[發明專利]一種用于等離子體光譜測量校正的內標物及引入方法

有效

• 申請號: 201710220124.4
• 申請日: 2017-04-06
• 公開（公告）號: CN107064280B
• 公開（公告）日: 2019-10-15
• 發明（設計）人: 段旭川
• 申請（專利權）人: 天津師范大學
• 主分類號: G01N27/62
• 分類號: G01N27/62
• 代理公司: 天津市杰盈專利代理有限公司 12207
• 代理人: 朱紅星

本發明公開了一種用于等離子體光譜測量校正的內標物及引入方法，該方法特別適合難有內標元素匹配的樣品測定。該內標物為二氧化碳，其作為內標物使用是按下面方法被引入到儀器：首先使待測溶液在線（或離線）脫除溶液本身含有的二氧化碳，然后在樣品進樣系統到等離子矩管火焰端處任一位置引入恒定濃度的二氧化碳氣流。通過待測元素和二氧化碳中的碳的發射強度來進行通常的內標法測定。本發明進一步公開了該方法用于難有內標元素匹配的樣品測定方面的應用。

技術領域

本發明屬于儀器分析測定技術領域，涉及一種儀器分析中的定量方法。特別是一種用于等離子體光譜測量校正的內標物及引入方法。

背景技術

在原子光譜儀器定量分析中，目前已有的定量方法包括外標法、內標法和標準加入法。其中外標法最簡單實用，使用制作好的外標標準曲線，對樣品一次測定即可獲得分析結果。但當測定中儀器某些條件發生變化、儀器的穩定性不好使分析信號結果漂移時，則容易造成外標校正曲線相關性不好，分析結果產生大的誤差，在這種情況下往往使用內標法。

內標法是以待分析物信號與內標物信號的比值做縱坐標，即使當分析條件有波動時，比值也會保持不變，因此內標法對改善分析條件變化引起的測定結果變化具有獨特的作用。

內標元素的選擇要求：⑴、樣品本身應不含有內標元素（指在未加內標狀態下，不可檢出）；⑵、內標元素不應給樣品帶來譜線干擾；⑶、對內標所產生的譜線干擾應較為容易地被矯正；⑷內標元素可從純材料制取。

在等離子體原子光譜（ICP-AES,ICP-MS）測定時通常都是用稀散元素或稀土元素做內標，并且是以溶液的形式同時加入到樣品溶液中和標準溶液中。這樣的內標法有如下不足：(1)勞動強度大，當測定的樣品數量比較多時，耗時很長；（2）要求選用的內標元素必須為高純的的稀土或稀散元素的單質材料。這無形中增加了分析測試的成本；（3）對復雜樣品分析，比如混合稀土樣品，稀土元素和稀散元素混合樣品（如某些發光材料）等樣品，難以尋找到合適的內標物。（4）當樣品中待測元素含量差別很大時，比如有的元素含量是10%，有的元素含量是0.05%，內標法獲得的分析準確度不一致。因此，要求事先精心確定內標元素加入的濃度和體積。

發明內容

針對目前常用的內標法存在的不足，本發明提出一種新的內標方法，該方法特別適合于等離子體光譜測量校正時的內標法。

本發明公開了一種用于等離子體光譜測量校正的內標物，其特征在于它在待測樣品溶液中的濃度為0.5-1000ppm。

本發明進一步公開了用于等離子體光譜測量校正內標物的引入方法，其特征在于：

首先將在線或離線的待測溶液脫除溶液本身含有的二氧化碳，然后在樣品進樣系統到等離子矩管火焰端處任一位置引入0.5-200ppm的二氧化碳氣流，通過測量待測元素和二氧化碳中的碳的發射強度來進行內標法測定。

本發明所述的樣品進樣系統到等離子矩管火焰端處任一位置引入二氧化碳氣流指的是：

（1）當在等離子矩管火焰端處引入二氧化碳時，可以利用等離子體在點燃后直接和周圍空氣中的微量二氧化碳接觸使碳電離發光，作為內標測量，此時不需要單獨的二氧化碳氣源。但此種方法只適合水平觀測的ICP—AES。

（2）當內標二氧化碳被引入是在用于等離子形成的供氣系統中引入時，此時優選加入0.5-100ppm二氧化碳氣流，最好是將二氧化碳氣體配氣于鋼瓶氣源中，或將單獨的二氧化碳氣源配氣于等離子矩管的冷卻氣、輔助氣或載氣之中。

（3）當內標二氧化碳是經過進樣系統中被引入時，它是將低濃度的碳酸鈉或碳酸氫鈉溶液連續與脫氣后的待測樣品溶液混合，使之生成二氧化碳；其中碳酸鈉或碳酸氫鈉溶液的濃度為5-2000ppm。