[發(fā)明專利]照射裝置、光學(xué)裝置、壓印裝置、投影裝置和物品的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710207996.7
• 申請日: 2017-03-31
• 公開（公告）號: CN107272347B
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 宮春隆文;筱田健一郎;松本隆宏;佐藤一洋
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 北京怡豐知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11293
• 代理人: 遲軍

1.一種執(zhí)行傾斜照射的照射裝置，所述照射裝置包括：

第一光學(xué)元件，其由多個光學(xué)部件的陣列形成，各個光學(xué)部件被構(gòu)造為產(chǎn)生點(diǎn)光源；以及

第二光學(xué)元件，其被構(gòu)造為接收來自所述第一光學(xué)元件的光并形成照射區(qū)域，所述第二光學(xué)元件在與光軸垂直的一個方向上的屈光力不同于所述第二光學(xué)元件在與光軸垂直并且與所述一個方向垂直的方向上的屈光力，

其中，所述第一光學(xué)元件和所述第二光學(xué)元件中的至少一個具有圍繞光學(xué)元件的光軸的旋轉(zhuǎn)角度，以對由所述傾斜照射而引起的所述照射區(qū)域的失真進(jìn)行補(bǔ)償。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，通過所述補(bǔ)償使所述照射區(qū)域呈矩形。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，所述第一光學(xué)元件的旋轉(zhuǎn)角度不同于所述第二光學(xué)元件的旋轉(zhuǎn)角度。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的照射裝置，其中，與所述第一光學(xué)元件的旋轉(zhuǎn)角度等于所述第二光學(xué)元件的旋轉(zhuǎn)角度的情況相比，所述照射區(qū)域的形狀更接近矩形。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的照射裝置，其中，所述光軸具有相對于所述矩形的一條邊的45°的方位角、以及相對于待照射面的法線的24°的仰角。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，待照射面是相對于所述第一光學(xué)元件的出射面的傅里葉變換面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，所述第一光學(xué)元件的旋轉(zhuǎn)角度為2.8°，并且所述第二光學(xué)元件的旋轉(zhuǎn)角度為77.2°。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，所述陣列包括微透鏡陣列。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射裝置，其中，所述第二光學(xué)元件包括柱面透鏡、變形透鏡和復(fù)曲面透鏡中的至少一個。

10.一種光學(xué)裝置，其包括：

反射鏡陣列，其由多個反射鏡的陣列形成，各個反射鏡具有驅(qū)動軸，所述多個反射鏡的布置方向不同于所述驅(qū)動軸的方向；以及

權(quán)利要求1中限定的被構(gòu)造為照射所述反射鏡陣列的照射裝置。

11.一種壓印裝置，其對基板上的壓印材料進(jìn)行成型，以在所述基板上形成圖案，所述壓印裝置包括：

加熱設(shè)備，其被構(gòu)造為通過照射所述基板來加熱所述基板，以使所述基板變形，

其中，所述加熱設(shè)備包括權(quán)利要求1中限定的照射裝置，并且通過經(jīng)由所述照射裝置照射所述基板來加熱所述基板。

12.一種壓印裝置，其對基板上的壓印材料進(jìn)行成型，以在所述基板上形成圖案，所述壓印裝置包括：

加熱設(shè)備，其被構(gòu)造為通過照射所述基板來加熱所述基板，以使所述基板變形，

其中，所述加熱設(shè)備包括光學(xué)裝置，并且通過經(jīng)由所述光學(xué)裝置照射所述基板來加熱所述基板，

其中，所述光學(xué)裝置包括：反射鏡陣列，其由多個反射鏡的陣列形成，各個反射鏡具有驅(qū)動軸，所述多個反射鏡的布置方向不同于所述驅(qū)動軸的方向；以及權(quán)利要求1中限定的被構(gòu)造為照射所述反射鏡陣列的照射裝置。

13.一種投影裝置，其包括：

投影設(shè)備，其被構(gòu)造為投影圖像，

其中，所述投影設(shè)備包括權(quán)利要求1中限定的照射裝置，并且經(jīng)由所述照射裝置投影所述圖像。

14.一種制造物品的方法，所述方法包括以下步驟：

使用壓印裝置在基板上形成圖案；以及

對形成有圖案的基板進(jìn)行處理以制造所述物品，

其中，所述壓印裝置對所述基板上的壓印材料進(jìn)行成型，以在所述基板上形成圖案，并且包括：

加熱設(shè)備，其被構(gòu)造為通過照射所述基板來加熱所述基板，以使所述基板變形，

其中，所述加熱設(shè)備包括照射裝置，并且通過經(jīng)由所述照射裝置照射所述基板來加熱所述基板，

其中，所述照射裝置執(zhí)行傾斜照射，并且包括：

第一光學(xué)元件，其由多個光學(xué)部件的陣列形成，各個光學(xué)部件被構(gòu)造為產(chǎn)生點(diǎn)光源；以及

第二光學(xué)元件，其被構(gòu)造為接收來自所述第一光學(xué)元件的光并形成照射區(qū)域，所述第二光學(xué)元件在與光軸垂直的一個方向上的屈光力不同于所述第二光學(xué)元件在與光軸垂直并且與所述一個方向垂直的方向上的屈光力，

其中，所述第一光學(xué)元件和所述第二光學(xué)元件中的至少一個具有圍繞光學(xué)元件的光軸的旋轉(zhuǎn)角度，以對由傾斜照射而引起的所述照射區(qū)域的失真進(jìn)行補(bǔ)償。