[發明專利]垂直存儲器件有效
| 申請號: | 201710223451.5 | 申請日: | 2017-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN107425004B | 公開(公告)日: | 2023-09-05 |
| 發明(設計)人: | 尹永培;申重植;金光浩;樸玄睦 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | H10B41/20 | 分類號: | H10B41/20;H10B41/30;H10B43/20;H10B43/30 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 弋桂芬 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 垂直 存儲 器件 | ||
1.一種垂直存儲器件,包括:
基板;
在所述基板上的溝道,所述溝道在基本上垂直于所述基板的上表面的第一方向上延伸;
在所述基板上的柵線,所述柵線在所述第一方向上彼此間隔開,所述柵線的每條圍繞所述溝道并在基本上平行于所述基板的所述上表面的第二方向上延伸;
在所述基板上的切割圖案,
所述切割圖案包括在所述第二方向上延伸并切割所述柵線的第一切割部分,并且
所述切割圖案包括交叉所述第一切割部分并與所述第一切割部分合并的第二切割部分,以及
在所述基板上的子切割部分;
其中
所述切割圖案包括在第三方向上彼此間隔開的多個第一切割部分,所述第三方向基本上平行于所述基板的所述上表面,
所述第一切割部分中的每個在所述第二方向上延伸,
所述第二切割部分在所述第三方向上延伸,
所述第二切割部分與所述多個第一切割部分合并,
所述子切割部分在所述多個第一切割部分之間,
所述子切割部分在所述第二方向上延伸,
所述子切割部分在所述第一方向上切割所述柵線,
所述子切割部分與所述第二切割部分物理地分開,以及
在俯視圖中,所述子切割部分的端部設置在所述柵線中的最下面的柵線的端部與所述柵線中的所述最下面的柵線正上方的所述柵線的端部之間。
2.根據權利要求1所述的垂直存儲器件,其中
所述多個第一切割部分包括端部分,以及
所述第二切割部分與所述多個第一切割部分的所述端部分合并。
3.根據權利要求1所述的垂直存儲器件,其中
所述多個第一切割部分包括內側,以及
所述第二切割部分與所述多個第一切割部分的所述內側合并。
4.根據權利要求1所述的垂直存儲器件,還包括:
在所述基板上的虛設切割圖案,其中
所述虛設切割圖案在所述第三方向上延伸,以及
所述虛設切割圖案在所述第二方向上與所述柵線和所述第二切割部分間隔開。
5.根據權利要求1所述的垂直存儲器件,其中
所述柵線包括地選擇線、字線和串選擇線,以及
所述第一切割部分在所述第一方向上切割所述串選擇線、所述字線和所述地選擇線。
6.根據權利要求5所述的垂直存儲器件,其中所述第二切割部分限定所述地選擇線在所述第二方向上的長度。
7.根據權利要求1所述的垂直存儲器件,還包括:
絕緣間隔物,在所述第一切割部分的側壁和所述第二切割部分的側壁上,
其中所述第一切割部分和所述第二切割部分包括導電材料。
8.一種垂直存儲器件,包括:
基板;
在所述基板上彼此間隔開的多個柵線堆疊結構,所述柵線堆疊結構的每個包括:
溝道,在基本上垂直于所述基板的上表面的第一方向上延伸;和
柵線,在所述第一方向上彼此間隔開,所述柵線的每條圍繞所述溝道并在第二方向上延伸,該第二方向基本上平行于所述基板的所述上表面并交叉基本上平行于所述基板的所述上表面的第三方向,所述柵線堆疊結構在所述第三方向上彼此間隔開;
公共源極線,沿著所述第二方向和所述第三方向圍繞所述柵線堆疊結構的側壁;以及
在所述基板上的子切割部分,
其中
所述公共源極線包括第二切割部分以及在所述第三方向上彼此間隔開的多個第一切割部分,
所述第一切割部分中的每個在所述第二方向上延伸,
所述第一切割部分中的每個在所述第一方向上延伸并切割所述柵線,
所述第二切割部分在所述第三方向上延伸并與所述多個第一切割部分合并;
所述子切割部分在所述多個第一切割部分之間,
所述子切割部分在所述第二方向上延伸,
所述子切割部分連接到所述第二切割部分,以及
所述子切割部分包括在所述柵線中的最下面的柵線中的切除區域。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于三星電子株式會社,未經三星電子株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710223451.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





