的垂直方向，繪制曲線的依據是圖像相鄰兩邊的灰度差異，在一個實施例中，可以將圖像平均分為若干等分，根據相鄰的兩等分之間的差值繪制曲線。若相鄰的兩等分之間灰度值差距大，則繪制出的曲線峰值高；若相鄰的兩等分之間灰度值差距小，則繪制出的曲線峰值低。

S104：在所述變化曲線中設定中間基準點。