[發明專利]垂直存儲器件有效
| 申請號: | 201710223451.5 | 申請日: | 2017-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN107425004B | 公開(公告)日: | 2023-09-05 |
| 發明(設計)人: | 尹永培;申重植;金光浩;樸玄睦 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | H10B41/20 | 分類號: | H10B41/20;H10B41/30;H10B43/20;H10B43/30 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 弋桂芬 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 垂直 存儲 器件 | ||
本發明提供一種垂直存儲器件,該垂直存儲器件包括在基板上的溝道、柵線和切割圖案。溝道在基本上垂直于基板的上表面的第一方向上延伸。柵線在第一方向上彼此間隔開。每條柵線圍繞溝道并在基本上平行于基板的上表面的第二方向上延伸。切割圖案包括在第二方向上延伸并切割柵線的第一切割部分以及交叉第一切割部分并與第一切割部分合并的第二切割部分。
技術領域
示例實施方式涉及垂直存儲器件及制造該垂直存儲器件的方法。更具體地,示例實施方式涉及包括垂直地延伸的溝道的垂直存儲器件及制造該垂直存儲器件的方法。
背景技術
近來,為了實現高集成度,已經發展了包括關于基板的表面垂直地堆疊的多個存儲單元的垂直存儲器件。在垂直存儲器件中,具有柱形狀或圓柱形形狀的溝道可以從基板的表面垂直地突出,圍繞溝道的柵線可以重復地堆疊為階梯形狀。
隨著垂直存儲器件的集成度變大,柵線的數目和階梯形狀的臺階數目會增加。因此,用于形成臺階的工藝的復雜性會增加。
發明內容
示例實施方式提供具有提高的結構可靠性和電可靠性的垂直存儲器件。
示例實施方式提供制造具有提高的結構可靠性和電可靠性的垂直存儲器件的方法。
根據示例實施方式,一種垂直存儲器件可以包括基板、溝道、柵線和切割圖案。溝道在基板上并在基本上垂直于基板的上表面的第一方向上延伸。柵線在基板上并在第一方向上彼此間隔開。每條柵線可以圍繞溝道并在基本上平行于基板的上表面的第二方向上延伸。切割圖案可以包括在第二方向上延伸并切割柵線的第一切割部分以及交叉第一切割部分并與第一切割部分合并的第二切割部分。
根據示例實施方式,一種垂直存儲器件可以包括基板、在基板上彼此間隔開的多個柵線堆疊結構以及公共源極線(CSL)。每個柵線堆疊結構可以包括在基本上垂直于基板的上表面的第一方向上延伸的溝道以及在第一方向上彼此間隔開的柵線。每條柵線可以圍繞溝道并在基本上平行于基板的上表面并交叉第三方向的第二方向上延伸。第三方向基本上平行于基板的上表面。柵線堆疊結構可以在第三方向上彼此間隔開。CSL可以沿第二方向和第三方向圍繞柵線堆疊結構的側壁。
根據示例實施方式,一種垂直存儲器件可以包括基板、在基板上一個堆疊在另一個的頂部之上的多條柵線、在基板上的多個垂直溝道、以及在基板上的公共源極線(CSL)。柵線包括平行于基板的上表面延伸不同的長度以限定階梯形狀的端部分。所述多個垂直溝道彼此間隔開并延伸穿過所述多條柵線。CSL包括第一部分,該第一部分在基板上交叉到CSL的第二部分中,延伸穿過所述多條柵線并彼此間隔開。CSL的第二部分延伸穿過所述多條柵線中的最下面的柵線并與所述多條柵線的端部分間隔開。
在根據示例實施方式的垂直存儲器件中,在形成有臺階的模制結構之后,用于GSL的臺階部分可以與用于柵線切割的開口同時形成。因此,可以減少用于形成有臺階的模制結構的光掩模。在該開口中,切割圖案可以被形成,并且切割圖案可以包括劃分柵線堆疊結構的第一切割部分以及交叉第一切割部分并將第一切割部分彼此連接的第二切割部分。根據借助于柵線堆疊結構的操作設計,第一切割部分和第二切割部分可以被設計。
附圖說明
從以下結合附圖的詳細描述,示例實施方式將被更清楚地理解。圖1至30示出如這里描述的非限制性的示例實施方式。
圖1至3是示出根據示例實施方式的垂直存儲器件的俯視圖和剖視圖;
圖4至21是示出根據示例實施方式的制造垂直存儲器件的方法的剖視圖和俯視圖;
圖22是示出根據示例實施方式的垂直存儲器件的剖視圖;
圖23是示出根據示例實施方式的垂直存儲器件的剖視圖;
圖24是示出根據示例實施方式的垂直存儲器件的俯視圖;
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