[發明專利]浸沒式光刻機基底臺系統、浸沒式光刻機

在審

• 申請號: 201710208691.8
• 申請日: 2017-03-31
• 公開（公告）號: CN108663906A
• 公開（公告）日: 2018-10-16
• 發明（設計）人: 魏龍飛;叢國棟;方潔
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種浸沒式光刻機基底臺系統，位于浸沒系統下方，所述浸液系統維持浸沒液體，其特征在于，所述浸沒式光刻機基底臺系統包括兩個或兩個以上用于承載基底的分動臺，所述分動臺中的一個或多個的側面固定有伸縮橋裝置，當所述伸縮橋裝置伸展時，所述伸縮橋裝置將兩個所述分動臺的側邊皆接合，使所述浸沒液體從一個分動臺上轉移至另一個分動臺上。

2.如權利要求1所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，所述伸縮橋裝置伸展時，所述伸縮橋裝置的表面與所述分動臺的臺面位于同一個平面。

3.如權利要求2所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，所述伸縮橋裝置為伸縮板結構，所述伸縮橋裝置通過鉸鏈固定在所述分動臺的側面。

4.如權利要求3所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，每個所述伸縮橋裝置與其鉸接固定的分動臺的側邊之間設置有密封條。

5.如權利要求2所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，所述伸縮橋裝置由若干個伸縮板主體相互鉸接形成。

6.如權利要求2所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，所述伸縮橋裝置由兩個分伸縮橋裝置組成，兩個所述分伸縮橋裝置分別設置在兩個所述分動臺相對的側面。

7.如權利要求5所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，所述伸縮板主體間設置有密封條。

8.如權利要求3所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，每個所述分動臺上還設置有用于驅動所述伸縮橋裝置伸縮的驅動裝置。

9.如權利要求8所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，所述驅動裝置包括動力氣缸。

10.如權利要求8所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，所述驅動裝置、所述鉸鏈與所述伸縮橋裝置組成曲柄滑塊機構。

11.如權利要求2所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，所述伸縮橋裝置的寬度大于所述浸沒液體形成的浸沒液場的直徑。

12.如權利要求2所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，任一所述分動臺從下至上包括一粗動臺和跟隨所述粗動臺運動的微動臺，所述伸縮橋裝置設置在所述微動臺側面，所述伸縮橋裝置伸長至與另一個分動臺的微動臺的側邊接合時，所述伸縮橋裝置的表面與所述微動臺的臺面位于同一平面。

13.如權利要求12所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，所述微動臺與所述粗動臺之間為磁懸浮結構或者氣浮結構。

14.如權利要求12所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，所述粗動臺上設置有防撞模塊，用于防止與另一個分動臺的粗動臺相撞。

15.如權利要求12所述的浸沒式光刻機基底臺系統，其特征在于，所述微動臺的側面還固定有長條鏡，所述長條鏡所在的高度小于所述伸縮橋裝置所在的高度。

16.一種浸沒式光刻機，其特征在于，包括如權利要求1～15中任意一項所述的浸沒式光刻機基底臺系統。