[發明專利]一種過孔的尺寸測量方法及測量設備在審
| 申請號： | 201710224129.4 | 申請日： | 2017-04-07 |
| 公開（公告）號： | CN106989681A | 公開（公告）日： | 2017-07-28 |
| 發明（設計）人： | 葉巧云 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G01B11/08 | 分類號： | G01B11/08 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280 | 代理人： | 李慶波 |
| 地址： | 518006 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 尺寸 測量方法 測量 設備 | ||
1.一種過孔的尺寸測量方法，其特征在于，包括：
獲取所述過孔及其周邊區域的圖像；
在所述圖像中設置一圖像抓取框；
沿預設方向根據所述圖像的像素的灰階繪出變化曲線；
在所述變化曲線中設定中間基準點；
在所述變化曲線上以所述中間基準點為起點分別向兩側搜索滿足預設條件的波峰；
根據所述中間基準點兩側的所述波峰之間的距離計算所述過孔沿所述預設方向的尺寸。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述變化曲線中設定中間基準點的步驟包括：
根據所述圖像抓取框的幾何中心設置所述中間基準點。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述變化曲線中設定中間基準點的步驟包括：
在所述圖像中識別出所述過孔；
根據所述過孔的幾何中心設置所述中間基準點。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述變化曲線上以所述中間基準點為起點分別向兩側搜索滿足預設條件的波峰的步驟包括：
以所述中間基準點為起點分別向兩側搜索最靠近所述中間基準點的所述波峰。
5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述波峰的峰值大于預設閾值。
6.根據權利要求1-5任一項所述的方法，其特征在于，所述過孔為形成于顯示面板上的面內過孔。
7.一種過孔的尺寸測量設備，其特征在于，包括：
成像設備，用于拍攝所述過孔及其周邊區域的圖像；
存儲器，用于存儲預設程序；
處理器，用于通過運行所述預設程序執行以下步驟：
獲取所述過孔及其周邊區域的圖像；
在所述圖像中設置一圖像抓取框；
沿預設方向根據所述圖像的像素的灰階繪出變化曲線；
在所述變化曲線中設定中間基準點；
在所述變化曲線上以所述中間基準點為起點分別向兩側搜索滿足預設條件的波峰；
根據所述中間基準點兩側的所述波峰之間的距離計算所述過孔沿所述預設方向的尺寸。
8.根據權利要求7所述的設備，其特征在于，所述在所述變化曲線中設定中間基準點的步驟包括：
根據所述圖像抓取框的幾何中心設置所述中間基準點。
9.根據權利要求7所述的設備，其特征在于，所述在所述變化曲線中設定中間基準點的步驟包括：
在所述圖像中識別出所述過孔；
根據所述過孔的幾何中心設置所述中間基準點。
10.根據權利要求7所述的設備，其特征在于，所述在所述變化曲線上以所述中間基準點為起點分別向兩側搜索滿足預設條件的波峰的步驟包括：
以所述中間基準點為起點分別向兩側搜索最靠近所述中間基準點且峰值大于預設閾值的所述波峰。
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