[發明專利]丁二炔相連的氟硼熒光染料低聚物及其制備方法和應用有效
| 申請號: | 201710219328.6 | 申請日: | 2017-04-06 |
| 公開(公告)號: | CN107033175B | 公開(公告)日: | 2019-05-10 |
| 發明(設計)人: | 郝二宏;張文興;焦莉娟 | 申請(專利權)人: | 安徽師范大學 |
| 主分類號: | C07F5/02 | 分類號: | C07F5/02;C07F7/08;C09B57/00;C09K11/06;G01N21/33;G01N21/64 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產權代理有限公司 11283 | 代理人: | 鄒飛艷;張苗 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 丁二炔 相連 熒光 染料 低聚物 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種丁二炔相連的氟硼熒光染料低聚物,其特征在于,所述氟硼熒光染料低聚物的結構如式(I)或(II)所示,
其中,式(I)和(II)中R為C1-C7的烷基,n為大于1的正整數。
2.根據權利要求1所述的氟硼熒光染料低聚物,其中,所述R為C7的烷基。
3.根據權利要求2所述的氟硼熒光染料低聚物,其中,所述R為正庚基。
4.根據權利要求3所述的氟硼熒光染料低聚物,其中,所述n為2-7的正整數。
5.根據權利要求4所述的氟硼熒光染料低聚物,其中,如(II)所示的所述氟硼熒光染料低聚物為如式(II-1)、式(II-2)或式(II-3)所示的化合物
6.一種如權利要求1-5任一項所述的如式(I)所示的丁二炔相連的氟硼熒光染料低聚物的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:
1)在溶劑的存在下,將如式(1a)所示的化合物與碘源按照1:1-1.5的摩爾比進行第一接觸反應,制得如式(2a)所示的化合物;
2)在溶劑、鈀催化劑和銅催化劑的存在下,將如式(2a)所示的化合物與三甲基硅基乙炔進行第二接觸反應,制得如式(3a)所示的化合物;
3)在溶劑的存在下,將如式(3a)所示的化合物與亞銅鹽進行第三接觸反應,制得如式(I)所示的丁二炔相連的氟硼熒光染料低聚物;
其中,所述R為C1-C7的烷基,X為鹵素,所述碘源為碘與碘酸的混合物。
7.一種如權利要求1-5任一項所述如式(II)所示的的丁二炔相連的氟硼熒光染料低聚物的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:
1)在溶劑的存在下,將如式(1a)所示的化合物與碘源按照1:2-2.5的摩爾比進行取代反應,制得如式(2b)所示的化合物;
2)在溶劑、鈀催化劑和銅催化劑的存在下,將如式(2b)所示的化合物與三甲基硅基乙炔進行偶聯反應,制得如式(3b)所示的化合物;
3)在溶劑的存在下,將如式(3b)所示的化合物在亞銅鹽存在條件下進行聚合反應,制得如式(II)所示的丁二炔相連的氟硼熒光染料低聚物;
其中,R為C1-C7的烷基,X為鹵素,n為大于1的正整數,所述碘源為碘與碘酸的混合物。
8.根據權利要求6或7所述的制備方法,其中,所述R為C7的烷基,所述鹵素為碘。
9.根據權利要求8所述的制備方法,其中,所述R為正庚基。
10.根據權利要求9所述的制備方法,其中,n為2-7的正整數。
11.根據權利要求10所述的制備方法,其中,n為2、3或4。
12.根據權利要求8所述的制備方法,其中,所述第一接觸反應和所述取代反應中,所述溶劑各自獨立為二氯甲烷、乙醇、三氯甲烷、甲醇或四氫呋喃中的至少一者;
所述第二接觸反應和所述偶聯反應中,所述溶劑各自獨立為四氫呋喃、甲苯或三氯甲烷中的至少一者;
所述第三接觸反應和所述聚合反應中,所述溶劑各自獨立為無水N,N-二甲基甲酰胺或二甲亞砜中的至少一者。
13.根據權利要求12所述的制備方法,其中,所述第一接觸反應中,如所述式(1a)所示的化合物與碘源的摩爾比為1:1。
14.根據權利要求13所述的制備方法,其中,所述取代反應中,如所述式(1a)所示的化合物與碘源的摩爾比為1:2。
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