[發(fā)明專利]浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)、浸沒(méi)式光刻機(jī)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710208691.8
• 申請(qǐng)日: 2017-03-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108663906A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏龍飛;叢國(guó)棟;方潔
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時(shí)云

1.一種浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，位于浸沒(méi)系統(tǒng)下方，所述浸液系統(tǒng)維持浸沒(méi)液體，其特征在于，所述浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)包括兩個(gè)或兩個(gè)以上用于承載基底的分動(dòng)臺(tái)，所述分動(dòng)臺(tái)中的一個(gè)或多個(gè)的側(cè)面固定有伸縮橋裝置，當(dāng)所述伸縮橋裝置伸展時(shí)，所述伸縮橋裝置將兩個(gè)所述分動(dòng)臺(tái)的側(cè)邊皆接合，使所述浸沒(méi)液體從一個(gè)分動(dòng)臺(tái)上轉(zhuǎn)移至另一個(gè)分動(dòng)臺(tái)上。

2.如權(quán)利要求1所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，所述伸縮橋裝置伸展時(shí)，所述伸縮橋裝置的表面與所述分動(dòng)臺(tái)的臺(tái)面位于同一個(gè)平面。

3.如權(quán)利要求2所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，所述伸縮橋裝置為伸縮板結(jié)構(gòu)，所述伸縮橋裝置通過(guò)鉸鏈固定在所述分動(dòng)臺(tái)的側(cè)面。

4.如權(quán)利要求3所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，每個(gè)所述伸縮橋裝置與其鉸接固定的分動(dòng)臺(tái)的側(cè)邊之間設(shè)置有密封條。

5.如權(quán)利要求2所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，所述伸縮橋裝置由若干個(gè)伸縮板主體相互鉸接形成。

6.如權(quán)利要求2所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，所述伸縮橋裝置由兩個(gè)分伸縮橋裝置組成，兩個(gè)所述分伸縮橋裝置分別設(shè)置在兩個(gè)所述分動(dòng)臺(tái)相對(duì)的側(cè)面。

7.如權(quán)利要求5所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，所述伸縮板主體間設(shè)置有密封條。

8.如權(quán)利要求3所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，每個(gè)所述分動(dòng)臺(tái)上還設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)所述伸縮橋裝置伸縮的驅(qū)動(dòng)裝置。

9.如權(quán)利要求8所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括動(dòng)力氣缸。

10.如權(quán)利要求8所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)裝置、所述鉸鏈與所述伸縮橋裝置組成曲柄滑塊機(jī)構(gòu)。

11.如權(quán)利要求2所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，所述伸縮橋裝置的寬度大于所述浸沒(méi)液體形成的浸沒(méi)液場(chǎng)的直徑。

12.如權(quán)利要求2所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，任一所述分動(dòng)臺(tái)從下至上包括一粗動(dòng)臺(tái)和跟隨所述粗動(dòng)臺(tái)運(yùn)動(dòng)的微動(dòng)臺(tái)，所述伸縮橋裝置設(shè)置在所述微動(dòng)臺(tái)側(cè)面，所述伸縮橋裝置伸長(zhǎng)至與另一個(gè)分動(dòng)臺(tái)的微動(dòng)臺(tái)的側(cè)邊接合時(shí)，所述伸縮橋裝置的表面與所述微動(dòng)臺(tái)的臺(tái)面位于同一平面。

13.如權(quán)利要求12所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，所述微動(dòng)臺(tái)與所述粗動(dòng)臺(tái)之間為磁懸浮結(jié)構(gòu)或者氣浮結(jié)構(gòu)。

14.如權(quán)利要求12所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，所述粗動(dòng)臺(tái)上設(shè)置有防撞模塊，用于防止與另一個(gè)分動(dòng)臺(tái)的粗動(dòng)臺(tái)相撞。

15.如權(quán)利要求12所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)，其特征在于，所述微動(dòng)臺(tái)的側(cè)面還固定有長(zhǎng)條鏡，所述長(zhǎng)條鏡所在的高度小于所述伸縮橋裝置所在的高度。

16.一種浸沒(méi)式光刻機(jī)，其特征在于，包括如權(quán)利要求1～15中任意一項(xiàng)所述的浸沒(méi)式光刻機(jī)基底臺(tái)系統(tǒng)。