[發明專利]發光裝置的制造方法有效
| 申請號: | 201710222409.1 | 申請日: | 2017-04-06 |
| 公開(公告)號: | CN107275457B | 公開(公告)日: | 2022-04-08 |
| 發明(設計)人: | 橋本啟 | 申請(專利權)人: | 日亞化學工業株式會社 |
| 主分類號: | H01L33/48 | 分類號: | H01L33/48;H01L33/50;H01L33/60 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 雒運樸 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光 裝置 制造 方法 | ||
1.一種發光裝置的制造方法,依次具備:
第1工序,將第1發光元件與第2發光元件以相互分離的方式倒裝安裝在基板上;
第2工序,將具有第1側面的第1透光性構件粘接在所述第1發光元件上,將具有第2側面的第2透光性構件以所述第2側面與所述第1側面分離且相面對的方式粘接在所述第2發光元件上;
第3工序,切削所述第1側面及/或所述第2側面,從而使第1’側面及/或第2’側面露出;
第4工序,在所述基板上形成對所述第1側面或所述第1’側面、以及所述第2側面或所述第2’側面進行覆蓋的光反射性的覆蓋構件;以及
第5工序,在所述第1側面與所述第2’側面之間、或所述第1’側面與所述第2側面之間、或所述第1’側面與所述第2’側面之間切斷所述基板以及所述覆蓋構件,
在所述第3工序中,切削工具與所述基板的上表面分離,
在所述第3工序中,切削所述第1側面及/或所述第2側面來修正其間隔,由此管理填充于所述第1側面與所述第2’側面之間、或所述第1’側面與所述第2側面之間、或所述第1’側面與所述第2’側面之間的所述覆蓋構件的壁厚。
2.根據權利要求1所述的發光裝置的制造方法,其中,
在所述第3工序中,使用厚度比所述第2工序完成時的所述第1側面與所述第2側面的間隔大的切削工具。
3.根據權利要求1所述的發光裝置的制造方法,其中,
所述第1透光性構件以及所述第2透光性構件分別包含母材與所述母材中含有的波長轉換物質,所述波長轉換物質吸收所述第1發光元件以及所述第2發光元件的一次光且發出波長與所述一次光的波長不同的二次光,
在所述第3工序之前,所述第1側面以及所述第2側面分別具有由于所述波長轉換物質的存在而形成的凸部,
在所述第3工序中,切削所述凸部。
4.根據權利要求3所述的發光裝置的制造方法,其中,
所述母材為硅酮樹脂或改性硅酮樹脂,
所述波長轉換物質包含第1熒光體,
所述第1熒光體為硅鋁氧氮系熒光體。
5.根據權利要求1所述的發光裝置的制造方法,其中,
所述第1透光性構件以及所述第2透光性構件分別包含母材與所述母材中含有的波長轉換物質,所述波長轉換物質吸收所述第1發光元件以及所述第2發光元件的一次光且發出波長與所述一次光的波長不同的二次光,
所述波長轉換物質包含第2熒光體,
所述第2熒光體為錳活化氟化物系熒光體,
在所述第3工序中,通過干式的切削裝置切削所述第1側面及/或所述第2側面。
6.根據權利要求1所述的發光裝置的制造方法,其中,
所述第1發光元件、所述第2發光元件、所述第1透光性構件、以及所述第2透光性構件的各自的俯視形狀為包含沿第1方向延伸的兩個長條側面、和沿與所述第1方向垂直的第2方向延伸且比所述長條側面短的兩個短條側面的形狀,
所述第1側面以及所述第2側面為所述長條側面。
7.根據權利要求1所述的發光裝置的制造方法,其中,
所述第1’側面與所述第2’側面的間隔為0.05mm以上且0.4mm以下。
8.根據權利要求1所述的發光裝置的制造方法,其中,
形成所述覆蓋構件的第4工序包括將所述第1透光性構件以及所述第2透光性構件完全埋入所述覆蓋構件內的工序、和通過研磨或噴砂使所述第1透光性構件的上表面以及所述第2透光性構件的上表面從所述覆蓋構件露出的工序。
9.根據權利要求1至8中的任一項所述的發光裝置的制造方法,其中,
制造出的一個所述發光裝置具備多個發光元件。
10.根據權利要求9所述的發光裝置的制造方法,其中,
所述發光元件的發光峰值波長為400nm以上且530nm以下。
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