[發明專利]具有自動清洗功能的蝕刻腔室及其清洗組件、清洗方法

有效

• 申請號: 201710209730.6
• 申請日: 2017-03-31
• 公開（公告）號: CN106971933B
• 公開（公告）日: 2018-10-19
• 發明（設計）人: 蔡小龍
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;B08B3/02
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種蝕刻腔室內的清洗組件，其特征在于，所述蝕刻腔室內設置有第一噴淋機構，用于噴淋蝕刻液，以對所述蝕刻腔室內的待蝕刻元件進行蝕刻，所述清洗組件包括第二噴淋機構，所述第二噴淋機構設置于所述第一噴淋機構的上方，所述第二噴淋機構包括噴淋管以及所述噴淋管上的多個呈螺旋狀分布于所述噴淋管表面的噴淋嘴，用于在所述第一噴淋機構停止噴淋蝕刻液時噴淋清洗液，以對所述第一噴淋機構及蝕刻腔室進行清洗。

2.根據權利要求1所述的清洗組件，其特征在于，所述噴淋管內部中空并用于通入清洗液，所述噴淋嘴用于噴淋清洗液。

3.根據權利要求1或2所述的清洗組件，其特征在于，所述第二噴淋機構還包括與所述噴淋管連接的電機，所述電機用于驅動所述噴淋管繞軸旋轉，從而帶動所述噴淋嘴旋轉。

4.根據權利要求1所述的清洗組件，其特征在于，所述噴淋嘴噴淋清洗液的形狀包括圓錐狀。

5.一種具有自動清洗功能的蝕刻腔室，其特征在于，所述蝕刻腔室包括上述權利要求1～4任一項所述的清洗組件。

6.一種蝕刻腔室的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括：

將第二噴淋機構設置于第一噴淋機構的上方，所述第二噴淋機構包括內部中空的噴淋管以及所述噴淋管上的多個呈螺旋狀分布于所述噴淋管表面的噴淋嘴，所述第一噴淋機構用于噴淋蝕刻液以對所述蝕刻腔室內的待蝕刻元件進行蝕刻；

在所述第一噴淋機構停止噴淋蝕刻液時，所述第二噴淋機構噴淋清洗液，對所述第一噴淋機構及蝕刻腔室進行清洗。

7.根據權利要求6所述的清洗方法，其特征在于，

所述第二噴淋機構噴淋清洗液，包括：

向所述噴淋管通入清洗液；

通過所述噴淋嘴噴淋清洗液。

8.根據權利要求6或7所述的清洗方法，其特征在于，所述第二噴淋機構還包括與所述噴淋管連接的電機，

所述第二噴淋機構噴淋清洗液，還包括：

所述電機驅動所述噴淋管繞軸旋轉，并帶動所述噴淋嘴旋轉。