[發明專利]照射裝置、光學裝置、壓印裝置、投影裝置和物品的制造方法

有效

• 申請號: 201710207996.7
• 申請日: 2017-03-31
• 公開（公告）號: CN107272347B
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發明（設計）人: 宮春隆文;筱田健一郎;松本隆宏;佐藤一洋
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 北京怡豐知識產權代理有限公司 11293
• 代理人: 遲軍

本發明提供照射裝置、光學裝置、壓印裝置、投影裝置和物品的制造方法。該照射裝置執行傾斜照射并且包括：第一光學元件，其由多個光學部件的陣列形成，各個光學部件被構造為產生點光源；以及第二光學元件，其被構造為接收來自所述第一光學元件的光并形成照射區域，所述第二光學元件在一個方向上的屈光力不同于所述第二光學元件在與所述一個方向垂直的方向上的屈光力，其中，所述第一光學元件和所述第二光學元件中的至少一個具有圍繞光學元件的光軸的旋轉角度，以對由所述傾斜照射而引起的所述照射區域的失真進行補償。

技術領域

本發明涉及照射裝置、光學裝置、壓印裝置、投影裝置和物品的制造方法。

背景技術

對于半導體器件、MEMS等的小型化的需求不斷增加。因此，除了傳統的光刻技術之外，通過使用模具對基板上的壓印材料進行成型并固化而在基板上形成圖案(結構)的微加工技術也受到了關注。這種技術被稱為壓印技術，其能夠以幾納米量級在基板上形成精細圖案。

在使模具與基板上的壓印材料接觸的步驟中，壓印裝置需要使預先形成在基板上的圖案區域(壓射區域)的形狀與模具的圖案區域的形狀相匹配。為了提高這種重疊精度，日本專利第5686779號公報提出了一種壓印裝置，其包括用于通過向模具施加力而使模具的圖案區域變形的機構和用于通過加熱基板使基板上的圖案區域變形的機構。例如，微鏡設備被并入這種使基板上的圖案區域變形的機構，以調節加熱基板的光的強度分布。

作為一種類型的MEMS的微鏡設備被用于廣泛的領域，包括顯示設備、投影儀裝置和曝光裝置。微鏡設備是通過二維布置矩形反射鏡而形成的。反射鏡的布置方向與各個反射鏡的驅動軸的方向不同。優選地從與各個鏡的驅動軸的方向垂直的方向來照射微鏡設備。因此，從與反射鏡的布置方向不同的方向(角度)來照射微鏡設備。由于各個反射鏡的驅動軸通常相對于反射鏡的布置方向傾斜45°，因此從相對于反射鏡的布置方向呈45°的方向來照射微鏡設備。

根據多個因素(例如各個鏡子的尺寸和分辨率以及光學系統的布置和成本)來選擇要用于光學系統的微鏡設備。通常，在使用微鏡設備的光學系統中，優選在驅動反射鏡的同時，從反射鏡被布置在垂直方向的陣列面反射光。為此，需要從與反射鏡的布置方向不同的方向傾斜地照射微鏡設備。在這種情況下，使用防光(shine-proof)光學系統來防止微鏡設備的陣列面上的照射形狀由于散焦而失真。

如上所述，當執行傾斜照射時，使用防光光學系統以預定照射形狀對照射面進行照射。然而，形成防光光學系統會導致裝置的成本和尺寸隨著光學系統中的透鏡數量的增加而增加。

發明內容

本發明例如提供了一種有利于傾斜照射的照射裝置。

根據本發明的第一方面，提供了一種執行傾斜照射的照射裝置，所述照射裝置包括：第一光學元件，其由多個光學部件的陣列形成，各個光學部件被構造為產生點光源；以及第二光學元件，其被構造為接收來自所述第一光學元件的光并形成照射區域，所述第二光學元件在一個方向上的屈光力不同于所述第二光學元件在與所述一個方向垂直的方向上的屈光力，其中，所述第一光學元件和所述第二光學元件中的至少一個具有圍繞光學元件的光軸的旋轉角度，以對由所述傾斜照射而引起的所述照射區域的失真進行補償。

根據本發明的第二方面，提供了一種光學裝置，其包括：反射鏡陣列，其由多個反射鏡的陣列形成，各個反射鏡具有驅動軸，所述多個反射鏡的布置方向不同于所述驅動軸的方向；以及上述被構造為照射所述反射鏡陣列的照射裝置。

根據本發明的第三方面，提供了一種壓印裝置，其對基板上的壓印材料進行成型，以在所述基板上形成圖案，所述壓印裝置包括：加熱設備，其被構造為通過照射所述基板來加熱所述基板，以使所述基板變形，其中，所述加熱設備包括上述照射裝置，并且通過經由所述照射裝置照射所述基板來加熱所述基板。